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高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置制造方法

文檔序號(hào):7058085閱讀:290來(lái)源:國(guó)知局
高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了電子元器件制造領(lǐng)域的高壓二極管硅塊臺(tái)面腐蝕化學(xué)處理裝置,一種高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置。包括混合酸槽、第一水洗槽、硝酸槽、第二水洗槽、氫氟酸槽、第三水洗槽和機(jī)械手?jǐn)[臂,各化學(xué)處理槽體順序排列,機(jī)械手?jǐn)[臂位于槽體上方,機(jī)械手?jǐn)[臂安裝在槽體上方的滑軌上,其特征在于:機(jī)械手?jǐn)[臂上設(shè)有氣動(dòng)升降機(jī)構(gòu),機(jī)械手?jǐn)[臂在氣動(dòng)裝置控制下上下運(yùn)動(dòng),裝有硅塊模的托架懸掛在機(jī)械手?jǐn)[臂上,裝有硅塊模的托架依次浸入各化學(xué)處理槽體。本發(fā)明具有提高效率、節(jié)能減排和降低設(shè)備故障率等優(yōu)點(diǎn)。
【專利說(shuō)明】高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子元器件制造領(lǐng)域的高壓二極管硅塊臺(tái)面腐蝕化學(xué)處理裝置,一種高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在電子元器件中許多電子元器件是由半導(dǎo)體材料制成,半導(dǎo)體或芯片是由硅生產(chǎn)出來(lái)的。硅疊經(jīng)不銹鋼絲輔以金剛砂切削液切斷為硅塊,即高壓二極管管芯。硅塊表面有切斷產(chǎn)生的損傷層、氧化層以及其它雜質(zhì),在硅塊、電極引線燒結(jié)之前必須對(duì)臺(tái)面進(jìn)行清洗處理,處理后的臺(tái)面形狀平滑均一、使PN結(jié)充分展開(kāi),將會(huì)保證并提高器件的電性能。否則器件的電性能會(huì)產(chǎn)生劣化,產(chǎn)品的電性測(cè)試成品率將大大降低。傳統(tǒng)的化學(xué)腐蝕裝置工作效率低下,成為制約生產(chǎn)發(fā)展的瓶頸,且廢液排放污染環(huán)境。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有高壓硅堆管芯化學(xué)處理工藝設(shè)備的缺陷,提供一種效率高、節(jié)能減排、和降低設(shè)備故障率的高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置。
[0004]本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,包括混合酸槽、第一水洗槽、硝酸槽、第二水洗槽、氫氟酸槽、第三水洗槽和機(jī)械手?jǐn)[臂,各化學(xué)處理槽體順序排列,機(jī)械手?jǐn)[臂位于槽體上方,機(jī)械手?jǐn)[臂安裝在槽體上方的滑軌上,其特征在于:機(jī)械手?jǐn)[臂上設(shè)有氣動(dòng)升降機(jī)構(gòu),機(jī)械手?jǐn)[臂在氣動(dòng)裝置控制下上下運(yùn)動(dòng),裝有硅塊模的托架懸掛在機(jī)械手?jǐn)[臂上,裝有硅塊模的托架依次浸入各化學(xué)處理槽體;對(duì)上述技術(shù)方案做進(jìn)一步改進(jìn),所述的混合酸槽為2組同時(shí)工作,改用兩組混酸槽同時(shí)工作,使得后級(jí)各純水槽充分使用,無(wú)空流情況;對(duì)上述技術(shù)方案做進(jìn)一步改進(jìn),所述的混合酸槽安裝有混酸回收系統(tǒng),廢液零排放;對(duì)上述技術(shù)方案做進(jìn)一步改進(jìn),所述硅塊模為1000腔,各化學(xué)處理槽體體積與裝有三只硅塊模的托架相兼容,提高生產(chǎn)效率;對(duì)上述技術(shù)方案做進(jìn)一步改進(jìn),所述機(jī)械手?jǐn)[臂的搖擺頻率和浸入時(shí)間可調(diào)節(jié),不同的化學(xué)處理槽體可根據(jù)工藝需要設(shè)置不同的搖擺頻率和浸入時(shí)間。
[0005]本發(fā)明具有以下有益效果:
1.提聞效率;
2.節(jié)能減排;
3.降低設(shè)備故障率。
[0006]【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】:
圖1為高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置示意圖;
圖2為高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置電氣原理圖。
[0007]圖中:化學(xué)處理槽體1、機(jī)械手?jǐn)[臂2和滑軌3。

【具體實(shí)施方式】
[0008]如圖所示為高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置示意圖,包括混合酸槽、第一水洗槽、硝酸槽、第二水洗槽、氫氟酸槽、第三水洗槽和機(jī)械手?jǐn)[臂,各化學(xué)處理槽體順序排列,機(jī)械手?jǐn)[臂位于槽體上方,機(jī)械手?jǐn)[臂安裝在槽體上方的滑軌上。為提高效率,加大各工位處理槽的容積,將硅塊模由400腔改成1000腔,混酸槽由一組增加為兩組,兩組混酸槽同時(shí)工作,使得后級(jí)各純水槽充分使用,無(wú)空流情況?;焖岵郯惭b由混酸回收系統(tǒng),無(wú)廢液排放。采用新型的單元控制電路及防腐元器件,減少設(shè)備的故障率。
[0009]通過(guò)上述改進(jìn)是整套高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置的效率提高2.5倍、節(jié)水廠50%、廢液零排放、故障率低、減輕勞動(dòng)強(qiáng)度。
【權(quán)利要求】
1.一種高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,包括混合酸槽、第一水洗槽、硝酸槽、第二水洗槽、氫氟酸槽、第三水洗槽和機(jī)械手?jǐn)[臂,各化學(xué)處理槽體順序排列,機(jī)械手?jǐn)[臂位于槽體上方,機(jī)械手?jǐn)[臂安裝在槽體上方的滑軌上,其特征在于:機(jī)械手?jǐn)[臂上設(shè)有氣動(dòng)升降機(jī)構(gòu),機(jī)械手?jǐn)[臂在氣動(dòng)裝置控制下上下運(yùn)動(dòng),裝有硅塊模的托架懸掛在機(jī)械手?jǐn)[臂上,裝有硅塊模的托架依次浸入各化學(xué)處理槽體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,其特征在于:所述的混合酸槽為2組同時(shí)工作。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,其特征在于:所述的混合酸槽安裝有混酸回收系統(tǒng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,其特征在于:所述硅塊模為1000腔,各化學(xué)處理槽體體積與裝有三只硅塊模的托架相兼容。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓硅堆管芯化學(xué)處理裝置,其特征在于:所述機(jī)械手?jǐn)[臂的搖擺頻率和浸入時(shí)間可調(diào)節(jié)。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK104347456SQ201410467755
【公開(kāi)日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年9月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月15日
【發(fā)明者】倪紹榮 申請(qǐng)人:南通皋鑫電子股份有限公司
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