技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種基板濕式處理裝置及包括其的單晶圓蝕刻清洗裝置，其包括一旋轉(zhuǎn)夾頭、一傳動(dòng)主軸、一背洗座及至少一密封件。所述旋轉(zhuǎn)夾頭用于固持并旋轉(zhuǎn)一基板。所述傳動(dòng)主軸連設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)夾頭，用于驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)夾頭。所述背洗座設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)夾頭及所述傳動(dòng)主軸周圍，所述背洗座設(shè)有一液體噴嘴，用于提供液體以清洗所述基板的底面，所述背洗座包括多個(gè)組件，其中兩相鄰組件之間具有一間隙。所述至少一密封件設(shè)置于每一間隙中，用于隔絕液體及氣體的泄漏。

技術(shù)研發(fā)人員：吳宗恩;王良元
受保護(hù)的技術(shù)使用者：弘塑科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.01.26
技術(shù)公布日：2017.08.01