技術(shù)總結(jié)
在基板處理裝置(1)中，在腔室(21)內(nèi)，從遮擋板(51)的上方向蓋內(nèi)部空間(231)供給氣體，從而使蓋內(nèi)部空間(231)的氣壓大于本體內(nèi)部空間(221)的氣壓，將蓋內(nèi)部空間(231)的氣體向本體內(nèi)部空間(221)送出。另外，從蓋內(nèi)部空間(231)流入的氣體，被設(shè)置于本體內(nèi)部空間(221)的基板(9)的下方的本體排出口(226a)吸引而向腔室(21)的外部排出。由此，在腔室(21)內(nèi)形成大致圓筒狀的氣體的氣流。在該大致圓筒狀的氣流的內(nèi)部，向基板(9)的上表面(91)供給處理液，因此能夠抑制處理液的霧或煙塵等，經(jīng)過大致圓筒狀的氣流來從遮擋板(51)和蓋底面部(234)之間的間隙向蓋內(nèi)部空間(231)進(jìn)入的情況。

技術(shù)研發(fā)人員：吉田武司
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會社斯庫林集團
文檔號碼：201580017008
技術(shù)研發(fā)日：2015.03.13
技術(shù)公布日：2016.11.16