一種基板處理裝置及基板處理方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種基板處理裝置。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的基板處理裝置，可包括：第一室，其具有以水平狀態(tài)輸送基板的第一輸送單元及向所述基板供給第一液體的第一噴嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平狀態(tài)和第一傾斜狀態(tài)間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并輸送所述基板的第二輸送單元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能夠在所述第一傾斜狀態(tài)和第二傾斜狀態(tài)之間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并輸送所述基板的第三輸送單元。
【專利說(shuō)明】一種基板處理裝置及基板處理方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種處理基板的基板處理裝置及使用基板處理裝置的基板處理方法。

【背景技術(shù)】
[0002]本發(fā)明涉及一種處理基板的裝置，尤其涉及一種用于晶片或平板顯示元件制造的對(duì)基板等進(jìn)行清洗的裝置及方法。
[0003]近來(lái)，信息處理儀器高速發(fā)展，即具有多種形態(tài)的功能及更快速的信息處理速度。這種信息處理裝置具有顯示被操作的信息的顯示面板(displaypanel)。到目前為止，顯示面板主要采用陰極射線管(cathode ray tube)顯示器，但最近隨著技術(shù)的高速發(fā)展，例如具有輕便、所占空間小等優(yōu)點(diǎn)的液晶顯示器(LCD)的平板顯示面板的使用急速增加。
[0004]制造平板顯示面板需要多種工藝。這些工藝中的清洗工藝作為清除附著在基板上的例如顆粒等污染物的工藝，為了使薄膜晶體管等元件的損失降至最小化并提高收率而執(zhí)行。此時(shí)，在清洗室內(nèi)，在基板向一方向輸送的過(guò)程中對(duì)其施以工藝處理，而為了去除基板上殘留的例如顯影液的化學(xué)制品或有助于純水去除，基板以傾斜狀態(tài)進(jìn)行輸送。但是將殘留有顯影液的以水平狀態(tài)輸送的基板迅速轉(zhuǎn)變?yōu)閮A斜狀態(tài)時(shí)，基板上會(huì)出現(xiàn)斑潰，發(fā)生液斑現(xiàn)象。


【發(fā)明內(nèi)容】

_5] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0006]本發(fā)明一目的在于提供一種能夠提高基板顯影及清洗效率的基板處理方法。
[0007]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題并不局限于上述技術(shù)問(wèn)題中，對(duì)沒(méi)有言及的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的具有通常知識(shí)的技術(shù)人員可以通過(guò)本說(shuō)明書(shū)及附圖清楚地理解。
[0008]技術(shù)方案
[0009]另外本發(fā)明提供一種基板處理方法。本發(fā)明一實(shí)施例的基板處理裝置，可包括:第一室，其具有以水平狀態(tài)輸送基板的第一輸送單元及向所述基板供給第一液體的第一噴嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平狀態(tài)和第一傾斜狀態(tài)間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并輸送所述基板的第二輸送單元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能夠在所述第一傾斜狀態(tài)和第二傾斜狀態(tài)之間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并輸送所述基板的第三輸送單元。
[0010]所述第一輸送單元包括:沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；及框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸。其中，所述框架可以為上端水平設(shè)置的框架。
[0011]所述第二輸送單元包括:沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；及框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸。其中，所述框架包括:第一傾斜框架，其上端以所述第一角度傾斜配置；及第一傾斜變換框架，其配置于所述水平框架和所述第一傾斜框架之間，能夠使所述輸送框架的上端從所述水平狀態(tài)傾斜變換為所述第一角度。
[0012]所述第三輸送單元包括，沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；及框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸。其中，所述框架包括:第二傾斜框架，其上端以所述第二角度傾斜配置；及第二傾斜變換框架，其配置于所述第一傾斜框架和所述第二傾斜框架之間，能夠使所述輸送框架的上端從所述第一角度傾斜變換為所述第二角度。
[0013]所述第三室還包括向所述基板上供給第二液體的第三噴嘴。
[0014]所述基板處理裝置還包括第四室。所述第四室包括:第四輸送單元，其位于所述第二室和所述第三室之間，以所述第一傾斜狀態(tài)搬送所述基板；及第三噴嘴，其向所述基板上供給所述第二液體。其中，所述第四輸送單元包括:沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸 '及框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸。其中，所述框架可以為以所述第一角度傾斜設(shè)置的第三傾斜框架。
[0015]所述第一角度可以為比所述第二角度小的角度。
[0016]所述第一角度可以為約0.05°至約5°之間的角度。
[0017]所述第二角度可以為約5°至約10°之間的角度。
[0018]所述第一液體為化學(xué)制品，所述第二液體可以為清洗液。
[0019]所述化學(xué)制品可為顯影液。
[0020]另外，本發(fā)明提供一種基板處理方法。
[0021]本發(fā)明一實(shí)施例的基板處理方法包括:第一處理步驟，向水平狀態(tài)的基板供給第一液體，對(duì)基板進(jìn)行處理；第二處理步驟，將供有所述第一液體的所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第一角度，并輸送所述基板；以及第三處理步驟，在所述第二處理步驟之后向所述基板供給第二液體，將所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第二角度，并輸送所述基板的同時(shí)，對(duì)所述基板進(jìn)行處理。
[0022]在所述第二處理步驟及所述第三處理步驟之間還可包括，向相對(duì)于水平面以所述第一角度被輸送的所述基板上供給所述第二液體的步驟。
[0023]所述第一角度可以比所述第二角度小。
[0024]所述第一角度可以為約0.05°至約5°之間的角度。
[0025]所述第二角度可以為約5°至約10°之間的角度。
[0026]所述第一液體為化學(xué)制品，所述第二液體可以為清洗液。
[0027]所述化學(xué)制品可為顯影液。
[0028]有益.效果
[0029]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，能夠提供一種提高顯影及清洗效率的基板處理裝置。
[0030]本發(fā)明的效果并不局限于上述效果，本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的具有通常知識(shí)的技術(shù)人員能夠通過(guò)說(shuō)明書(shū)及附圖清楚地理解沒(méi)有言及的效果。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0031]圖1為表示本發(fā)明一實(shí)施例的基板處理裝置的圖。
[0032]圖2為表示圖1的第一輸送單元的圖。
[0033]圖3為表示圖1的第一傾斜變換框架的圖。
[0034]圖4至圖8為按順序表示用圖1的基板處理裝置對(duì)基板進(jìn)行處理過(guò)程的圖。
[0035]圖9為表示根據(jù)其它實(shí)施例的基板處理裝置的圖。
[0036]圖10至圖15為按順序表示用圖9的基板處理裝置對(duì)基板進(jìn)行處理過(guò)程的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0037]本說(shuō)明書(shū)中所記載的實(shí)施例是為了向本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的具有通常知識(shí)的技術(shù)人員詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)思想而提供，因此本發(fā)明不局限于本說(shuō)明書(shū)中所記載的實(shí)施例，本發(fā)明范圍可解釋為包括不脫離本發(fā)明思想的修改例或變形例。另外，本說(shuō)明書(shū)中所使用的術(shù)語(yǔ)和附圖是為了便于對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明，因此本發(fā)明并不局限于本說(shuō)明書(shū)中所使用的術(shù)語(yǔ)和附圖。另外，在說(shuō)明本發(fā)明的過(guò)程中，當(dāng)判斷對(duì)相關(guān)公知結(jié)構(gòu)或功能的具體說(shuō)明會(huì)使本發(fā)明的宗旨模糊時(shí)，將省略對(duì)其的詳細(xì)說(shuō)明。
[0038]在本實(shí)施例中，例舉了用于平板顯示面板制造的基板S對(duì)基板S進(jìn)行說(shuō)明。與之不同，基板S也可為用于半導(dǎo)體芯片制造的晶片。另外在本實(shí)施例中，還對(duì)基板S的顯影及清洗處理工藝進(jìn)行說(shuō)明。但本發(fā)明可應(yīng)用在將光刻膠供給到輸送的基板S上并進(jìn)行回收、對(duì)基板S進(jìn)行清洗處理的工藝的多種結(jié)構(gòu)及多種工藝的裝置中。
[0039]圖1為表示本發(fā)明一實(shí)施例的基板處理裝置的截面圖。參考圖1，基板處理裝置10實(shí)施對(duì)基板進(jìn)行顯影處理的工藝?；逄幚硌b置10具有第一室100、第二室200及第三室300。在此，將第一室100、第二室200及第三室300的排列方向稱為第一方向12。另外，從上部俯視時(shí)與第一方向12垂直的方向稱為第二方向14,將與第一方向12和第二方向14垂直的方向稱為第三方向16。
[0040]第一室100具有外殼110、第一噴嘴115及第一輸送單元120。第一室100處理顯影工藝。外殼110在其內(nèi)部提供實(shí)施基板S處理工藝的空間。在外殼110的一端提供將基板S搬入的入口 102、202、302，在另一端提供將基板S搬出的出口 104、204、304。第一室100的出口 104與第二室200的入口 202相向配置。第一噴嘴115向基板S上供給第一液體。第一液體可為化學(xué)制品。作為一例第一液體可為顯影液。第一噴嘴115為棒狀，其長(zhǎng)度方向朝向第二方向14。第一噴嘴115其長(zhǎng)度與基板S的寬度相同或比其長(zhǎng)。第一噴嘴115沿其長(zhǎng)度方向在底面形成有多個(gè)小孔。
[0041]圖2為表示圖1的第一輸送單元120的圖。第一輸送單元120配置在第一室100內(nèi)。第一輸送單兀120將基板S沿第一方向12進(jìn)行搬送。第一輸送單兀120具有輸送軸130、傳送輥132、導(dǎo)輥134及框架140。
[0042]輸送軸130有多個(gè)。每個(gè)輸送軸130設(shè)置為其長(zhǎng)度方向朝向與第一方向12垂直的第二方向14。輸送軸130沿第一方向12并列配置。每個(gè)輸送軸130相互之間具有間隔。輸送軸130其高度與入口 102、202、302及出口 104、204、304相對(duì)應(yīng)。
[0043]傳送輥132安裝在每個(gè)輸送軸130上，支撐基板S的底面。在每個(gè)輸送軸130上有多個(gè)傳送棍132。傳送棍132在其中心軸上形成小孔,輸送軸130被強(qiáng)行塞進(jìn)小孔中。傳送棍132與輸送軸130 —同旋轉(zhuǎn)。
[0044]導(dǎo)輥134對(duì)基板S進(jìn)行導(dǎo)向，使基板S沿第一方向12搬送。導(dǎo)輥134支撐搬送的基板S的側(cè)部。導(dǎo)輥134配置在輸送軸130之間。配置在第一室100內(nèi)的導(dǎo)輥134支撐基板S的兩側(cè)。
[0045]框架140支撐輸送軸130，使其能夠旋轉(zhuǎn)。框架140分別配置在輸送軸130的兩偵牝支撐輸送軸130的兩端。第一輸送單元120的框架140為水平框架142。水平框架142其上端水平。
[0046]第二室200沿第一方向12配置在第一室100的后方。第二室200具有外殼210及第二輸送單元220。第二室200進(jìn)行顯影工藝處理。作為一例，在第一室100中供有顯影液的基板S向第二室200內(nèi)搬送的同時(shí)，進(jìn)行顯影工藝。外殼210在其內(nèi)部提供實(shí)施基板S處理工藝的空間。
[0047]第二輸送單元220配置在第二室200內(nèi)。第二輸送單元220將基板S向第一方向12搬送。第二輸送單元220具有輸送軸230、傳送輥232、導(dǎo)輥234及框架240。第二輸送單元220的輸送軸230，傳送輥232及導(dǎo)輥234與上述第一輸送單元120的輸送軸130、傳送輥132及導(dǎo)輥134具有大致相同或類似的形狀及功能。不過(guò)，第二輸送單元220的框架240具有第一傾斜框架244及第一傾斜變換框架246。
[0048]第一傾斜框架244的一端244b固定設(shè)置在比由水平框架142支撐的輸送軸130高的位置。第一傾斜框架244可配置為其一端244b相對(duì)于水平面以第一角度傾斜。作為一例，第一角度可以為約0.05°至約5°之間的角度。因此，殘留在基板S上的顯影液沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于顯影液通過(guò)較小的傾斜角緩慢向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的顯影液可能不會(huì)變干。
[0049]圖3為表示第一傾斜變換框架246的立體圖。第一傾斜變換框架246位于水平框架242和第一傾斜框架244之間。作為一例，可配置在第二室200的上段。第一傾斜變換框架246調(diào)整輸送軸的傾斜角。參考圖3，第一傾斜變換框架246支撐輸送軸230的兩端，使輸送軸230能夠傾斜。第一傾斜變換框架246變換輸送軸230的角度，使基板S從支撐在水平框架142上的輸送軸130向支撐在第一傾斜框架244上的輸送軸230搬送。第一傾斜變換框架246的一端246a固定設(shè)置為與水平框架142具有相同的高度。第一傾斜變換框架246的另一端246b支撐輸送軸230的上端。第一傾斜變換框架的另一端246b通過(guò)驅(qū)動(dòng)部件(未圖示)沿上下方向在水平位置及傾斜位置間進(jìn)行移動(dòng)。水平位置為第一傾斜變換框架246和水平框架142具有相同高度的位置。傾斜位置為第一傾斜變換框架246的另一端246b同水平框架142相比具有更高高度的位置。作為一例，傾斜位置為第一傾斜變換框架246相對(duì)于水平面具有第一角度的位置。
[0050]第三室300沿第一方向12配置在第二室200的后方。第三室300具有外殼310、第二噴嘴315及第三輸送單元320。第三室300進(jìn)行清洗工藝處理。在第三室300中實(shí)施對(duì)殘留在基板S上的處理液進(jìn)行清洗的工藝。外殼310在其內(nèi)部提供實(shí)施基板S處理工藝的空間。第二噴嘴315向基板S上供給第二液體。第二液體可以為清洗液。作為一例，第二液體可為純水。第二噴嘴315其長(zhǎng)度方向可朝向第二方向14。第二噴嘴315其長(zhǎng)度可與基板S的寬度相同或比其長(zhǎng)。第二噴嘴315可為噴霧器類型。
[0051 ] 第三輸送單元320配置在第三室300內(nèi)。第三輸送單元320將基板S向第一方向12搬送。第三輸送單元320具有輸送軸330、傳送輥332、導(dǎo)輥334及框架340。第三輸送單元320的輸送軸330、傳送輥332及導(dǎo)輥334與上述第一輸送單元120的輸送軸130、傳送輥132及導(dǎo)輥134具有大致相同或類似的形狀及功能。不過(guò)，第三輸送單元320的框架340具有第二傾斜框架344及第二傾斜變換框架346。
[0052]第二傾斜框架344的一端344b固定設(shè)置在比支撐在水平框架142上的輸送軸130更高的位置。第二傾斜框架344可配置成其一端344b相對(duì)于水平面以第二角度傾斜。第二角度為比第一角度大的角度。作為一例，第二角度可以為約5°至約10°之間的角度。殘留在基板S上的純水沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于純水通過(guò)較大傾斜角快速向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的純水可能不會(huì)變干。
[0053]第二傾斜變換框架346位于第一傾斜框架244和第二傾斜框架344之間。作為一例，可配置在第三室300的上段。第二傾斜變換框架346調(diào)整輸送軸的傾斜角。第二傾斜變換框架346支撐輸送軸330的兩端，使輸送軸330能夠傾斜。第二傾斜變換框架346變換輸送軸330的角度，使基板S從支撐在第一傾斜框架244上的輸送軸230向支撐在第二傾斜框架344上的輸送軸330搬送。第二傾斜變換框架346的一端346a固定設(shè)置為與水平框架142具有相同高度。第二傾斜變換框架346的另一端346b支撐輸送軸330的上端。第二傾斜變換框架的另一端346b通過(guò)驅(qū)動(dòng)部件(未圖示)沿上下方向在水平位置及傾斜位置之間進(jìn)行移動(dòng)。水平位置為第二傾斜變換框架346和水平框架142具有相同高度的位置。傾斜位置為第二傾斜變換框架346的另一端346b同水平框架142相比具有更高高度的位置。作為一例，傾斜位置為相對(duì)第二傾斜變換框架346相對(duì)于水平面具有第二角度的位置。
[0054]下面，參考圖4至圖8對(duì)基板處理裝置10處理基板的過(guò)程進(jìn)行說(shuō)明。圖4至圖8為按順序表示基板處理裝置10處理基板的過(guò)程的圖。首先，搬送至第一室100內(nèi)的基板S，通過(guò)第一輸送單兀120以水平狀態(tài)沿第一方向12被搬送。此時(shí)，向基板S上供給第一液體。第一液體為化學(xué)制品。作為一例，第一液體可為顯影液。搬送到第二室200內(nèi)的基板S通過(guò)第一傾斜變換框架246以第一角度進(jìn)行傾斜。作為一例，第一角度可以為約0.05°至約5°之間的角度?；錝第通過(guò)一傾斜變換框架246變換為第一角度后，通過(guò)第一傾斜框架244被搬送。殘留在基板S上的化學(xué)制品沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于化學(xué)制品通過(guò)較小的傾斜角緩慢向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的化學(xué)制品可能不會(huì)變干。之后，搬入到第三室300內(nèi)的基板S通過(guò)第二傾斜變換框架346以第二角度進(jìn)行傾斜。第二角度為比第一角度大的角度。作為一例，第二角度可以為約5°至約10°之間的角度。在第三室300內(nèi)向基板S上供給第二液體。第二液體為清洗液。作為一例，第二液體可為純水?；錝通過(guò)第二傾斜變換框架346變換為第二角度后，通過(guò)第二傾斜框架344被搬送。殘留在基板S上的純水沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于純水通過(guò)較大的傾斜角快速向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的純水可能不會(huì)變干。
[0055]圖9為表示其它實(shí)施例的基板處理裝置20的截面圖?；逄幚硌b置20具有第一室400、第二室500、第三室700及第四室600?；逄幚硌b置20的第一室400，第二室500及第三室700與圖1的基板處理裝置10的第一室100、第二室200及第三室300具有大致相同或類似的形狀及功能。不過(guò)，基板處理裝置20進(jìn)一步具有第四室600。第四室600位于第二室500和第三室700之間。
[0056]第四室600具有外殼610、第三噴嘴615及第四輸送單元620。第四室600處理清洗工藝。在第四室600中清洗殘留在基板S上的顯影液。外殼610在其內(nèi)部提供實(shí)施基板S處理工藝的空間。第三噴嘴615向基板S上供給第二液體。第二液體可以為清洗液。作為一例，第二液體可以為純水。第三噴嘴615其長(zhǎng)度方向可朝向第二方向14。第三噴嘴615其長(zhǎng)度與基板S的寬度相同或比其長(zhǎng)。第三噴嘴615為噴霧器類型。
[0057]第四輸送單元620配置在第四室600內(nèi)。第四輸送單元620將基板S沿第一方向12搬送。第四輸送單兀620具有輸送軸630、傳送棍632、導(dǎo)棍634及框架640。第四輸送單兀620的輸送軸630、傳送棍632及導(dǎo)棍634與上述第一輸送單兀120的輸送軸130,傳送輥132及導(dǎo)輥134具有大致相同或類似的形狀及功能。不過(guò)，框架640為第二傾斜框架644。第二傾斜框架644其一端設(shè)置為相對(duì)于水平面以第一角度傾斜。
[0058]下面參考圖10至圖15對(duì)基板處理裝置20處理基板的過(guò)程進(jìn)行說(shuō)明。圖10至圖15為按順序表示基板處理裝置20處理基板過(guò)程的圖。首先，搬送至第一室400內(nèi)的基板S,通過(guò)第一輸送單兀420以水平狀態(tài)沿第一方向12被搬送。此時(shí)，向基板S上供給第一液體。第一液體為化學(xué)制品。作為一例，第一液體可為顯影液。搬送到第二室500內(nèi)的基板S通過(guò)第一傾斜變換框架546以第一角度進(jìn)行傾斜。作為一例，第一角度可以為約0.05°至約5°之間的角度。基板S通過(guò)第一傾斜變換框架546變換為第一角度后，通過(guò)第一傾斜框架544被搬送。殘留在基板S上的化學(xué)制品沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于化學(xué)制品通過(guò)較小的傾斜角緩慢向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的化學(xué)制品可能不會(huì)變干。之后，將基板S搬入到第四室600。在第四室600內(nèi)，將基板S保持在第一角度，并進(jìn)行搬送。此時(shí)，向基板S供給第二液體。第二液體為清洗液。作為一例，第二液體可以為純水。經(jīng)過(guò)第四室600后，基板S被搬入至第三室700內(nèi)。在第三室700中基板S通過(guò)第二傾斜變換框架746以第二角度進(jìn)行傾斜。第二角度為比第一角度大的角度。作為一例，第二角度可以為約5°至約10°之間的角度?；錝通過(guò)第二傾斜變換框架746變換為第二角度后，通過(guò)第二傾斜框架744被搬送。殘留在基板S上的純水沿基板S的傾斜角向下流動(dòng)。此時(shí)，由于純水通過(guò)較大的傾斜角快速向下流動(dòng)，因此不會(huì)在基板S上留斑。另外，在基板S上的純水可能不會(huì)變干。
[0059]在上述例子中的說(shuō)明為針對(duì)基板S進(jìn)行顯影工藝后進(jìn)行清洗工藝。但與此不同，工藝的時(shí)期和工藝室的數(shù)目有可能不同。作為一例，在顯影工藝中，涂布有顯影液的基板以第一傾斜狀態(tài)被搬送的第二室的數(shù)目可以為3個(gè)。另外，在清洗工藝中，涂布有清洗液的基板以第二傾斜狀態(tài)被搬送的第三室的數(shù)目可以為3個(gè)。另外，能夠?qū)嵤┪g刻工藝代替顯影工藝后實(shí)施清洗工藝。另外，雖然在本實(shí)施例中揭示了顯影工藝及清洗工藝的結(jié)構(gòu)，但在清洗工藝之后還可包括干燥工藝。另外，上述例子通過(guò)連續(xù)地將噴嘴單元配置于形成的裝置內(nèi)的情況進(jìn)行了說(shuō)明。但也可與此不同地，針對(duì)基板S還可設(shè)置蒸汽部件或電刷部件。
[0060]另外，雖然在本實(shí)施例中圖示了第一傾斜變換框架與第一傾斜框架和，第二傾斜變換框架與第二傾斜框架分別配置在相同室內(nèi)，且前者分別位于上段的情況，但也可與本實(shí)施例不同地，第一傾斜變換框架可配置于具有第一傾斜框架的室的前方室的下段，第二傾斜變換框架也可配置于具有第二傾斜框架的室的前方室的下段。
[0061]如上所述的本發(fā)明，對(duì)本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】具有通常知識(shí)的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)可進(jìn)行多種修改、置換及變形，因此不局限于上述實(shí)施例及附圖。另外，在本說(shuō)明書(shū)中說(shuō)明的實(shí)施例可不受限制地進(jìn)行應(yīng)用，即還可以是選擇性地組合各實(shí)施例的全部或部分從而形成多種變形。
[0062]附圖標(biāo)記
[0063]100,400:第一室120,420:第一輸送單元
[0064]142，442:水平框架200，500:第二室
[0065]220，520:第二輸送單元244，544:第一傾斜框架
[0066]246，546:第一傾斜變換框架
[0067]300，700:第三室320，720:第三輸送單元
[0068]344，744:第二傾斜框架346，746:第二傾斜變換框架
[0069]600:第四室620:第四輸送單元
[0070]644:第三傾斜框架
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理裝置，包括: 第一室，其具有以水平狀態(tài)搬送基板的第一輸送單元，及向所述基板供給第一液體的第一噴嘴； 第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平狀態(tài)和第一傾斜狀態(tài)間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并搬送所述基板的第二輸送單元； 第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能夠在所述第一傾斜狀態(tài)和第二傾斜狀態(tài)之間進(jìn)行轉(zhuǎn)換，并搬送所述基板的第三輸送單元。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第一輸送單元包括: 沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及 框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸的框架， 其中，所述框架為水平設(shè)置的水平框架。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其中所述第二輸送單元包括: 沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及 框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸， 其中，所述框架包括: 第一傾斜框架，其一端以所述第一角度傾斜配置 '及 第一傾斜變換框架，其配置于所述水平框架和所述第一傾斜框架之間，能夠使所述輸送框架的上端從所述水平狀態(tài)傾斜變換為所述第一角度。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中所述第三輸送單元包括: 沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；以及 框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸， 其中，所述框架包括: 第二傾斜框架，其一端以所述第二角度傾斜配置 '及 第二傾斜變換框架，其配置于所述第一傾斜框架和所述第二傾斜框架之間，能夠使所述輸送框架的上端從所述第一角度傾斜變換為所述第二角度。
5.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第三室還包括向所述基板上供給第二液體的第二噴嘴。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其中所述基板處理裝置還包括第四室， 所述第四室包括: 第四輸送單元，其位于所述第二室和所述第三室之間，以所述第一傾斜狀態(tài)搬送所述基板；及 第三噴嘴，其向所述基板上供給所述第二液體， 其中，所述第四輸送單元包括: 沿所述第一方向排列的多個(gè)輸送軸；及 框架，其固定結(jié)合在所述輸送軸兩端，從上部觀察時(shí)沿所述第一方向設(shè)置，用于支撐所述輸送軸， 其中，所述框架為以所述第一角度傾斜設(shè)置的第三傾斜框架。
7.如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中所述第一角度為比所述第二角度小的角度。
8.如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其中所述第一角度為約0.05°至約5°之間的角度。
9.如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其中所述第二角度為約5°至約10°之間的角度。
10.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中所述第一液體為化學(xué)制品；所述第二液體為清洗液。
11.如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其中所述化學(xué)制品為顯影液。
12.—種基板處理方法,包括: 第一處理步驟，向水平狀態(tài)的基板供給第一液體，對(duì)基板進(jìn)行處理； 第二處理步驟，將供有所述第一液體的所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第一角度，并搬送所述基板；以及 第三處理步驟，在所述第二處理步驟之后向所述基板供給第二液體，將所述基板變換成相對(duì)于水平面形成第二角度，并搬送所述基板的同時(shí)，對(duì)所述基板進(jìn)行處理。
13.如權(quán)利要求12所述的基板處理方法，其中在所述第二處理步驟及所述第三處理步驟之間還包括，向相對(duì)于水平面以所述第一角度被搬送的所述基板上供給所述第二液體的步驟。
14.如權(quán)利要求12或13所述的基板處理方法，其中所述第一角度比所述第二角度小。
15.如權(quán)利要求14所述的基板處理方法，其中所述第一角度為約0.05°至約5°之間的角度。
16.如權(quán)利要求14所述的基板處理方法，其中所述第二角度為約5°至約10°之間的角度。
17.如權(quán)利要求12或13所述的基板處理方法，其中所述第一液體為化學(xué)制品；所述第二液體為清洗液。
18.如權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其中所述化學(xué)制品為顯影液。
【文檔編號(hào)】H01L21/677GK104347352SQ201410374186
【公開(kāi)日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月31日
【發(fā)明者】金鎮(zhèn)浩 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司