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作為有機(jī)半導(dǎo)體的酮基吡咯的制作方法

文檔序號(hào):7233133閱讀:324來源:國知局
專利名稱:作為有機(jī)半導(dǎo)體的酮基吡咯的制作方法
作為有機(jī)半導(dǎo)體的酮基吡咯本發(fā)明涉及含有式(I)的酮基吡咯的新型半導(dǎo)體,和涉及含有該新型半導(dǎo)體的相 應(yīng)器件如二極管、光電二極管和尤其是有機(jī)場效應(yīng)晶體管和/或光生伏打電池,或者含有 二極管和/或光電二極管和/或有機(jī)場效應(yīng)晶體管、和/或太陽能電池的器件。根據(jù)本發(fā) 明的新型半導(dǎo)體具有優(yōu)異的有機(jī)溶劑溶解性和優(yōu)異的成膜性。另外,當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明的化 合物用于半導(dǎo)體器件或有機(jī)光生伏打(PV)器件(太陽能電池)時(shí),可以觀察到高的能量轉(zhuǎn) 換效率、優(yōu)異的場效應(yīng)遷移率、良好的開/關(guān)電流比和/或優(yōu)異的穩(wěn)定性。許多公開文獻(xiàn)(例如W005/049695,W008/000664)描述了某些二酮基吡咯并吡咯 (DPP)基聚合物和它們?cè)诎≒LED、有機(jī)集成電路(O-IC)、有機(jī)場效應(yīng)晶體管(OFET)、有機(jī) 薄膜晶體管(OTFT)、有機(jī)太陽能電池(O-SC)或有機(jī)激光二極管的電子應(yīng)用中的用途。本發(fā)明的目的是提供新型有機(jī)半導(dǎo)體材料,它們?cè)谟糜诶绨雽?dǎo)體器件、光電二 極管、有機(jī)場效應(yīng)晶體管(OFET)或有機(jī)光生伏打(PV)器件(太陽能電池)中時(shí),呈現(xiàn)優(yōu)異 的性能,如高的能量轉(zhuǎn)換效率、優(yōu)異的場效應(yīng)遷移率、良好的開/關(guān)電流比和/或優(yōu)異的穩(wěn) 定性,尤其是防氧化。所述目的通過采用式(I)的酮基吡咯化合物、或包含式(Ia)的重復(fù)單元的相應(yīng)低 聚物或聚合物(在下面還稱作式(Ia)的聚合物或式(Ia)的化合物),或這種化合物、低聚 物或聚合物的互變異構(gòu)體實(shí)現(xiàn)
<formula>formula see original document page 8</formula>
(I)<formula>formula see original document page 8</formula>其中a、b、c、d、e 禾口 f 是 0-3 ;A、A,、R1、R2各自獨(dú)立地選自氫;E -,CrC25烷基、C2-C25烯基、C2-C24炔基,各自可 任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情況下在任意C,C-單鍵中被D插入;可被 E取代,尤其是被C1-C8烷基、C1-C8硫烷氧基或C1-C8烷氧基取代1-3次的環(huán)烷基;或可 被未取代的苯基或E取代的,尤其是C1-C4烷基、鹵素、硝基或氰基取代1-3次的苯基稠 合1或2次的環(huán)烷基;環(huán)烯基;酮或醛基;酯基;氨基甲?;鶊F(tuán);甲硅烷基;硅氧烷基;Arui 或-CR5R6-(CgH2g)-Arltl,其中 g 表示 0、1、2、3 或 4 ;
或R2和Ar1與它們所鍵接的乙烯基部分一起形成環(huán)如芳基或雜芳基,其可任選地 被G取代;X是CR,其中R如R1所定義,或者是另外的式(Ib)的酮基吡咯部分<formula>formula see original document page 9</formula>(Ib)下標(biāo)g是0或1,并且在存在的情況下,Ar是通過2個(gè)化學(xué)雙鍵連接到分子的其余
G,
部分的四價(jià)殘基,并且選自醌型C6-Cltl環(huán)體系,如=C6H4 =,和式y(tǒng)~Ar5"\的殘基;
GAr1在不與R2連接的情況下和Ar2、Ar2,、Ar3、Ar3,、Ar4、Ar4,和Ar5彼此獨(dú)立地選 自具有5-15個(gè)碳原子的二價(jià)碳環(huán)部分、具有2-15個(gè)碳原子和1-8個(gè)選自0、N、S、Si的雜 原子的二價(jià)雜環(huán)部分,所述部分各自含有共軛或交叉共軛的雙鍵和/或叁鍵,或烯屬或炔 屬部分,其中這些部分各自是未被取代的或被E取代的;R5和R6彼此獨(dú)立地表示氫、氟、氰基,或可以被氟、氯或溴取代的C1-C4烷基,或可 以被C1-C4烷基取代1-3次的苯基,Ar10表示可任選地被G取代的芳基或雜芳基,特別是可被C1-C8烷基、C1-C8硫烷氧 基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的苯基或1-或2-萘基;D 是-CO- ;-C00- ;-S- ;-SO- ;-SO2- ;-OP(O) (OR29)O- ;-OP(O) (R,29) 0- ;-0- ;-NR25- ;-CR23 = CR24-;或-C 三 C-;禾口E 是-OR29 ;-SR29 ;-SOR29 ;-SO2R29 ;-NR25R26 ;-COR28 ;-COOR27 ;-CONR25R26 ;-CN ;硝 基;-OP(O) (OR29)2 ;-OP(O) (R,29)2 ;-Si (R' 29)3 ;或鹵素;G和G’獨(dú)立地是E ;可被D插入的C1-C18烷基;或C1-C18烷氧基,其被E取代和/ 或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下被D插入,其中R23、R24、R25和R26彼此獨(dú)立地為H ;C6-C18芳基;被C「C18烷基或C「C18烷氧基取代 的C6-C18芳基K1-C18烷基;或被-ο-插入的C2-C18烷基;R27和R28彼此獨(dú)立地為H ;C6-C18芳基;被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18 芳基K1-C18烷基;或被-ο-插入的C2-C18烷基;R29是H ;C6_C18芳基;被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基;CrC18烷基; 或被-0-插入的C2-C18烷基;R,29如R29所定義,不同的是R,29不是H。本發(fā)明的聚合物可以統(tǒng)計(jì)或非統(tǒng)計(jì)方式含有本發(fā)明(Ia)的結(jié)構(gòu)。如果需要,可根 據(jù)本領(lǐng)域通常已知的方法來改變由其制備(例如Suzuki聚合)所限定的聚合物端基。類 似地,可進(jìn)行接枝反應(yīng)。因?yàn)閄與分子的其余部分一起在大多數(shù)情況下形成非對(duì)稱的殘基,這可附有反式 或順式形式,由此包括了相應(yīng)的異構(gòu)體,如在式IIIc和IIId(反式)或IIIe和IIIf (順 式)中<formula>formula see original document page 10</formula>(Illf)、其中η的范圍例如為1-10000,并且其他符號(hào)如別處所定義。上述式(Ib)的橋連基團(tuán)的實(shí)例包括下面那些<formula>formula see original document page 11</formula>(le)。作為與式(Ie)中的體系類似的醌型C6-Cltl體系的Ar的另外的實(shí)例包括相應(yīng)的萘 喹啉衍生的殘基和取代的變體,其中取代基是例如選自前面對(duì)R2所列的那些。更特別地,本發(fā)明的半導(dǎo)體器件可包含式⑴和/或(Ia)的化合物,其中Ar1在不與R2相連的情況下以及Ar2、Ar2,、Ar3、Ar3,、Ar4、Ar4,和Ar5彼此獨(dú)立地
選自
<formula>formula see original document page 11</formula>其中L 選自 CR7R' 7、C = 0、C = NR7、0、S、NR7、SiR17R' 17 ;R3在一個(gè)基團(tuán)內(nèi)可以相同或不同,且選自氫;殘基E ;可任選被E取代和/或在含 有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的C1-C25烷基;可任選地被G取代的C6-C24芳基;可任選地被G取代的C2-C2tl雜芳基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或 尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選地被D插入的C1-C18烷氧基;C7-C25芳烷基,其中芳烷 基中的芳基可任選地被G取代;或-CO-R28 ;或彼此相鄰的2個(gè)或更多個(gè)R3基團(tuán)形成環(huán);R4、R4’、R7和R7’彼此獨(dú)立地表示氫;殘基E ;可任選被E取代和/或在含有2個(gè)或 尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的C1-C25烷基;可任選地被G取代的C6-C24芳 基;可任選地被G取代的C2-C2tl雜芳基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多 個(gè)碳原子的情況下可任選地被D插入的C1-C18烷氧基;C7-C25芳烷基,其中芳烷基中的芳基 可任選地被G取代;或-CO-R28 ;或R4和R4 ’形成環(huán);以及R17和R,17如R29所定義,尤其是如R,29所定義;如,各芳基和雜芳基選自苯基和噻吩基的那些。優(yōu)選的半導(dǎo)體器件含有以下化合物,其中A和A’獨(dú)立地選自氫K1-C25烷基或 C2-C25烯基,各自可任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情況下在C,C-單鍵中被D 插入;Arltl 或-CR5R6-(CH2)g-Ar10; Ar10選自苯基和噻吩基;D 是-S- ;-0- ;-CR23 = CR24-;禾口E 是-OR29 ;-SR29 ;-NR25R26 ;-CN ;或鹵素;G和G’獨(dú)立地是E ;可被D插入的C1-C18烷基;或C1-C18烷氧基,其被E取代和/ 或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下被D插入,其中R23、R24、R25和R26彼此獨(dú)立地是H ;苯基;噻吩基;被C「C18烷基或C「C18烷氧基取 代的苯基或噻吩基K1-C18烷基;R29是H ;苯基;噻吩基;被C「C18烷基或C「C18烷氧基取代的苯基或噻吩基;C「C18 燒基;R,29如R29所定義,不同的是R,29不是H。這種式(I)或(Ia)的化合物的實(shí)例為符合式(IIa)、(lib)、(IIc)或(IId)的那 些<formula>formula see original document page 13</formula>符號(hào)如上定義,或是符合式(IIe)或(IIf)的那些
<formula>formula see original document page 13</formula>(IIf),或尤其是符合式(IIIa)或(IIIb)的那些<formula>formula see original document page 14</formula>符號(hào)如上定義。A、A’部分通常形成式(Ia)中的均低聚物或均聚物鏈的端基;這些基團(tuán)A、A’優(yōu)選 選自氫K1-C25烷基或C2-C25烯基,各自可任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情況 下在 C,C-單鍵中被 D 插入;Ar1Q 或-CR5R6- (CH2) g-Ar10 ;其中R5和R6彼此獨(dú)立地表示氫、氟或可被氟取代的C1-C4烷基,和Ar10表示如下基團(tuán)
<formula>formula see original document page 14</formula>ρ 表示 0、1、2 或 3;R3在一個(gè)基團(tuán)內(nèi)可以相同或不同并選自各自可被E取代的C1-C18烷基、C1-C18烷氧 基;或者是-CO-R28 ;或彼此相鄰的兩個(gè)或更多個(gè)R3基團(tuán)形成稠合的5元或6元碳環(huán);R4、R4’和R4"獨(dú)立地表示氫;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多 個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的C1-C25烷基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或 尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的C1-C18烷氧基;C7-C15苯基烷基,其中苯基 可任選地被G取代;或-CO-R28。本發(fā)明的重要的低聚物和聚合物的實(shí)例是其中式Ia的部分符合式IVa-IVi的那 些<formula>formula see original document page 15</formula><formula>formula see original document page 16</formula>其中符號(hào)如上所定義,尤其是,其中Rl和R4各自選自氫和C1-C22烷基;和Ar5是
亞苯基或<formula>formula see original document page 16</formula>其各自任選地可被G如C1-C22烷基或CN取代。本發(fā)明的聚合物可用作電荷輸送、半導(dǎo)、電導(dǎo)(el. conducting)、光導(dǎo)、光發(fā)射材 料、表面改性材料、電池內(nèi)的電極材料、取向?qū)?alignment layers),或用于OFET、IC、TFT、顯示器、RFID標(biāo)志、電致或光致發(fā)光裝置、顯示器的背光、光生伏打或傳感裝置、電荷注入 層、Schottky 二極管、儲(chǔ)存裝置(例如FeFET)、平面化層、抗靜電、導(dǎo)電襯底或圖案、光導(dǎo)體 或電子照相應(yīng)用(記錄)中。本發(fā)明的聚合物可包含一種或多種(不同的)式Ia的重復(fù)單元,如式IVa和IVd
的重復(fù)單元。式I的化合物和式Ia的重復(fù)單元可具有不對(duì)稱結(jié)構(gòu),但優(yōu)選具有對(duì)稱結(jié)構(gòu),其中a = d;b = e;c = f ;Ar1 = Ar1,;Ar2 = Ar2,;Ar3 = Ar3,;Ar4 = Ar4,。 R1和R2可相同或不同,優(yōu)選選自氫,可任選地被一個(gè)或多個(gè)氧原子插入的C1-C25烷 基,C1-C25全氟烷基,可任選地被C1-C4烷基取代1-3次的烯丙基;可被C1-C8烷基、C1-C8硫 烷氧基或C1-C8烷氧基取代1-3次的環(huán)烷基,或可以被苯基(該苯基可被C1-C4烷基、鹵素、 硝基或氰基取代1-3次)稠合1或2次的環(huán)烷基,烯基,環(huán)烯基,炔基,商代烷基,商代烯基, 鹵代炔基,酮基或醛基,酯基,氨基甲酰基團(tuán),酮基,甲硅烷基,硅氧烷基,Arltl或-CR5R6-(CH2) g-ΑιΛ其中R5和R6彼此獨(dú)立地表示氫、氟、氰基,或可被氟、氯或溴取代的C1-C4烷基,或可被 C1-C4烷基取代1-3次的苯基,R1和R2更優(yōu)選選自可任選地被一個(gè)或多個(gè)氧原子插入的C1-C25烷基,可被C1-C8烷 基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的C5-C12環(huán)烷基,尤其是環(huán)己基,或可被苯基(該苯基可 被C1-C4烷基、鹵素、硝基或氰基取代1-3次)稠合1或2次的C5-C12環(huán)烷基,尤其是環(huán)己基, 或可被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的苯基或1-或2-萘基,或-CR5R6-(CH2) g-Ar1(l,其中R3和R4表示氫,Arw表示可被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1_3次的苯基 或1-或2-萘基,和g表示O或1。被-0-插入1次或多次的烷基應(yīng)理解為可被-0-插入 1次或多次,例如1、2或3次的直鏈或支化C2-C25烷基基團(tuán),獲得的結(jié)構(gòu)單元例如為-(CH2 )20CH3, "(CH2CH2O)2CH2CH3, -CH2-O-CH3, -CH2CH2-O-CH2CH3, -CH2CH2CH2-O-CH(CH3)2, -[CH2CH2O] Y1-CH3,其中 Yl = 1-10,-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3 和-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3。最優(yōu)選的R1和R2是C1-C25烷基,尤其C4-C25烷基,如正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁 基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2- 二甲基丙基、正己基、正庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基 丁基和2-乙基己基、正壬基、正癸基、正i^一烷基、正十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五 燒基、十六燒基、2-己基癸基、十七燒基、十八燒基、二十燒基、二十一燒基、二十二燒基、
H3C、jCH2)m1
二十四烷基或二十五烷基,其中有利的基團(tuán)能用S_e^『H、代表,其中ml = nl+2,而且
2 CH3
ml+nl ( 22。手性側(cè)鏈,如R1和R2,可以是純手性的或外消旋的,它們會(huì)影響聚合物的形態(tài)。Ar1和Ar1 ’可以不同,但優(yōu)選相同并且式([^"(R3)p基團(tuán),尤其是式^^基團(tuán),或式<formula>formula see original document page 18</formula>基團(tuán),和Ar2、Ar2,、Ar3、Ar3,,Ar4 和 Ar4,彼此獨(dú)立地為式<formula>formula see original document page 18</formula>的基團(tuán),其中ρ代表O、1或2,R3在一個(gè)基團(tuán)內(nèi)可以相同或不同,且選自可任選地被E取代和/ 或被D插入的C1-C25烷基,或可任選地被E取代和/或被D插入的C1-C18烷氧基;R4是可任 選地被E取代和/或被D插入的C6-C25烷基,可任選地被G取代的C6_C14芳基,如可任選地被 G取代的苯基、萘基或聯(lián)苯基,可任選地被E取代和/或被D插入的C1-C25烷氧基,或C7-C15 芳烷基,其中芳烷基中的芳基可任選地被G取代,D 是-CO-、-COO-、-S-、-SO-、-SO2-、_0_、-NR25-,其中 R25 是 C1-C12 烷基,如甲基、乙 基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基或仲丁基;E 是-OR29 ;-SR29 ;-NR25R25 ;-COR28 ;-COOR27 ;-CONR25R25 ;或-CN ;其中 R25、R27、R28 禾口 R29彼此獨(dú)立地是C1-C12烷基,如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、己基、 辛基或2-乙基己基,或C6_C14芳基,如苯基、萘基或聯(lián)苯基,G與E的優(yōu)選含義相同,或是C1-C18烷基,尤其C1X12烷基,如甲基、乙基、正丙基、異 丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、己基、辛基或2-乙基己基。單元一!"Ar^^Ai^-i-f-Ar2+Ar1—和 Ar1—!"Ap^^-Ar3·1!-!"Ar1^""— 可不同,但
優(yōu)選相同且是式<formula>formula see original document page 18</formula>的基團(tuán),其中_代表連接到酮基吡咯骨架上的鍵,R4如上所定義,并且R4’具有R4的含義。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,單元—LAr4lT Ar3_LLAr2 1 Ari_和” ” 可以不同,但優(yōu)選相同且是式的基
團(tuán),其中R4是可任選地被1個(gè)或多個(gè)氧原子插入的C6-C25烷基;或
<formula>formula see original document page 19</formula>Ar5是式y(tǒng)^J^或H^J勺基團(tuán),其中R7和R7,
<formula>formula see original document page 19</formula>
如上定義;或該聚合物具有下式結(jié)構(gòu)*-[第一重復(fù)單元][支化單元]t_ * (III),其中“第一重復(fù)單元”是式(Ia)的重復(fù)單元,“支化單元”是含有超過2個(gè)連接點(diǎn) 的單元,以及q和t是整數(shù),其中q/t是式(Ia)的重復(fù)單元與“支化單元”之比。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中,該聚合物具有下式結(jié)構(gòu)* -[第一重復(fù)單元]Γ [支化單元]t_ * (V),其中“第一重復(fù)單元”是式Ia的重復(fù)單元,“支化單元”是含有超過2個(gè)連接點(diǎn)的 單元,以及q和t是整數(shù),其中q/t是式I的重復(fù)單元與“支化單元”之比。式(Ia)的重復(fù)單元優(yōu)選具有對(duì)稱結(jié)構(gòu)a = d ;b = e ;c = f ;Ar1 = Ar1,;Ar2 = Ar2,;Ar3 = Ar3,;Ar4 = Ar4,?!爸Щ瘑卧笔怯谐^2個(gè)連接點(diǎn)的單元。支化單元的實(shí)例已描述在,例如, Dendrimers and Other Dendritic Polymers, D. A. Tomalia, J. Μ. J. Frechet (eds), John Wiley & Sons, Ltd. 2002 ;Star and HyperbranchedPolymers, M. K. Mishra 禾口 S. Kobayashi (eds), Marcel Dekker 2000 中。特別適合的“支化單元”的實(shí)例如下所示
<formula>formula see original document page 19</formula>^x其中,B和C彼此獨(dú)立地是任選稠合的芳環(huán)或雜芳環(huán),如 R2 xJ. Cj
<formula>formula see original document page 19</formula>^^ ^JT^或^^ 是連接到化合物/聚合物骨架上的鍵,尤其是 、 、
<formula>formula see original document page 19</formula><formula>formula see original document page 20</formula><formula>formula see original document page 21</formula>構(gòu)成本發(fā)明的另外方面。
在一個(gè)實(shí)施方案中,根據(jù)本發(fā)明的聚合物僅由一種或多種式Ia的重復(fù)單元組成。 在優(yōu)選實(shí)施方案中,根據(jù)本發(fā)明的聚合物精確地由一種式Ia的重復(fù)單元組成(均聚物)。根據(jù)本發(fā)明,術(shù)語“聚合物”包括聚合物以及低聚物,其中,聚合物是高相對(duì)分子量 的分子,其結(jié)構(gòu)主要包括實(shí)際或概念上衍生自低相對(duì)分子量的單元的重復(fù),而低聚物是中 等分子量的分子,其結(jié)構(gòu)主要包括實(shí)際或概念上衍生自較低相對(duì)分子量的少量單元。如果 分子的性能不隨一個(gè)或數(shù)個(gè)單元的除去而明顯變化,則認(rèn)為該分子具有高相對(duì)分子量。如 果分子的性能隨一個(gè)或數(shù)個(gè)單元的除去確有明顯變化,則認(rèn)為該分子具有中等分子量??深愃频貞?yīng)用一般的偶聯(lián)反應(yīng)如Heck、Sonogashira、Methathesis或縮聚來制備 本發(fā)明的化合物(包括低聚物和尤其是聚合物),例如如Babudri等人的綜述,J. Mater. Chem.,2004,14,11-34 中所示。根據(jù)本發(fā)明,均聚物是衍生自一種(真實(shí),隱式或假設(shè)的)單體的聚合物。很多聚 合物由互補(bǔ)性單體相互反應(yīng)而成。這些單體可顯現(xiàn)為反應(yīng)生成“隱式單體”,“隱式單體”的 均聚將給出能被看作均聚物的實(shí)際產(chǎn)物。有些聚合物通過其它聚合物的化學(xué)改性得到,因 此可以將構(gòu)成所得聚合物的大分子的結(jié)構(gòu)看成已由假設(shè)單體均聚而成。相應(yīng)地,共聚物是衍生自超過一種單體的聚合物,例如,二元共聚物、三元共聚物、 四元共聚物等。本發(fā)明低聚物具有< 3,000道爾頓的重均分子量。本發(fā)明聚合物的重均分子量優(yōu) 選為3,000道爾頓或更高,尤其是3,000-2, 000, 000道爾頓,更優(yōu)選10,000-1, 000, 000和 最優(yōu)選10,000-750, 000道爾頓。分子量按凝膠滲透色譜法用聚苯乙烯標(biāo)樣測(cè)定。在優(yōu)選實(shí)施方案中,本發(fā)明的聚合物是包含式Ia的重復(fù)單元的均聚物,能用下
式表示<formula>formula see original document page 22</formula>其中RU是式Ia的重復(fù)單元。在所述方面,聚合物優(yōu)選包含式
IVa-IVi的重復(fù)單元之一,其中尤其優(yōu)選式IVa、IVd、IVh和IVi的重復(fù)單元包含式Ia 的重復(fù)單元和 COM1 或 COM2 (ν = 0. 995-0. 005,w = 0. 005-0· 995)的式 VII的共聚物也能由偶聯(lián)反應(yīng)得到,如鎳偶聯(lián)反應(yīng)<formula>formula see original document page 22</formula>
其中RU如前定義,-COM1-選自下式的重復(fù)單元
<formula>formula see original document page 22</formula>R41R41
和^^卩^^"其中R7和R7,如前定義, ” N-N、R45,R44和R41是氫、C1-C18烷基或C1-C18烷氧基,和R45是IC1-C18烷基,或被E取代和/或被D插入的C1-C18烷基,尤其是被_0_插入 的C1-C18烷基,其中D和E如前定義,
R117以及-COM2-是式^^^^或Jj^f^的基團(tuán),其中
R119 R120、R116和R117彼此獨(dú)立地是H,可任選地被0插入的C1-C18烷基,或可任選地被0插入 的C1-C18烷氧基,R119和R12q彼此獨(dú)立地是H,可任選地被0插入的C1-C18烷基,或R119和R12tl—起形成式=CR100R101的基團(tuán),其中R100和Riqi彼此獨(dú)立地是H、C1-C18烷基,或R119和R12° —起形成可任選地被C1-C18烷基取代的五元或六元環(huán)。在所述實(shí)施方案中,聚合物是下式的聚合物
<formula>formula see original document page 23</formula>
其中RU、COM1 和 COM2 如前定義,ο 是 1,ρ 是 或 1,q 是 0.005-1,r 是 或 1,s是0或1,其中如果d為0,則e不是1,t是0. 995-0,其中c和f之和為1。式VII的均聚物例如由鎳偶聯(lián)反應(yīng),尤其Yamamoto反應(yīng)得到 --RU__其中RU是Ia的重復(fù)單元。
(VII),僅涉及二鹵官能反應(yīng)物的聚合方法可以用鎳偶聯(lián)反應(yīng)進(jìn)行。一種這樣的偶聯(lián)反應(yīng) 已由 Colon 等描述在 J.Pol. Sci.,Part A, Polymer ChemistryEdition 28 (1990) 367 中和 由Colon等描述在J. Org. Chem. 51 (1986)2627中。該反應(yīng)一般在含催化量的鎳鹽、大量的 三苯基膦和大過量的鋅粉的極性非質(zhì)子溶劑(如二甲基乙酰胺)中進(jìn)行。該方法的變體已 由Ioyda等描述在Bull. Chem. Soc. Jpn,63 (1990) 80中,在其中用有機(jī)可溶碘化物作為促進(jìn) 劑。
另一禾中鎳-偶聯(lián)反應(yīng)已由 Yamamoto 公開在 Procgress in PolymerScience 17(1992) 1153中,其中,用在惰性溶劑中的過量鎳(1,5_環(huán)辛二烯)配合物處理二鹵代芳族 化合物的混合物。所有的鎳_偶聯(lián)反應(yīng),在應(yīng)用于2種或更多種芳族二鹵化物的反應(yīng)物混 合物時(shí),主要產(chǎn)生無規(guī)共聚物。這類聚合反應(yīng)可通過在聚合反應(yīng)混合物中加入少量水而終 止,這將以氫基代替端鹵基?;蛘?,在這類反應(yīng)中也可以用單官能度芳基鹵作為鏈終止劑, 這將導(dǎo)致形成端芳基。鎳-偶聯(lián)聚合主要產(chǎn)生均聚物或含有含DPP基的單元和衍生自其它共聚單體的單 元的無規(guī)共聚物。式VIId或VIIe的均聚物可由,例如,Suzuki反應(yīng)得到—RU'COm3或--RU-COM2其中 RU^OM1 和 COM2 如前
(VIId)(VIIe),定義。芳族硼酸酯和鹵化物,尤其溴化物的縮合反應(yīng),一般稱做“Suzuki反應(yīng)”, 允許存在很多有機(jī)官能團(tuán),如N. Miyaura和A. Suzuki在ChemicalReviews,Vol. 95, pp. 457-2483 (1995)中報(bào)告的那些。優(yōu)選的催化劑是2-二環(huán)己基膦基-2,,6,- 二-烷 氧基聯(lián)苯基/乙酸鈀(II)。特別優(yōu)選的催化劑是2- 二環(huán)己基膦基-2’,6’ - 二-甲氧基 聯(lián)苯基(sPhos)/乙酸鈀(II)。該反應(yīng)能用來制備高分子量聚合物和共聚物,例如參見 EP-A-1754736。為制備對(duì)應(yīng)于式VIId或VIIe的聚合物,使二鹵化物,如二溴化物或二氯化物,尤
其是對(duì)應(yīng)于式Br-RU-Br的二溴化物,與等摩爾量對(duì)應(yīng)于式X11"[c〇M1f X11或X”~[cOM2f X”
的二硼酸或二硼酸酯,在Pd和三苯基膦的催化作用下反應(yīng),其中X11在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立地
/0、2
是-B(OH)2, -B(OY1)2或―Β、。)其中Y1在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立地是C1-Cltl烷基,Y2在每次出
現(xiàn)時(shí)獨(dú)立地是 C2-C10 亞烷基,如-CY3Y4-CY5Y6-,或-CY7Y8-CY9Yio-CY11Y12-,其中 Y3、Y4、Y5、Y6、 Y7、Y8、Y9、Y1Q、Y11和Y12都彼此獨(dú)立地是氫或C「C1Q烷基,尤其是-C (CH3) 2C (CH3) 2_或_C (CH3) 2CH2C(CH3)2-。該反應(yīng)一般在約70°C-18(TC下在芳烴溶劑如甲苯中進(jìn)行。其它溶劑,如二甲 基甲酰胺和四氫呋喃,也能單獨(dú)使用或以與芳烴的混合物使用。用含水堿,優(yōu)選碳酸鈉或 碳酸氫鈉作為HBr清除劑。取決于反應(yīng)物的反應(yīng)性,聚合反應(yīng)可進(jìn)行2-100小時(shí)。有機(jī)堿, 如氫氧化四烷基銨,和相轉(zhuǎn)移催化劑,如TBAB,能提高硼的活性(參見,例如,Leadbeater & Marco ;Angew. Chem. Int. Ed. Eng. 42(2003) 1407和其中引用的參考文獻(xiàn))。反應(yīng)條件的其它 變化已由 Τ. I. Wallow 和 B. M. Novak 在 J. Org. Chem. 59(1994)5034-5037 中和 M. Remmers, M. Schulze 和 G. Wegner 在 Macromol. Rapid Commun. 17 (1996) 239-252 中給出。如果需要,在這類反應(yīng)中可以用單官能芳基鹵或芳基硼酸酯作為鏈終止劑,這將 導(dǎo)致形成端芳基??梢酝ㄟ^控制Suzuki反應(yīng)中單體喂料的順序與組成來控制所得共聚物中單體單 元的序列。本發(fā)明的聚合物也可以通過Stille偶聯(lián)法來合成(參見,例如,Babudri等, J. Mater. Chem.,2004,14,11-34 J. K. Stille, Angew.Chemie Int. Ed. Engl. 1986,25,508)。為制成對(duì)應(yīng)于式VIId或VIIe的聚合物,使二商化物,如二溴化物或二氯化物,尤其是對(duì)應(yīng)
于式 Br-RU-Br 的二溴化物與式義!^·1‘,其中 X11 是-SnR2°7R2°8R2°9 的
LJ9
基團(tuán),在0°C -200°C的惰性溶劑中,在有含鈀催化劑存在下反應(yīng)。此時(shí),必須保證所用的所 有單體的總體中,有機(jī)錫官能度與鹵功能度有很好的平衡比。此外,可以證明,在反應(yīng)結(jié)束 時(shí),通過用單官能團(tuán)試劑封端來除去過量的反應(yīng)性基團(tuán)是有利的。為實(shí)施該工藝,優(yōu)選將錫 化合物和鹵化合物引入一種或多種惰性有機(jī)溶劑中并在0°C -2000C,優(yōu)選30°C -170°C的溫 度下攪拌lh-200h,優(yōu)選5h-150h。粗產(chǎn)物可以用本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的并適合于各聚合物 的方法純化,例如,反復(fù)再沉淀或甚至用滲析法。適用于所述方法的有機(jī)溶劑是,例如,醚,如二乙醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲 醚、四氫呋喃、二噁烷、二氧戊環(huán)、二異丙醚和叔丁基甲基醚;烴,如己烷、異己烷、庚烷、環(huán) 己烷、苯、甲苯和二甲苯;醇,如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、乙二醇、1- 丁醇、2- 丁醇和叔 丁醇;酮,如丙酮、甲乙酮和異丁基甲基酮;酰胺,如二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基乙酰胺和 N-甲基吡咯烷酮;腈,如乙腈、丙腈和丁腈,以及它們的混合物。鈀和膦組分應(yīng)類似于對(duì)Suzuki變體的說明進(jìn)行選擇?;蛘?,本發(fā)明的聚合物也可以通過Negishi反應(yīng)合成,其中使用鋅試劑 (RU-(ZnX12)2,其中X12是鹵素)和鹵化物或三氟甲磺酸鹽(COM1-(X11)2,其中X11是鹵素或三 氟甲磺酸根)。參考,例如,E. Negishi 等,Heterocyclesl8 (1982) 117-22。此外,DPP的鹵素衍生物可以氧化聚合(例如,使用FeCl3,尤其參見P. Kovacic等, Chem. Ber. 87 (1987) 357-379 ;M. Wenda 等,Macromolecules 25 (1992) 5125)或電化學(xué)聚合 (尤其參見 N. Saito 等,Polym. Bull. 30 (1993) 285)。本發(fā)明的一些材料是新型化合物。本發(fā)明因此包括含有至少4個(gè)下式重復(fù)單元的
低聚物或聚合物<formula>formula see original document page 25</formula>其中符號(hào)如前所述。本發(fā)明的又一個(gè)方面涉及根據(jù)本發(fā)明的聚合物和材料的氧化和還原形式。不論失 去或得到電子都導(dǎo)致形成具有高導(dǎo)電率的高度離域的離子形式。這能在暴露于普通摻雜 劑中時(shí)發(fā)生。適用的摻雜劑和摻雜方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的,例如,參見EP-0528662、 US-5198153 或 W096/21659。摻雜工藝一般意味著,用氧化或還原劑以氧化還原反應(yīng)處理半導(dǎo)體材料,在材料 內(nèi)形成離域的離子中心,并由所用摻雜劑產(chǎn)生相應(yīng)反離子。適用的摻雜方法包括,例如,暴 露于大氣壓或減壓下的摻雜蒸氣中,在含摻雜劑的溶液中進(jìn)行電化學(xué)摻雜,使摻雜劑與要 被熱擴(kuò)散的半導(dǎo)體材料接觸,以及使摻雜劑離子_注入半導(dǎo)體材料中。當(dāng)用電子作為載流子時(shí),適用的摻雜劑是,例如,鹵素(如12、Cl2, Br2, IC1、IC13、IBr 和 IF)、Lewis 酸(如 PF5、AsF5、SbF5、BF3、BCl3、SbCl5、BBr3 和 SO3)、質(zhì)子酸、有機(jī)酸或氨 基酸(如 HF、HCl、HN03、H2S04、HC104、FSO3H 禾口 ClSO3H)、過渡金屬化合物(如 FeCl3, FeOCl, Fe (ClO4) 3,F(xiàn)e (4_CH3C6H4S03) 3,TiCl4, ZrCl4, HfCl4, NbF5, NbCl5, TaCl5, MoF5, MoCl5, WF5, WCl6, UF6 和 LnCl3 (其中 Ln 是鑭系元素)、陰離子(如 CF, Br", Γ,I3—,HS04_,SO2—,NO3—,C104—,BF4—, PF6-,ASF6-,SbF6-,F(xiàn)eCl4-,F(xiàn)e(CN) 63—,各種磺酸的陰離子,如芳基-SO3-)。當(dāng)用空穴作為載流子 時(shí),摻雜劑的實(shí)例是陽離子(如H+、Li+、Na+、K+、Rb+和Cs+),堿金屬(如Li、Na、K、Rb和Cs), 堿土金屬(如 Ca、Sr 和 Ba),O2, XeOF4, (NO2+) (SbF6),(NO2+) (SbCl6O,(NO2+) (BF4O,AgClO4, H2IrCl6, La (NO3) 3 · 6H20, FSO2OOSO2F, Eu,乙酰膽堿,R4N+ (R 是烷基),R4P+ (R 是烷基),R6As+ (R 是烷基)和R3S+(R是烷基)。本發(fā)明的化合物和材料的傳導(dǎo)形式能作為有機(jī)“金屬”用于應(yīng)用中,例如,但不限 于,有機(jī)發(fā)光二極管應(yīng)用中的電荷注入層和ITO平面化層,平板顯示器和觸摸幕的薄膜、抗 靜電薄膜、電子應(yīng)用中的印刷導(dǎo)電襯底、圖案或軌跡,如印刷電路板和電容器。鹵素是氟、氯、溴和碘。C1-C25烷基一般是線性或支化的(在可能的情況下)。實(shí)例是甲基、乙基、正丙基、 異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2_ 二甲基丙基、1,1, 3,3_四甲基戊基、正己基、1-甲基己基、1,1,3,3,5,5-六甲基己基、正庚基、異庚基、1,1,3, 3_四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基丁基和2-乙基己基、正 壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八 烷基、二十烷基、二十一烷基、二十二烷基、二十四烷基或二十五烷基。C1-C8烷基一般是 甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2, 2-二甲基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、1,1,3,3-四甲基丁基和2-乙基己基。C1-C4烷 基一般是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基。C1-C25烷氧基是直鏈或支化烷氧基,如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁 氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、異戊氧基或叔戊氧基、庚氧基、辛氧基、異辛氧基、壬氧 基、癸氧基、十一烷氧基、十二烷氧基、十四烷氧基、十五烷氧基、十六烷氧基、十七烷氧基和 十八烷氧基。C1-C8烷氧基的實(shí)例是甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧 基、異丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、2-戊氧基、3-戊氧基、2,2-二甲基丙氧基、正己氧基、正 庚氧基、正辛氧基、1,1,3,3-四甲基丁氧基和2-乙基己氧基,優(yōu)選C1-C4烷氧基,典型地,如 甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、異丁氧基、叔丁氧基。術(shù)語“烷硫 基”是指與烷氧基相同但醚鍵的氧原子被硫原子代替的基團(tuán)。C2-C25烯基是直鏈或支化烯基,如乙烯基、烯丙基、甲代烯丙基、異丙烯基、2- 丁烯 基、3- 丁烯基、異丁烯基、η-戊_2,4- 二烯基、3-甲基-丁 -2-烯基、η-辛-2-烯基、η-十二 碳-2-烯基、異十二碳烯基、η-十二碳-2-烯基或η-十八碳-4-烯基;一個(gè)實(shí)例是任選被 C1-C4烷基取代1-3次的烯丙基。C2_24炔基是直鏈或支化的,且優(yōu)選C2_8炔基,它們可以是未取代或取代的,如乙 炔基、1-丙炔-3-基、1-丁炔-4-基、1-戊炔-5-基、2-甲基-3-丁炔-2-基、1,4_戊二 炔-3-基、1,3-戊二炔-5-基、1-己炔-6-基、順式-3-甲基-2-戊-4-炔基、反式-3-甲 基-2-戊-4-炔-1-基、1,3-己二炔-5-基、1-辛炔-8-基、1-壬炔-9-基、1-癸炔-10-基 或1-二十四 炔-24-基。
術(shù)語“鹵代烷基、鹵代烯基和鹵代炔基”是指以鹵素部分或完全取代上述烷基、烯基和炔基所得到的基團(tuán),如三氟甲基等?!叭┗⑼?、酯基、氨基甲?;鶊F(tuán)和氨基”包括被烷 基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基或雜環(huán)基取代的那些,其中烷基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基和雜環(huán)基可 以是未取代或取代的。術(shù)語“甲硅烷基”是指式-SiR62R63R64的基團(tuán),其中R62、R63和R64彼此 獨(dú)立地是C1-C8烷基,尤其是C1-C4烷基,C6-C24芳基或C7-C12芳烷基,如三甲基甲硅烷基。術(shù)語“環(huán)烷基”一般是C5-C12環(huán)烷基,如環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基、環(huán)壬基、 環(huán)癸基、環(huán)十一烷基、環(huán)十二烷基,優(yōu)選環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基或環(huán)辛基,它們可以是未 取代或取代的。術(shù)語“環(huán)烯基”是指含1個(gè)或多個(gè)雙鍵的不飽和脂環(huán)烴基,如環(huán)戊烯基、 環(huán)戊二烯基、環(huán)己烯基等等,它們可以是未取代或取代的。環(huán)烷基,尤其環(huán)己基,可以被 苯基稠合1或2次,所述苯基可以被C1-C4烷基、鹵素和氰基取代1-3次。這類稠合環(huán)己
<formula>formula see original document page 27</formula>
基是尤其是
<formula>formula see original document page 27</formula>其中 R51、R52、R53、R54、R55 和 R56 彼此獨(dú)立地是 C1-C8 烷基、C1-C8烷氧基、鹵素和氰基,尤其是氫。術(shù)語“芳基” 一般是C6-C24芳基,如苯基、茚基、甘菊環(huán)基、萘基、聯(lián)苯基、 as-indacenyK s_indacenyl、}^基、i基、菲基、焚惠基、triphenlenyK chrysenyl、并四苯 基、茜基、茈基、戊芬基、并六苯基、芘基或蒽基,優(yōu)選苯基、1-萘基、2-萘基、4-聯(lián)苯基、9-菲 基、2-或9-芴基、3-或4-聯(lián)苯基,它們可以是未取代或取代的。C6-C12芳基的實(shí)例是苯基、 1-萘基、2-萘基、3-或4-聯(lián)苯基、2-或9-芴基或9-菲基,它們可以是未取代或取代的。術(shù)語“芳烷基”一般是C7-C24芳烷基,如芐基、2-芐基-2-丙基、β-苯基-乙基、 α , α-二甲基芐基、ω-苯基-丁基、ω, ω - 二甲基-ω -苯基-丁基、ω-苯基-十二燒 基、ω -苯基-十八烷基、ω -苯基-二十烷基或ω -苯基-二十二烷基,優(yōu)選C7-C18芳烷 基,如芐基、2-芐基-2-丙基、β-苯基-乙基、α,α-二甲基芐基、ω-苯基-丁基、ω, ω -二甲基- ω-苯基-丁基、ω -苯基-十二烷基或ω -苯基-十八烷基,且尤其優(yōu)選C7-C12 芳烷基,如芐基、2-芐基-2-丙基、β _苯基-乙基、α , α-二甲基芐基、ω -苯基-丁基或 ω,ω -二甲基- ω-苯基-丁基,在其中脂烴基和芳烴基可以是未取代或取代的。術(shù)語“芳醚基”一般是C6-C24芳氧基,也就是說,0_C6_24芳基,如苯氧基或4-甲氧 基苯基。術(shù)語“芳硫醚基” 一般是C6_24芳硫基,也就是說,s-c6_24芳基,如苯硫基或4-甲氧 基苯硫基。術(shù)語“氨基甲?;鶊F(tuán)” 一般是C1,氨基甲?;瑑?yōu)選C"氨基甲?;?,它們可以 是未取代或取代的,如氨基甲?;⒓谆被柞;?、乙基氨基甲酰基、正丁基氨基甲?;?、 叔丁基氨基甲?;?、二甲基氨基甲酰氧基、嗎啉氨基甲酰基或吡咯烷氨基甲?;T谕榛被?、二烷基氨基、烷基芳基氨基、芳基氨基和二芳基中,術(shù)語“芳基”和“烷 基” 一般分別是C1-C25烷基和C6-C24芳基。
烷基芳基是指烷基取代的芳基,尤其C7-C12烷基芳基。實(shí)例是甲苯基,如3-甲 基-或4-甲基苯基,或二甲苯基,如3,4- 二甲基苯基,或3,5- 二甲基苯基。雜芳基一般是C2-C26雜芳基,即含5-7個(gè)環(huán)原子的環(huán)或稠合環(huán)體系,其中氮、氧或 硫是可能的雜原子,而且一般是含5-30個(gè)原子的有至少6個(gè)共軛π -電子的不飽和雜環(huán) 基,如噻吩基、苯并[b]噻吩基、二苯并[b,d]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、糠基、2H-吡喃基、苯 并呋喃基、異苯并呋喃基、二苯并呋喃基、苯氧基噻吩基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、 聯(lián)吡啶基、三嗪基、嘧啶基、吡嗪基、噠嗪基、中氮茚基、異吲哚基、噴哚基^丨唑基、嘌呤基、 喹嗪基、chinolyl、isochinolyl、2,3-二氮雜萘基、萘啶基(naphthyridinyl)、喹喔啉基 (chinoxalinyl)、喹唑啉基、噌啉基、蝶啶基、咔唑基、咔啉基、苯并三唑基、苯并噁唑基、菲 啶基、吖啶基、嘧啶基、菲咯啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋咱基或吩噁嗪 基,它們可以是未取代或取代的。上述基團(tuán)的可能取代基是C1-C8烷基、羥基、巰基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、鹵 素、鹵代C1-C8烷基、氰基、醛基、酮基、羧基、酯基、氨基甲?;鶊F(tuán)、氨基、硝基或甲硅烷基。如上所述,前述基團(tuán)可以被E取代和/或,如果需要,被D插入。插入當(dāng)然只有在 含至少2個(gè)通過單鍵連接的碳原子的基團(tuán)的情況下才可能;C6-C8芳基是不被插入的;被插 入的芳基烷基或烷基芳基在烷基部分含單元D。被1個(gè)或多個(gè)E取代和/或被1個(gè)或多個(gè) 單元D插入的C1-C18烷基是,例如,(CH2CH2O) B-Rx,其中Rx是H或C1-Cltl烷基或C2-Cltl烷酰 基(如 CO-CH(C2H5)C4H9)、CH2-CH(0Ry> )-CH2-O-Ry,其中 Ry 是 C1-C18 烷基、C5-C12 環(huán)烷基、苯 基、C7-C15苯基烷基,以及Ry’包括象Ry —樣的定義或是H ;C1-C8 亞烷基-COO-Rz,例如,CH2COORz、CH(CH3) COORz、C(CH3)2C00Rz,其中 Rz 是 H、 C1-C18烷基、(CH2CH2O) ^9Rx,以及Rx包括以上所示的定義;CH2CH2-O-CO-CH = CH2 ; CH2CH (OH) CH2-O-CO-C (CH3) = CH2。本發(fā)明的聚合物能用作半導(dǎo)體器件中的半導(dǎo)體層。因此,本發(fā)明還涉及包含式Ia 的聚合物或式I的單體的半導(dǎo)體器件。半導(dǎo)體器件尤其是二極管、有機(jī)場效應(yīng)晶體管和/或 太陽能電池,或含二極管和/或有機(jī)場效應(yīng)晶體管和/或太陽能電池的器件。半導(dǎo)體器件 的類型很多。共性是存在一種或多種半導(dǎo)體材料。半導(dǎo)體器件已由,例如,S.M. Sze描述在 Physics of Semi conductor Devices,第 2 片反,John Wiley and Sons,New York (1981)中。 這類器件包括整流器、晶體管(有很多類,包括p-n-p、n-p-n和薄膜晶體管)、發(fā)光半導(dǎo)體 器件(如顯示應(yīng)用中的有機(jī)發(fā)光二極管或液晶顯示器中的背光)、光導(dǎo)體、限流器、太陽能 電池、熱敏電阻、p-n結(jié)、場效應(yīng)二極管、Schottky 二極管等等。在各半導(dǎo)體器件中,半導(dǎo)體 材料與一種或多種金屬和/或絕緣體組合成器件。半導(dǎo)體器件可以用已知方法,如Peter Van Zant 在 Microchip Fabrication,第 4 版,McGraw-Hill, New York(2000)中所述的那 些方法制造。尤其是,有機(jī)電子部件能如D.R. Gamota等在PrintedOrganic and Molecular Electronics, Kluver Academic Publ.,Boston, 2004 中所述那樣制造。特別有用的一類晶體管器件,即薄膜晶體管 (TFT),一般包括柵電極、柵電極上的 柵介質(zhì)、與柵介質(zhì)相鄰的源電極和漏電極以及與柵介質(zhì)相鄰并與源電極和漏電極相鄰的半 導(dǎo)體層(參見,例如,S. M. Sze,Physics ofSemiconductor Devices,第 2 增版,John Wiley and SonS,492頁,New York(1981))。這些部件能以多種構(gòu)型組裝。特別地,有機(jī)薄膜晶體 管(OTFT)具有有機(jī)半導(dǎo)體層。
典型地,在制造、試驗(yàn)和/或使用期間,OTFT被支持在襯底上。任選地,襯底還能 對(duì)OTFT提供電功能。適用的襯底材料包括有機(jī)和無機(jī)材料。例如,襯底可包含硅材料(硅 材料包括多種合適的硅形式)、無機(jī)玻璃、陶瓷箔、聚合物材料(例如,丙烯酸類、聚酯、環(huán)氧 化物、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酰亞胺、聚酮、聚(氧-1,4-苯撐氧-1,4-苯撐羰基-1,4-苯撐) (有時(shí)稱之為聚醚醚酮或PEEK)、聚降冰片烯、聚苯醚、聚萘二羧酸乙二酯(PEN)、聚對(duì)苯二 甲酸乙二酯(PET)、聚苯硫醚(PPS))、填充聚合物材料(如纖維增強(qiáng)塑料(FRP))和經(jīng)涂布 的金屬箔。柵電極可以是任何可用的導(dǎo)電材料。例如,柵電極可包含已摻雜的硅或金屬,如 鋁、鉻、金、銀、鎳、鈀、鉬、鉭和鈦。也可以用導(dǎo)電氧化物,如銦錫氧化物,或由炭黑/石墨或 膠體銀分散體組成,任選地含聚合物粘合劑的導(dǎo)電油墨/糊料。也可以用導(dǎo)電聚合物,如 聚苯胺或聚(3,4_亞乙基二氧噻吩)/聚苯乙烯磺酸酯(PED0T:PSS)。此外,這些材料的合 金、組合和多層也可用。在有些OTFT中,同一材料既能提供柵電極功能又提供襯底的支持 功能。例如,已摻雜硅能起柵電極的作用并支持0TFT。柵介質(zhì)一般被提供在柵電極上。柵介質(zhì)使柵電極與OTFT器件的其它部分絕緣???用作柵介質(zhì)的材料可包含,例如,無機(jī)電絕緣材料。柵介質(zhì)(絕緣體)可以是氧化物、氮化物之類的材料,也可以是選自鐵電族絕緣體 的材料(例如,有機(jī)材料,如聚偏氟乙烯/三氟乙烯或聚間-二甲苯己二酰胺),也可以是 有機(jī)聚合物絕緣體(如聚甲基丙烯酸酯)、聚丙烯酸酯、聚酰亞胺、苯并環(huán)丁烯(BCB)、聚對(duì) 亞苯基二甲基、聚乙烯醇、聚乙烯基苯酚(PVP)、聚苯乙烯、聚酯、聚碳酸酯),如在J. Veres 等,Chem. Mat. 2004,16,4543 中或在 A. Facchetti 等,Adv. Mat. 2005,17,1705 中所述???用作柵介質(zhì)的材料的具體實(shí)例包括鍶酸鹽、鉭酸鹽、鈦酸鹽、鋯酸鹽、氧化鋁、氧化硅、氧 化鉭、氧化鈦、氮化硅、鈦酸鋇、鈦酸鋇鍶、鋯酸鈦酸鋇、硒化鋅和硫化鋅,包括但不限于 PbZrxTi1^xO3(PZT) ,Bi4Ti3O12,BaMgF4,Ba(Zr1^xTix)O3(BZT)。此外,還可以用這些材料的合金、 混雜材料(例如,聚硅氧烷或納米顆粒填充聚合物)組合和多層作為柵介質(zhì)。介電層的厚 度是,例如,約lO-lOOOnm,更具體的厚度為約100_500nm,提供0. 1-100納法(nF)的電容。源電極和漏電極通過柵介質(zhì)與柵電極分開,而有機(jī)半導(dǎo)體層可以在源電極和漏電 極的上面或下面。源電極和漏電極可以是有利于提供與半導(dǎo)體層低阻歐姆接觸的任何可用 導(dǎo)電材料??捎貌牧习ù蠖鄶?shù)以上對(duì)柵電極所述的材料,例如,鋁、鋇、鈣、鉻、金、銀、鎳、 鈀、鉬、鈦、聚苯胺、PED0T:PSS,其它導(dǎo)電聚合物,它們的合金、它們的組合、它們的摻雜形式 和它們的多層。這些材料中有些適用于η-型半導(dǎo)體材料,而另一些適用于P-型半導(dǎo)體材 料,如本領(lǐng)域已知的那樣。薄膜電極(即柵電極、源電極和漏電極)可以用任何適用方法,如物理氣相沉積 (如熱蒸發(fā)或?yàn)R射)或噴墨印刷法來形成。這些電極的圖案化可以用已知方法,如蔭罩法、 相加光刻法、相減光刻法、印刷法、 微接觸印刷法和圖案涂布法來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明還提供包含下列部件的薄膜晶體管器件沉積在襯底上的多個(gè)導(dǎo)電柵電極;沉積在所述導(dǎo)電柵電極上的柵絕緣層;沉積在所述絕緣層上的多組導(dǎo)電源電極和漏電極,使各所述組與各所述柵電極對(duì) 準(zhǔn);
沉積在所述絕緣層上的源電極和漏電極之間通道內(nèi)的有機(jī)半導(dǎo)體層,其基本覆蓋 所述柵電極;其中所述有機(jī)半導(dǎo)體層是式Ia的聚合物或式I的單體。本發(fā)明還提供制造薄膜晶體管器件(底柵構(gòu)造)的方法,包含下列步驟在襯底上沉積多個(gè)導(dǎo)電柵電極;在所述導(dǎo)電柵電極上沉積柵絕緣層;在所述層上沉積多組導(dǎo)電源電極和漏電極,使各所述組與各所述柵電極對(duì)準(zhǔn);在所述絕緣層上沉積式I或Ia的化合物層,使所述式I或Ia的化合物層基本覆 蓋所述柵電極;從而形成薄膜晶體管器件。包含頂柵構(gòu)造的TFT器件相類于這些步驟和對(duì)該器件已知的方法來制備。任何適用的襯底都能用來制造本發(fā)明化合物的薄膜。優(yōu)選地,用來制造上述薄膜 的襯底是金屬、硅、塑料、紙、經(jīng)涂布的紙、織物、玻璃或經(jīng)涂布的玻璃?;蛘?,TFT也可例如如下制造在已覆蓋有熱生長氧化物層的高摻雜硅襯底上將 化合物溶液沉積,然后真空沉積并圖案化源電極和漏電極。在另一個(gè)方法中,TFT如下制造在已覆蓋有熱生長氧化物的高摻雜硅襯底上沉 積源電極和漏電極,然后將化合物溶液沉積,形成薄膜。柵電極也可以是在襯底或?qū)щ姴牧先鐚?dǎo)電聚合物上的圖案化金屬柵電極,然后用 溶液涂布法或真空沉積法在圖案化柵電極上涂布絕緣體。任何合適的溶劑都能用來溶解和/或分散本申請(qǐng)的化合物,只要它是惰性的,可 溶解至少部分材料并能用傳統(tǒng)干燥法(如加熱、減壓、空氣流等)從襯底除去即可。適合于 加工本發(fā)明的半導(dǎo)體的有機(jī)溶劑包括,但不限于,芳烴或脂肪烴,鹵化烴如氯化或氟化烴、 酯、醚、酰胺,如氯仿、四氯乙烷、四氫呋喃、甲苯、1,2,3,4_四氫化萘、茴香醚、二甲苯、乙酸 乙酯、甲乙酮、二甲基甲酰胺、二氯苯、三氯苯、丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)和它們的混 合物。然后用諸如旋涂、浸涂、絲網(wǎng)印刷、微接觸印刷、刮涂的方法或本領(lǐng)域已知的其它溶液 涂布法,將溶液和/或分散體涂布在襯底上,以獲得半導(dǎo)體材料的薄膜。術(shù)語“分散體”囊括包含本發(fā)明的半導(dǎo)體材料的任何組合物,所述半導(dǎo)體材料不能 完全溶于溶劑。分散體如下制備選擇包括至少式I或Ia的化合物和溶劑的組合物,其中 所述聚合物在室溫溶劑中具有較低的溶解度,而在高溫溶劑中具有較高的溶解度,其中當(dāng) 溫度在無攪拌下從高溫降至第一較低溫度時(shí),組合物凝膠化;-在高溫下使至少部分聚合物溶解在溶劑中;使組合物的溫度從高溫降至第一較 低溫度;攪拌組合物以破壞所有凝膠,其中攪拌在組合物從高溫降到第一較低溫度之前、同 時(shí)或之后的任何時(shí)刻開始;沉積組合物層,其中組合物處于比高溫低的第二較低溫度下; 然后至少部分干燥該層。分散體也可以由下列組分構(gòu)成(a)包含溶劑、粘合劑樹脂和,任選地,分散劑的 連續(xù)相,和(b)包含本發(fā)明的有機(jī)半導(dǎo)體材料的分散相。該半導(dǎo)體材料在溶劑中的溶解度 程度可以是,例如,0% -約20%溶解度,尤其0% -5%溶解度。優(yōu)選有機(jī)半導(dǎo)體層的厚度為約5-約lOOOnm,厚度尤其為約10-約lOOnm。本發(fā)明的材料也可用于制備垂直有機(jī)FET(VOFET)器件結(jié)構(gòu),如W007/04804、 W005/24907.US-2006-208251中所述。常常提供較高電流的VOFET尤其可用于OLED-底板。本發(fā)明的聚合物可單獨(dú)或組合用作半導(dǎo)體器件中的有機(jī)半導(dǎo)體層。該層可以用任何適用方法,如氣相沉積(適于分子量較低的材料)和印刷技術(shù)提供。本發(fā)明的化合物可充 分溶于有機(jī)溶劑并能進(jìn)行溶液沉積和圖案化(例如,通過旋涂、浸涂、噴墨印刷、凹版印刷、 苯胺印刷、膠印、絲網(wǎng)印刷、微接觸(波)印刷、液滴或區(qū)域澆注或其它已知方法)。本發(fā)明的化合物能用于包含多個(gè)OTFT的集成電路和各種各樣的電子制品中。這 類制品包括,例如,射頻識(shí)別(RFID)標(biāo)志、柔性顯示器的底板(例如,用于個(gè)人計(jì)算機(jī)、手機(jī) 或手持設(shè)備)、靈便卡、記憶設(shè)備、傳感器(例如,光_、圖象_、生物_、化學(xué)_、機(jī)械_或溫度 傳感器),或安全設(shè)備等等。本發(fā)明進(jìn)一步提供了包含根據(jù)本發(fā)明的化合物的有機(jī)光生伏打(PV)器件(太陽 能電池)。PV器件按如下順序包含(a)陰極(電極)(b)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(c)光活性層,(d)任選的光滑層,(e)陽極(電極)(f)襯底。光活性層包含本發(fā)明的化合物/聚合物。優(yōu)選地,光活性層由作為電子供體的本 發(fā)明的共軛化合物/聚合物,和作為電子受體的富勒烯,尤其是官能化富勒烯PCBM制成。適用于本發(fā)明的富勒烯的尺寸(每個(gè)分子中的碳原子數(shù))范圍可變化很大。本文 所用的術(shù)語富勒烯,包括多種純碳的籠狀分子,包括Buckminster富勒烯(C6tl)和相關(guān)的“球 狀”富勒烯以及碳納米管。富勒烯可選自本領(lǐng)域已知的那些,如C2tl-Cicic^優(yōu)選地,富勒烯選 自C6(1-C96。最優(yōu)選地,富勒烯是C6tl或C7tl,如[60]PCBM或[70]PCBM。也可以用化學(xué)改性的 富勒烯,只要改性富勒烯保持受體型和電子遷移率特性即可。受體材料也可以是選自下組 的材料另外的式I的聚合物或任何半導(dǎo)體聚合物,只要聚合物保持受體型和電子遷移率 特性即可;有機(jī)小分子、碳納米管、無機(jī)顆粒(量子點(diǎn)、量子棒、量子三腳架、Ti02、Zn0等)。電極優(yōu)選由金屬或“金屬替代物”構(gòu)成。這里,術(shù)語“金屬”既包括元素純金屬材 料,例如,Mg,也包括由2種或多種元素純金屬組成的金屬合金材料,例如,Mg和Ag—起, 標(biāo)為Mg:Ag。這里,術(shù)語“金屬替代物”是指普通意義上并非金屬但在某些合適應(yīng)用中具有 期望金屬類性能的材料。電極和電荷傳輸層用的常用金屬替代物包括已摻雜的寬-帶隙 半導(dǎo)體,例如,透明導(dǎo)電氧化物,如銦錫氧化物(ITO)、鎵銦錫氧化物(GITO)和鋅銦錫氧化 物(ZITO)。另一類適用的金屬替代物是透明導(dǎo)電聚合物聚苯胺(PANI)及其化學(xué)同類或 PED0T:PSS。金屬替代物還可選自很多非金屬材料,其中術(shù)語“非金屬”泛指范圍很寬的材 料,只要材料中不存在未化學(xué)結(jié)合形式的金屬即可。高透明非金屬低阻陰極或高效低阻金 屬/非金屬復(fù)合陰極已公開在,例如,US-B-6, 420,031和US-B-5,703,436中。襯底可以是,例如,塑料(柔性襯底)或玻璃襯底。
在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,光滑層位于陽極與光活性層之間。光滑層的 優(yōu)選材料包含3,4-聚亞乙基二氧噻吩(PEDOT)或3,4-聚亞乙基二氧噻吩聚苯乙烯磺酸 酯(PED0T:PSS)的薄膜。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中,光生伏打電池包含,如US 6933436中所述,透明玻璃載體,其上已涂有由銦/錫氧化物(ITO)制成的電極層。該電極層一般具有較粗 糙的表面結(jié)構(gòu),所以用光滑層覆蓋,光滑層由聚合物,一般是通過摻雜而導(dǎo)電的PEDOT所制 成。光活性層由2個(gè)組分制成并涂布到光滑層上,層厚為,例如,IOOnm至數(shù)ym,取決于涂 布方法。光活性層由作為電子供體的本發(fā)明的共軛聚合物和作為電子受體的富勒烯,尤其 是功能化富勒烯PCBM制成。將這2個(gè)組分與溶劑混合并作為溶液涂布到光滑層上,例如, 通過旋涂法、澆注法、Langmuir-BlodgetW “LB”)法,噴墨印刷法和流掛法。也可以用膠刮 (squeegee)或印刷法在較大表面上涂布這類光活性層。優(yōu)選用分散劑,如氯苯,代替典型的 甲苯作為溶劑。從易操作和成本的觀點(diǎn)看,上述方法中,真空沉積法、旋涂法、噴墨印刷法和 澆注法是特別優(yōu)選的。在用旋涂法、澆注法和噴墨印刷法形成層的情況下,涂布可以用溶液和/或分散 體進(jìn)行,溶液和/或分散體可如下制備將組合物以0. 01-90wt%的濃度溶解或分散在合適 的有機(jī)溶劑如苯、甲苯、二甲苯、四氫呋喃、甲基四氫呋喃、N,N-二甲基甲酰胺、丙酮、乙腈、 茴香醚、二氯甲烷、二甲亞砜、氯苯、1,2-二氯苯和它們的混合物中。在涂布反電極之前,在光活性層4上涂布必須是電絕緣的的薄過渡層,厚度例如 為0. 6nm。在該示例性實(shí)施方案中,過渡層由在2 · 10_6托的真空中以0. 2nm/min的速率氣 相沉積的堿金屬鹵化物,如氟化鋰制成。如果用ITO作為空穴收集電極,則用氣相沉積在電絕緣過渡層上的鋁作為電子收 集電極。過渡層的電絕緣性顯然使阻礙載流子穿越的作用失效,尤其在從光活性層到過渡 層的過渡區(qū)。在本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施方案中,所述層中的一層或多層可以在沉積下一層之前先 用等離子體進(jìn)行處理。對(duì)PED0T:PSS層,在沉積下一層之前進(jìn)行溫和的等離子體處理尤其有利。光生伏打(PV)器件也可以由多層異質(zhì)結(jié)器件組成。這類結(jié)構(gòu)已描述在,例如, Adv. Mater. 18,2872-2875 (2006)中,其中該器件按如下順序包含(a)陰極(電極),(b)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(c)任選的激子阻擋層(如浴銅靈(BCP),3,4,9,10-茈四羧雙-苯并咪唑 (PTCBI),…)(d)光活性受體層,(e)任選的光活性供體/受體混合層,(f)光活性供體層,(g)任選的空穴傳輸層(如N,N’ - 二苯基-N,N’ -雙(3_甲基苯基)-[1,1’ -聯(lián) 苯基]-4,4,-二胺(MeOTPD)、N,N,- 二苯基-N,N,-雙(4,_ (N,N-雙(萘-1-基)-氨 基)-聯(lián)苯基-4-基)-聯(lián)苯胺、(Di-NPB),…)(h)任選的光滑層,⑴陽極(電極)。至少一個(gè)光活性層包含本發(fā)明的化合物/聚 合物。優(yōu)選地,光活性供體層由本發(fā) 明的共軛化合物/聚合物制成,并且光活性受體層由富勒烯,特別是C6tl或PCBM制成。光生伏打(PV)器件也可以由多個(gè)彼此疊加加工的多結(jié)太陽能電池組成,以吸收更多的太陽光譜。這類結(jié)構(gòu)已描述在,例如,App. Phys. Let. 90,143512(2007),Adv. Funct. Mater. 16,1897-1903 (2006) W02004/112161 和 Adv. Funct. Mater. 18,169-181 (2008)中。所謂“串聯(lián)式太陽能電池”按如下順序包含(a)陰極(電極),(b)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(C)光活性層,(d)任選的光滑層,(e)中間電極(如八11、六1、2110、1102等)
(f)任選的附加電極以匹配能級(jí),(g)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(h)光活性層,(i)任選的光滑層,(j)陽極(電極)(k)襯底。多結(jié)太陽能電池器件還可以由多層異質(zhì)結(jié)器件組成,其中該器件按如下順序包 含(a)陰極(電極),(b)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(c)任選的激子阻擋層(如浴銅靈(BCP),3,4,9,10-茈四羧雙-苯并咪唑 (PTCBI),…)(d)光活性受體層,(e)任選的光活性供體/受體混合層,(f)光活性供體層,(g)任選的空穴傳輸層(如N,N’ - 二苯基-N,N’ -雙(3_甲基苯基)-[1,1’ -聯(lián) 苯基]-4,4,-二胺(MeOTPD)、N,N,- 二苯基-N,N,-雙(4,_ (N,N-雙(萘-1-基)-氨 基)-聯(lián)苯基-4-基)-聯(lián)苯胺、(Di-NPB)、…)(h)任選的光滑層,⑴中間電極(如 Au、Al、ZnO、TiO2 等。)(j)任選的附加電極以匹配能級(jí),(k)任選的過渡層,如堿金屬鹵化物,尤其是氟化鋰,(1)任選的激子阻擋層(如浴銅靈(BCP),3,4,9,10-二茈四羧雙-苯并咪唑 (PTCBI),…)(m)光活性受體層,(η)任選的光活性供體/受體混合層,(ο)光活性供體層,(ρ)任選的空穴傳輸層(如N,N’ - 二苯基-N,N’ -雙(3_甲基苯基)-[1,1’ -聯(lián) 苯基]-4,4,-二胺(MeOTPD)、N,N,- 二苯基-N,N'-雙(4,_ (N,N-雙(萘-1-基)-氨 基)-聯(lián)苯基-4-基)-聯(lián)苯胺、(Di-NPB)、…)(q)任選的光滑層,
(r)陽極(電極)。也可以在纖維上加工PV器件,如US20070079867和US20060013549中所述。由于優(yōu)良自組裝性,本發(fā)明的化合物、材料或薄膜也可單獨(dú)或與其它材料一起用 于或用作LCD或OLED器件中的取向?qū)?,如US2003/0021913中所述。
下列實(shí)施例僅為說明而包括進(jìn)來并不是要限制權(quán)利要求的范圍。除非另有說 明,所有份數(shù)或百分?jǐn)?shù)都基于重量。重均分子量(Mw)和多分散性(Mw/Mn = PD)用凝膠滲 透色譜法(GPC)測(cè)定「儀器來自 Viscotek(Houston, TX, USA)的 GPCmax+TDA302,產(chǎn)生 的響應(yīng)形式折光指數(shù)(RI)、低角光散射(LALS)、直角光散射(RALS)和差示粘度(DP)測(cè) 量。餼譜分析條件柱子來自 Polymer Laboratories (Church Stretton,UK)的 PLgel 混 合C (300 X 7. 5mm,5 μ m顆粒),覆蓋的分子量范圍為約1 X IO3-約2. 5 X IO6Da ;移動(dòng)相四 氫呋喃,含5g/l三氟乙酸鈉;移動(dòng)相流速0. 5或0. 7ml/min ;溶質(zhì)濃度約l_2mg/ml ;注 入體積100μ 1 ;檢測(cè)RI、LALS, RALS, DP。分子量校準(zhǔn)稈序相對(duì)校準(zhǔn)用獲自Polymer Laboratories (ChurchStretton, UK)的一組10個(gè)聚苯乙烯校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行,分子量跨度 1,930,000Da-5,050Da,即 PS 1,930,000、PS 1,460,000、PS 1,075,000、PS 560,000、PS 330, 000,PS 96, 000,PS 52, 000,PS 30, 300,PS 10, 100,PS 5,050Da。絕對(duì)校準(zhǔn)基于 LALS、 RALS和DP響應(yīng)進(jìn)行。根據(jù)大量研究的經(jīng)驗(yàn),上述組合提供分子量數(shù)據(jù)的最佳計(jì)算。通常 用PS 96,000作為分子量校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),但一般可為此選擇位于要測(cè)定的分子量范圍內(nèi)的各其 它PS標(biāo)樣。以下實(shí)施例中給出的所有聚合物結(jié)構(gòu)都是用所述聚合法得到的聚合物產(chǎn)物的理 想化代表。如果使2種以上的組分彼此共聚,則聚合物中的序列可以是交替型或無規(guī)型,取 決于聚合條件。除非另有說明,所有的百分比以重量表示,“過夜”表示14-16小時(shí),室溫表 示20-25°C范圍的溫度。在實(shí)施例、說明書和/或權(quán)利要求書中的縮寫CSEM Centre Suisse d' Electronique et de Microtechnique SAITO 銦摻雜的氧化錫Ph 苯基t- 表示叔(烷基)基團(tuán),如t-Bu表示叔丁基Bu 丁基LC 液相色譜MS 質(zhì)譜法CIE International Commission on Illumination/chromaticityNMR 核磁共振,如果不另外指明是指1H NMR ;DMF 二甲基甲酰胺DMSO 二 甲亞砜OFET有機(jī)場效應(yīng)晶體管制備實(shí)施例a)根據(jù)文獻(xiàn),以一步高產(chǎn)步驟從5-溴-2-羥吲哚和5_溴靛紅或6_溴_2_羥吲哚 和6-溴靛紅合成5,5,-溴雙吲哚叉-2,2,- 二酮(1)和6,6,-溴雙吲哚叉-2,2,- 二酮 (2)(Papageorgiou,C. ;Borer, X. Helv. Chim. Acta 1988,71,1079)。b)
<formula>formula see original document page 35</formula>在氮?dú)庀?,?g(7. lmmol,l 當(dāng)量)的丄、3. 4g(17. 9mmol,2. 5 當(dāng)量)的 1_ 溴_2_ 乙 基己烷和6g(43mmol,6當(dāng)量)的K2CO3在DMF (IOOmL)中在100°C下攪拌過夜。然后將混合 物倒入水中,過濾固體并用水和乙醇洗滌數(shù)次。將固體溶于最低量的氯仿中并在乙醇中沉 淀,從而獲得3. 05g純的2,其為紅紫色粉末。收率67%;RMN 1H(O)Cl3, δ ppm) 0. 89 (m, 12H),1. 2-1. 5 (m, 16H),1. 82 (m, 2H),3. 68 (m, 4H),6. 63 (d, 2H),7. 47 (dd, 2H),9. 37 (d, 2H)。c)
<formula>formula see original document page 35</formula>在氮?dú)庀拢瑢?g(16.6mmol,l 當(dāng)量)的 2、8g(41. 7mmol,2. 5 當(dāng)量)的 1_ 溴-2-乙 基己烷和13. 9g(100mmol,6當(dāng)量)的K2CO3在DMF(200mL)中在100°C下攪拌過夜。然后將 混合物倒入水中,過濾固體并用水和乙醇洗滌數(shù)次。將固體溶于最低量的氯仿中并在乙醇 中沉淀,從而獲得8. 45g純的4,其為紅紫色粉末。收率79%;RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 89 (m,12H),1. 2-1. 5 (m,16H),1. 90 (m,2H),3. 610 (m,4H), 6. 91 (d, 2H, J=L 76Hz),7. 16 (dd, 2H, J = 8. 50,1. 76Hz),9. 07 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。d)<formula>formula see original document page 36</formula>在氮?dú)庀?,?g(19mmol,l 當(dāng)量)的之、12. 8g (42mmol,2. 25 當(dāng)量)的 1_ 溴-2-己 基癸烷和16g(115mm0l,6當(dāng)量)的K2CO3在DMF (150ml)中在100°C下攪拌過夜。然后將混 合物倒入水中并將油傾析,用水和乙醇洗滌數(shù)次。將油溶于最低量的氯仿中并倒入乙醇中, 從而獲得12. Ig純的L其為緩慢固化的紅紫色油。收率 73%;RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 89 (m,12H),1. 2—1. 5 (m,48H),1. 90 (m,2H),3. 610 (m,4H), 6. 91 (d, 2H, J=L 76Hz),7. 16 (dd, 2H, J=L 76Hz),9. 07 (d, 2H, J=L 76Hz)。e)
<formula>formula see original document page 36</formula>在氮?dú)庀?,?0g(24mmol,l當(dāng)量)的之、8· 5g(60mmol,2· 5當(dāng)量)的碘甲烷和20 克(145mm0l,6當(dāng)量)的K2CO3在DMF(150mL)中在100°C下攪拌過夜。然后將混合物倒入 水中,過濾固體,用水和乙醇洗滌數(shù)次,并將其按照原樣直接用于下一步中。收率 94%;f)<formula>formula see original document page 37</formula>在氮?dú)庀?,?g(19mmol,l當(dāng)量)的之、7. 8g(47. 6mmol,2. 5當(dāng)量)的1_溴己烷和 15.8g(110mmol,6當(dāng)量)的K2CO3在DMF(IOOml)中在100°C下攪拌過夜。然后將混合物倒 入水中,過濾固體并用水和乙醇洗滌數(shù)次。將固體溶于最低量的氯仿中并在乙醇中沉淀,從 而獲得10. 30g純的I,其為紅色粉末。收率 92%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (m,6H),1. 2—1. 5 (m, 12H),1. 63 (m,4H),3. 70 (m,4H), 6. 93 (d, 2H, J=L 84Hz),7. 18 (dd, 2H, J = 8. 50,1. 84Hz),9. 20 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。低聚物g)
<formula>formula see original document page 37</formula>在氮?dú)庀?,將lg(2. 23mmol,l當(dāng)量)的Q、2g 2_三丁基錫烷基噻吩(5. 6mmol,2. 5 當(dāng)量)和260mg Ρ(1(Ρ1ι3)4(225 μπιΟ1,0· 1當(dāng)量)與50mL甲苯在120°C下攪拌過夜。然后, 在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得770mg 純的§,其為黑色固體。收率73%;RMN 1H(CDCl3, δ ppm) :3· 28 (s,6H),6. 93 (d,2H,J = 1. 76Hz),7. 06 (dd,2H,J = 5. 28,3. 81Hz),7. 27 (dd, 2H, J = 8. 50,1. 76Hz),7. 29 (dd, 2H, J = 5. 28,0. 52Hz),7. 38 (dd, 2H, J = 3. 81,0. 52Hz),9. 14(d,2H,J = 8. 50Hz)。h)<formula>formula see original document page 37</formula>在氮?dú)庀?,?. lg(2.4mmol,l當(dāng)量)的互、2. 7g 2_三丁基錫烷基_5_己基噻吩 (6mmol,2. 5 當(dāng)量)和 280mg Pd(Ph3)4(240 μ mol,0· 1 當(dāng)量)與 50mL 甲苯在 120°C下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而 獲得1. Ig純的S,其為黑色固體。收率74%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (t,6H),1. 2—1. 4 (m,12H),1. 65 (m,4H),2. 77 (t,4H), 3. 28 (s,6H),6. 72 (d, 2H, J = 3. 66Hz),6. 93 (d, 2H, J=L 83Hz),7. 17-7. 22 (m, 4H),9. 10 (d, 2H, J = 8. 42Hz)。i)
D / \
ι
6 ο在氮?dú)庀?,?. 3g(5. 2mmol,l當(dāng)量)的g、6.8g 2_三丁基錫烷基_5_十二烷基噻 吩(13mmol,2. 5 當(dāng)量)和 600mg Pd(Ph3)4 (520 μ mol,0. 1 當(dāng)量)與 50mL 甲苯在 120°C下攪 拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2), 從而獲得3. Og純的邊,其為黑色固體。收率73%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (t,6H),1. 2—1. 4 (m,36H),1. 65 (m,4H),2. 76 (t,4H), 3. 24 (s,6H),6. 72 (d, 2H, J = 3. 52Hz),6. 93 (d, 2H, J=L 87Hz),7. 17-7. 22 (m, 4H),9. 10 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。k) <formula>formula see original document page 38</formula>在氮?dú)庀拢瑢?. 95g(5mmol,l當(dāng)量)的Z、4. 6g 2_三丁基錫烷基噻吩(12mmol,2. 5 當(dāng)量)和580mg Ρ(1(Ρ1ι3)4(500 μπιΟ1,0· 1當(dāng)量)與70mL甲苯在120°C下攪拌過夜。然后, 在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得2. 3g 純的11,其為黑色固體。收率 77%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (t,6H),1. 2—1. 4 (m,12H),1. 69 (m,4H),3. 76 (t,4H),
6.93 (d, 2H, J=L 83Hz),7. 06 (dd, 2H, J = 5. 49,3. 66Hz),7. 24 (dd, 2H, J = 8. 42,1. 83Hz),
7.29 (dd, 2H, J = 5. 49,0. 56Hz),7. 37 (dd, 2H, J = 3. 66,0. 56Hz),9. 14 (d, 2H, J = 8. 42Hz)。1)Z12在氮?dú)庀?,?. 95g(5mmol, 1當(dāng)量)的Z、5. 6g的三丁基_(5_苯基-噻 盼-2-基)_ 錫燒(12mmol,2. 5 當(dāng)量)和 580mg 的 Pd(Ph3)4(580 μ mol,0. 1 當(dāng)量)與 IOOmL 甲苯在120°C下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯 度庚烷/CH2Cl2),從而獲得2. 6g純的U,其為黑色固體。收率69%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (t,6H),1. 2—1. 4 (m,12H),1. 69 (m,4H),3. 77 (t,4H), 6. 92 (d, 2H, J=L 76Hz),7. 06 (dd, 2H, J = 5. 49,3. 66Hz),7. 20-7. 27 (m, 6H),7. 30-7. 37 (m, 6H),7. 60 (m, 4H),9. 11 (d, 2H, J = 8. 20Hz)。m) Ρμι/BrC6H13
713在氮?dú)庀?,?.95g(5mmol,l當(dāng)量)的Z、5.7g的[2,2,]雙噻吩_5_基三丁基錫 烷(12mmol,2. 5 當(dāng)量)和 580mg 的 Pd(Ph3)4(580 μ mol,0. 1 當(dāng)量)在 120°C 下攪拌過夜。 然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得 2. 3g純的Π,其為黑色固體。收率 62%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) :0. 89 (t,6H),1. 2—1. 4 (m,12H),1. 69 (m,4H),3. 76 (t,4H),
6.88(d,2H,J = 1. 84Hz),6. 98(dd,2H,J = 4. 98,3. 81Hz),7. 11 (d,2H,J = 3. 81Hz),
7.16-7. 26 (m, 6H),7. 28 (d, 2H, J = 3. 81Hz),9. 11 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。n)
Z、尸
T £
在氮?dú)庀拢瑢?g(4.65mmol,l當(dāng)量)的^、6. 3g的2_三丁基錫烷基_4_十二烷基 噻吩(11. 6mmol,2. 5 當(dāng)量)和 270mg 的 Pd(Ph3)4 (230 μ mol,0. 05 當(dāng)量)與 60mL 甲苯在 120°C下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色油通過硅膠純化(梯度庚烷/ CH2Cl2),從而獲得2. 9g純的H,其為黑色固體。收率63%;RMN 1H (CDCl3, δ ppm) 0. 89 (m, 18H), 1. 2-1. 6 (m, 52H), 1. 63 (m, 4H), 1. 90 (m, 2H), 2. 64 (t,4H),3. 73 (m, 4H),6. 72 (d, 2H, J = 8. 20Hz),6. 72 (d, 2H, J=L 46Hz),7. 07 (d, 2H, J =1. 46Hz),7. 48 (dd, 2H, J=L 76Hz),9. 44 (d, 2H, J=L 76Hz)。ο)<formula>formula see original document page 40</formula>在氮?dú)庀?,?g(llmm0l,l當(dāng)量)的1、14. 7g的2_三丁基錫烷基_4_十二烷基噻 吩(27mmol,2. 5 當(dāng)量)禾口 1. 2g 的 Pd(Ph3)4(lmmol,0· 1 當(dāng)量)與 200mL 甲苯在 120°C下攪 拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色油通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從 而獲得7. 3g純的邊,其為黑色固體。收率67%;RMN 1IKCDCl3, δ ppm) 0. 85-1. 00 (m, 18H) , 1. 2-1. 5 (m, 52H) , 1. 67 (m, 4H), 1. 88 (m, 2H),2. 63 (t,4H),3. 76 (m, 4H),6. 84 (d, 2H, J=L IOHz),6. 86 (d, 2H, J=L 83Hz), 7. 23-7. 30 (m, 4H),9. 12 (d, 2H, J = 8. 42Hz)。ρ)
<formula>formula see original document page 40</formula>
在氮?dú)庀?,?0.6g(12. 2mmol,l當(dāng)量)的互、16. 5g的2_三丁基錫烷基_4_十二 烷基噻吩(30. 5mmol,2. 5當(dāng)量)禾口 1. 4g的Pd(Ph3)4(l. 2讓ol,0. 1當(dāng)量)與150mL甲苯在 120°C下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色油通過硅膠純化(梯度庚烷/ CH2Cl2),從而獲得13g純的叢,其為黑色固體。收率 89%;
RMN 1IKCDCl3, δ ppm) 0. 85-1. 00 (m, 18H) , 1. 2-1. 5 (m, 86H) , 1. 59 (m, 4H), 1. 92 (m, 2H),2. 56 (t,4H),3. 61 (d, 4H),6. 84 (d, 2H, J=L 15Hz),6. 87 (d, 2H, J=L 87Hz),
7.20-7. 27 (m, 4H),9. 10 (d, 2H, J = 8. 54Hz)。q)<formula>formula see original document page 41</formula>將1. 8g 的 NBS(10mmol,2 當(dāng)量)添加到 5gl^(5mmol)的 THF(60mL)溶液中。然后 將混合物攪拌5小時(shí)。在性水處理后在真空下除去溶劑,將所得的產(chǎn)物溶于CHCl3中并在 MeOH中沉淀,從而獲得相應(yīng)的純的II,其為黑色固體。收率=97%RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,52H),1. 59 (m,4H),1. 92 (m, 2H),2. 58(t,4H),3. 70(m,4H),6. 86(d,2H,J = 1. 47Hz),7. 08 (s,2H),7. 13 (dd,2H,J =
8.50,1. 47Hz),9. 13 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。r)<formula>formula see original document page 41</formula>
將2. Ig NBS(11. 9mmol,2. 05 當(dāng)量)添加到 7gl^(5. 8mmol)的 THF(60mL)溶液中。然后將混合物攪拌5小時(shí)。在水性處理后在真空下除去溶劑,將所得的產(chǎn)物溶于CHCl3中 并在MeOH中沉淀,從而獲得相應(yīng)的純的叢,其為黑色固體。收率=87%RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,86H),1. 59 (m,4H),1. 92 (m, 2H),2. 53(t,4H),3. 60(d,4H),6. 78(d,2H,J = 1. 47Hz),7. 01 (s,2H),7. 11 (dd,2H,J = 8. 50,1. 47Hz),9. 07 (d, 2H, J = 8. 50Hz)。s)
<formula>formula see original document page 42</formula>在氮?dú)庀?,?. 6g(4. 8mmol, 1當(dāng)量)的H、4. 5g的2_三丁基錫烷基噻吩 (12. 2mmol,2. 5 當(dāng)量)和 560mg 的 Pd (Ph3) 4 (480 μ mol,0. 1 當(dāng)量)與 IOOmL 甲苯在 120°C下攪 拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色固體通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2), 從而獲得4. 6純的邊,其為黑色固體。收率 84%;RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,52H),1. 67 (m,4H),1. 86 (m, 2H),2. 78 (t,4H),3. 72 (m, 4H),7. 03 (d, 2H, J=L 83Hz),7. 09 (dd, 2H, J = 5. 13,3. 68Hz), 7. 18 (dd, 2H, J = 3. 68,1. IlHz),7. 28 (dd, 2H, J = 8. 42,1. 83Hz),7. 33 (dd, 2H, J = 5. 13, 1. IlHz) ,9. 12(d,2H,J = 8. 42Hz)。t)
<formula>formula see original document page 42</formula>在氮?dú)庀?,?g(2. 2mmol,l當(dāng)量)的叢、2g的2_三丁基錫烷基_4_十二烷基噻吩(5. 3mmol,2. 5 當(dāng)量)禾口 250mg 的 Pd(Ph3)4(210 μ mol,0. 1 當(dāng)量)與 6OmL 甲苯在 120°C下 攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的深色油通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2), 從而獲得2. Sg純的巡,其為黑色固體。收率93%;RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,86H),1. 65 (m,4H),1. 83 (m, 2H),2. 77 (t,4H),3. 71 (d, 4H),7. 04 (d, 2H, J=L 42Hz),7. 10 (dd, 2H, J = 5. 15,3. 74Hz), 7. 18 (dd, 2H, J = 3. 74,1. 52Hz),7. 24 (dd, 2H, J = 8. 54,1. 42Hz),7. 32 (dd, 2H, J = 5. 15, 1. 52Hz),9. 10 (d, 2H, J = 8. 54Hz)。u)將1. 5g 的 NBS(8. 7mmol,2 當(dāng)量)添加至Ij 5gl9(4. 3mmol, 1 當(dāng)量)的 THF(IOOmL) 溶液中。然后將混合物攪拌5小時(shí)。在水性處理后在真空下除去溶劑,將所得的產(chǎn)物溶于 CHCl3中并在MeOH中沉淀,從而獲得相應(yīng)的純的11,其為黑色固體。收率=79%RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,52H),1. 68 (m,4H),1. 83 (m, 2H),2. 71 (t,4H),3. 64 (m, 4H),6. 85 (d, 2H, J=L 47Hz),6. 90 (d, 2H, J = 3. 87Hz),7. 03 (d, 2H, J = 3. 87Hz),7. 18 (s, 2H),7. 22 (dd, 2H, J = 8. 49,1. 47Hz),9. 09 (d, 2H, J = 8. 49Hz)。
<formula>formula see original document page 43</formula>
將260mg 的 NBS(725ymol,2 當(dāng)量)添加到 lg20(l. 5mmol, 1 當(dāng)量)的 THF(50mL) 溶液中。然后將混合物攪拌5小時(shí)。在水性處理后在真空下除去溶劑,將所得的產(chǎn)物溶于 CHCl3中并在MeOH中沉淀,從而獲得相應(yīng)的純的絲,其為黑色固體。收率=66%RMN 1H (CDCl3, δ ppm) :0. 85—1. 00 (m,18H),1. 2—1. 5 (m,86H),1. 68 (m,4H),1. 83 (m, 2H),2. 73 (t,4H),3. 70 (d, 4H),6. 91 (d, 2H, J = 4. 10Hz),6. 94 (d, 2H, J=L 76Hz),7. 03 (d, 2H, J = 4. 10Hz),7. 22 (s, 2H),7. 26 (dd, 2H, J = 8. 43,1. 76Hz),9. 16 (d, 2H, J = 8. 43Hz)。
<formula>formula see original document page 44</formula>
在氮?dú)庀?,?0g(245mmol,l當(dāng)量)的3_溴噻吩、39. 5g(370mmol,1. 5當(dāng)量)的 節(jié)胺、1. 5g(25mmol,0. 1 當(dāng)量)的銅、4. 6g(25mmol,0. 1 當(dāng)量)的 CuI 和 105g(490mmol, 2 當(dāng) 量)的K3PO4在二甲氨基乙醇(220mL)中在80°C下攪拌48小時(shí)。然后過濾混合物,并在真 空下除去二甲氨基乙醇。將所得的黑色油在真空下蒸餾,從而獲得型,其為無色液體。收率 43%;
<formula>formula see original document page 44</formula>將在40mL CH2Cl2中的10g(52. 8mmol, 1當(dāng)量)的M在-10°C下逐滴添加到在60mL CH2Cl2中的8. 7g(68. 7mmol, 1. 3當(dāng)量)的草酰氯中。在30分鐘后,逐滴添加溶于40mL的 CH2Cl2中的ISmL三乙胺,并將混合物攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的黑色 油通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得6. 5g純的M,其為紅色固體。
<formula>formula see original document page 44</formula>將3g(12. 3mmol,1 當(dāng)量)的 M 和 800mg(12. 3mmol,1 當(dāng)量)的乙醇鈉與 15mL 的胼和30mL的乙醇在回流下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的黃色油通過硅膠 純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得2. Ig純的距,其為淺黃色固體。
收率 74%;<formula>formula see original document page 45</formula>將2. 2g(12. 3mmol, 1 當(dāng)量)的 M和 2. Ig(9. 2mmol, 1 當(dāng)量)的距在 40mL 乙酸中 在回流下攪拌48小時(shí)。然后將混合物倒入水中,過濾固體并用水和乙醇洗滌數(shù)次。將固體 溶于最低量的氯仿中并在庚烷中沉淀,從而獲得3. 9g純的巡,其為深紫色的粉末。收率93%;aa)
<formula>formula see original document page 45</formula>在氮?dú)庀?,?6. 3g(10(kimol,1 當(dāng)量)的 3_ 溴噻吩、19. 4g(15(kimol,1. 5 當(dāng) 量)的2-乙基己胺、320mg(5mmol,0. 05當(dāng)量)的銅、950mg(5mmol,0. 05當(dāng)量)的CuI和 12. 3g(200mmol,2當(dāng)量)的K3PO4在二甲氨基乙醇(IOOmL)中在80°C下攪拌48小時(shí)。然后 過濾混合物,并在真空下除去二甲氨基乙醇。將所得的黑色油在真空下蒸餾,從而獲得ZL 其為無色液體。收率35%;ab)
<formula>formula see original document page 45</formula>
將在20mL CH2Cl2中的6. Ig(28. 9mmol, 1當(dāng)量)的逐滴添加到在0°C下的在 40mL CH2Cl2中的4. 8g (37. 5mmol, 1. 3當(dāng)量)的草酰氯中。在30分鐘后,逐滴添加溶于IOmL 的CH2Cl2中的IOmL三乙胺,并將混合物攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的黑 色油通過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得6. 5g純的M,其為紅色的油。收率 64%;
ac)
<formula>formula see original document page 46</formula>將2g(7. 5mmol, 1當(dāng)量)的巡和510mg(7. 5mmol, 1當(dāng)量)的乙醇鈉與7mL的胼和 IOmL的乙醇在回流下攪拌過夜。然后,在真空下除去溶劑并將所得的黑色油通過硅膠純化 (梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得2. Ig純的巡,其為淺黃色的油。收率67%;ad)
<formula>formula see original document page 46</formula>
將lg(3. 7mmol,l當(dāng)量)的巡和950mg(3. 7mmol,1當(dāng)量)的巡在20mL乙酸中在 回流下攪拌48小時(shí)。然后將混合物倒入水中,過濾固體并用水和乙醇洗滌數(shù)次。將固體通 過硅膠純化(梯度庚烷/CH2Cl2),從而獲得1. 7g純的巡,其為深紫色粉末。收率93%;ae)<formula>formula see original document page 46</formula>將1. 05g 的 NBS(6mmol,2 當(dāng)量)添加到 1. 5g(3mmol, 1 當(dāng)量)的 的 THF(30mL) 溶液中。然后將混合物混合5小時(shí)。在水性處理后在真空下除去溶劑,將所得的產(chǎn)物溶于 CHCl3中并在MeOH中沉淀,從而獲得相應(yīng)的純的巡,其為深紫色的粉末。收率=87%;
<formula>formula see original document page 47</formula>將22. 2g(0. 15mol,l當(dāng)量)的乙醛酸的50%水溶液在真空(50mmHg)下加熱,直到 除去80%的水。然后,添加37. 8g(0. 3mol,2當(dāng)量)的2-乙酰噻吩并將混合物在真空下加 熱2小時(shí)。當(dāng)冷卻至室溫時(shí),添加IOOmL的水和8. 7g Na2CO3并將水相用醚洗滌數(shù)次,然后 酸化至PH值為1左右,并用乙酸乙酯萃取數(shù)次。將有機(jī)相通過Na2SO4干燥并蒸發(fā),從而獲 得19. Sg的純型,其為淺黃色的油。收率=66%;ag)<formula>formula see original document page 47</formula>
將10g(50mmol,1 當(dāng)量)的 M、2g(37mmol,0. 75 當(dāng)量)的 NH4C1、1. 8g (19mmol,0. 38 當(dāng)量)的CuCl在乙酸酐(50mL)中在回流下攪拌2小時(shí)。然后,當(dāng)冷卻時(shí),過濾混合物和將 所得的黑紫色粉末用水、乙醇和醚洗滌數(shù)次并在乙酸中再結(jié)晶。收率67%;ah)<formula>formula see original document page 47</formula>
將lg(2.05mmol,l當(dāng)量)的迎和0. 92g(6. 2mmol,3當(dāng)量)的4-丁基苯胺在乙 酸(50mL)中在回流下攪拌2小時(shí)。然后,當(dāng)冷卻時(shí),添加水和CH2Cl2,將有機(jī)相用水洗滌數(shù) 次,通過Na2CO3干燥并蒸發(fā)。將所得的棕色油通過硅膠(梯度庚烷/CH2Cl2)純化,從而獲得 ISOmg的純巡,其為藍(lán)色粉末。聚合物ai)
<formula>formula see original document page 48</formula>在氮?dú)庀拢瑢⒃?5mL硝基甲烷中的1.3g(8. lmmol,4當(dāng)量)FeCl3逐滴添加到 2g(2mmol,l當(dāng)量)邊在60mL無水氯苯的溶液中。將混合物在50°C下攪拌過夜。然后,將 混合物倒入MeOH中,并通過使用MeOH、Et2O和CHCl3由索格利特抽提器洗滌固體。氯仿級(jí) 分沉淀在MeOH中,從而獲得530mg Pl,其為黑綠色粉末。收率81%;Mn = 2. 24 104g. mo F1jMw = 1.41 105g. mo Γ1, Mz = 4. 11 105g. mo F10產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=22aj)<formula>formula see original document page 48</formula>
在氮?dú)庀?,將?0mL 甲苯中的 790mg(2. 9mmol,1.25 當(dāng)量)的 Ni (COD)2 和 450mg 的聯(lián)吡啶(2. 9mmol,1.25當(dāng)量)添加到在70mL甲苯中的3g(2. 3mmol,1當(dāng)量)21中。將混 合物在80°C下攪拌過夜。然后,將溶液倒在300mL 1/1/1的甲醇/丙酮/HCl 4N混合物中 并攪拌1小時(shí)。然后將沉淀過濾,溶于CHCl3中并與乙二胺四乙酸(EDTA)四鈉鹽的水溶液 在60°C下強(qiáng)烈攪拌另外一小時(shí)。將有機(jī)相用水洗滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通過使用甲醇、 己烷和CHCl3由索格利特提取純化殘余物。氯仿級(jí)分沉淀在MeOH中,從而獲得700mg P2, 其為黑綠色粉末。收率 2了%;Mn = 1. 07 104g. moF1, Mw = 2. 11 104g. moF1, Mz = 3. 97 104g. moF10產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=17ak)<formula>formula see original document page 49</formula>在氮?dú)庀?,將?511^甲苯中的26011^(94(^11101,1.25當(dāng)量)的 Ni (COD) 2 和 150mg 的聯(lián)吡啶(940μπιο1,1· 25當(dāng)量)添加到在35mL甲苯中的1. 15g(750 μ mol, 1當(dāng)量)的忍 中。將混合物在80°C下攪拌過夜。然后,將溶液倒在IOOmL 1/1/1的甲醇/丙酮/HCl 4N 混合物中并攪拌1小時(shí)。然后將沉淀過濾,溶于CHCl3*,并與乙二胺四乙酸(EDTA)四鈉 鹽的水溶液在60°C下強(qiáng)烈攪拌另外一小時(shí)。將有機(jī)相用水洗滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通 過使用甲醇、己烷和CHCl3由索格利特萃取純化殘余物。氯仿級(jí)分沉淀在MeOH中,從而獲 得660mgm,其為黑藍(lán)色粉末。收率 66%;Mn = 1. 56 104g. moF1, Mw = 2. 61 104g. moF1, Mz = 4. 75 104g. moF10產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=19<formula>formula see original document page 49</formula>
在氮?dú)庀?,?. OOg(2. 3mmol, 1 當(dāng)量)的 2、0· 584g(2. 3mmol, 1 當(dāng)量)的 bispinacolatodiboran( 二 頻哪醇 二 硼)、53mg(57 μ mol,0. 025 當(dāng)量)的 Pd2dba3、 33mg(115ymol,0. 05 當(dāng)量)的 tBu3PBF4 和 1. 9g(8. 7mmol,4 當(dāng)量)的 K3PO4 與 40mL THF 禾口 8mL水在80°C下攪拌過夜。然后,將溶液倒在IOOmL 1/1/1的甲醇/丙酮/HCl 4N混合物 中并攪拌1小時(shí)。然后將沉淀過濾,溶于CHCl3中,并與氰化鈉水溶液在60°C下強(qiáng)烈攪拌另 外一個(gè)小時(shí)。將有機(jī)相用水洗滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通過使用甲醇、醚和CHCl3由索格 利特萃取純化殘余物。氯仿級(jí)分沉淀在MeOH中,從而獲得1. 3g£4,其為黑色粉末。收率 79%;Mn = 4. 95 104g. moF1, Mw = 2. 00 104g. moF10
產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=70am) <formula>formula see original document page 50</formula>在氮?dú)庀拢瑢?. OOg (1. 15mmol,l 當(dāng)量)的 2、0.386g(l. 15mmol,l 當(dāng)量)的 2,5-雙 (4,4,5,5-四甲基-1,3,2— 二氧雜硼雜環(huán)戊烷-2-基)-噻吩、26mg(29 μ mol,0. 025當(dāng)量) 的 Pd2dba3、17mg(57ymol,0. 05 當(dāng)量)的 tBu3PBF4 和 0. 73g(3. 5mmol,3 當(dāng)量)的 K3PO4 與 20mL THF和3mL水在80°C下攪拌過夜。然后,將溶液倒在60mL 1/1/1的甲醇/丙酮/HCl 4N混合物中并攪拌1小時(shí)。然后,將沉淀過濾,溶于CHCl3中,并與氰化鈉水溶液在60°C下 強(qiáng)烈攪拌另外一小時(shí)。將有機(jī)相用水洗滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通過使用甲醇、醚和CHCl3 由索格利特萃取純化殘余物。氯仿級(jí)分沉淀在MeOH中,從而獲得640mgM,其為黑色粉末。收率71%;Mn = 2. 6 105g. moF1, Mw = 5.9 104g. moF10產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=320an)<formula>formula see original document page 50</formula>在氮?dú)庀?,?.00g(l. 15mmol,l 當(dāng)量)的 l、0.491g(l. 15mmol,l 當(dāng)量)的 5, 5,-雙(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧雜硼雜環(huán)戊烷-2-基)-2,2,-聯(lián)噻吩、261^(2撲11101, 0. 025 當(dāng)量)的 Pd2dba3、17mg(57ymol,0. 05 當(dāng)量)的 tBu3PBF4 和 0. 73g(3. 5mmol,3 當(dāng)量) 的K3PO4與20mL THF和3mL水在80°C下攪拌過夜。然后,將溶液倒在60mL 1/1/1的甲醇 /丙酮/HCl 4N混合物中并攪拌1小時(shí)。然后,將沉淀過濾,溶于CHCl3中,并與氰化鈉水溶 液在60°C下強(qiáng)烈攪拌另外一小時(shí)。將有機(jī)相用水洗滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通過使用甲 醇、醚和CHCl3由索格利特萃取純化殘余物。氯仿級(jí)分沉淀在MeOH中,從而獲得170mg P6, 其為黑色粉末。收率17%;
Mn = 7. 7 103g. mo Γ1, Mw = 5.0 lifg.mor1。產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=8ao)
<formula>formula see original document page 51</formula>在氮?dú)庀拢瑢?. OOg(1. 5mmol,1 當(dāng)量)的叢、0· 387g(l. 5mmol, 1 當(dāng)量)的 bispinacolatodiboran>34mg(38ymol,0. 025 ξ^Μ) ^ Pd2dba3>21mg(76 μ mol,0. 05 ξ^Μ) 的 tBu3PBF4 和 0. 95g (8. 7mmol, 4 當(dāng)量)的 K3PO4 與 25mL THF 和 5mL 水在 80°C下攪拌過夜。 然后,將溶液倒在50mL 1/1/1的甲醇/丙酮/HCl 4N混合物中并攪拌1小時(shí)。然后,將沉 淀過濾,溶于CHCl3中,并與氰化鈉水溶液在60°C下強(qiáng)烈攪拌另外一小時(shí)。將有機(jī)相用水洗 滌、濃縮并在甲醇中沉淀。通過使用甲醇、醚和CHCl3由索格利特萃取純化殘余物。氯仿級(jí) 分沉淀在MeOH中,從而獲得510mg£I,其為黑色粉末。收率 69%;Mn = 3. 2 104g. moF1, Mw = 2.0 104g. moF10產(chǎn)物中的平均單體單元數(shù)=64。應(yīng)用實(shí)施例基于聚合物X、Y和Z的場效應(yīng)晶體管a)實(shí)驗(yàn)在所有實(shí)驗(yàn)中都用帶p-Si柵的底柵薄膜晶體管(TFT)結(jié)構(gòu)。優(yōu)質(zhì)熱SiO2層充當(dāng) 柵絕緣體,單位面積的電容Ci = 32.6nF/cm2。用光刻法直接在柵-氧化物上圖案化源電極 和漏電極(底接觸構(gòu)造)。在各襯底上存在16個(gè)晶體管,以Au源/漏電極界定不同長度的 通道。在沉積有機(jī)半導(dǎo)體之前,用六甲基二硅氮烷(HMDS)或十八烷基三氯硅烷(OTS)衍生 化SiO2表面。薄膜用旋轉(zhuǎn)澆注或液滴澆注在不同溶劑中的實(shí)施例w)、x)、y)中所得的聚合 物制成。晶體管行為在用CSEM精制的自動(dòng)化試驗(yàn)機(jī),即晶體管探測(cè)器TP-10上測(cè)定。b)晶體管性能Pl 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為9 * 10-5cm2/Vso晶體管的閾電壓為大約-7V。晶體管的開/關(guān)電流比為103。P2j 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為2. 5. ^ 10-3cm2/Vso晶體管的閾電壓為-6V。晶體管顯示1. 8 * IO4的良好 的開/關(guān)電流比。 樣品的退火使性能(尤其遷移率)急劇提高,這可與固態(tài)聚合物更好的聚集相關(guān) 聯(lián)。
對(duì)一組暴露在空氣條件下2個(gè)月后的OFET的試驗(yàn)表明穩(wěn)定性非常好,因?yàn)檫w移率 幾乎不變。通常最易出現(xiàn)問題的開/關(guān)電流比僅減小到1/10。P3 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為9. * 10-3cm2/Vso晶體管顯示-5V的閾電壓。晶體管顯示8. 5 * IO4的良好 的開/關(guān)電流比。樣品的退火使性能(尤其是遷移率)顯著提高,這可與固態(tài)聚合物更好的聚集相 關(guān)聯(lián)。對(duì)一組暴露在空氣條件下2個(gè)月后的OFET的試驗(yàn)表明穩(wěn)定性非常好,因?yàn)檫w移率 幾乎不變。開/關(guān)電流比僅減小到1/10。P4 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為2. * 10-5cm2/Vso晶體管顯示3V的閾電壓。晶體管顯示1. 2 * IO4的良好 的開/關(guān)電流比。 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為4. * 10-4cm2/Vso晶體管顯示-13V的閾電壓。晶體管顯示8 * IO3的開/關(guān) 電流比。P6 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為5. * 10-4cm2/Vso晶體管顯示-5V的閾電壓。晶體管顯示7 * IO3的良好的 開/關(guān)電流比。P7 薄膜晶體管呈現(xiàn)ρ-型晶體管行為。從對(duì)飽和傳輸特性平方根的線性擬 合,測(cè)得場 效應(yīng)遷移率為2.1 * 10-2cm2/Vso晶體管顯示-IlV的閾電壓。晶體管顯示6 * IO5的開/ 關(guān)電流比。樣品的退火使性能(尤其遷移率)顯著提高,這可與固態(tài)聚合物更好的聚集相關(guān) 聯(lián)。
權(quán)利要求
一種半導(dǎo)體器件,尤其是二極管、光電二極管、有機(jī)場效應(yīng)晶體管、太陽能電池,或含有二極管和/或光電二極管和/或有機(jī)場效應(yīng)晶體管和/或太陽能電池的器件,其含有包含式(I)的化合物或相應(yīng)的含式(Ia)的重復(fù)單元的低聚物或聚合物、或這種化合物、低聚物或聚合物的互變異構(gòu)體的層其中a、b、c、d、e和f是0-3;A、A’、R1、R2各自獨(dú)立地選自氫;E;C1-C25烷基、C2-C25烯基、C2-C24炔基,各自可任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情況下在任意C,C-單鍵中被D插入;可被E取代,尤其是被C1-C8烷基、C1-C8硫烷氧基或C1-C8烷氧基取代1-3次的環(huán)烷基;或可被未取代的苯基或E取代的,尤其是C1-C4烷基、鹵素、硝基或氰基取代1-3次的苯基稠合1或2次的環(huán)烷基;環(huán)烯基;酮或醛基;酯基;氨基甲?;鶊F(tuán);甲硅烷基;硅氧烷基;Ar10或-CR5R6-(CgH2g)-Ar10,其中g(shù)表示0、1、2、3或4;或R2和Ar1與它們所鍵接的乙烯基部分一起形成環(huán)如芳基或雜芳基,其可任選地被G取代;X是CR,其中R如R1所定義,或者是另外的式(Ib)的酮基吡咯部分下標(biāo)g是0或1,并且在存在的情況下,Ar是通過2個(gè)化學(xué)雙鍵連接到分子的其余部分的四價(jià)殘基,并且選自醌型C6-C10環(huán)體系,如=C6H4=,和式的殘基;Ar1在不與R2連接的情況下和Ar2、Ar2’、Ar3、Ar3’、Ar4、Ar4’和Ar5彼此獨(dú)立地選自具有5-15個(gè)碳原子的二價(jià)碳環(huán)部分、具有2-15個(gè)碳原子和1-8個(gè)選自O(shè)、N、S、Si的雜原子的二價(jià)雜環(huán)部分,所述部分各自含有共軛或交叉共軛的雙鍵和/或叁鍵,或烯屬或炔屬部分,其中這些部分各自是未被取代的或被E取代的;R5和R6彼此獨(dú)立地表示氫、氟、氰基,或可以被氟、氯或溴取代的C1-C4烷基,或可以被C1-C4烷基取代1-3次的苯基,Ar10表示可任選地被G取代的芳基或雜芳基,特別是可被C1-C8烷基、C1-C8硫烷氧基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的苯基或1-或2-萘基;D是-CO-;-COO-;-S-;-SO-;-SO2-;-OP(O)(OR29)O-;-OP(O)(R’29)O-;-O-;-NR25-;-CR23=CR24-;或-C≡C-;和E是-OR29;-SR29;-SOR29;-SO2R29;-NR25R26;-COR28;-COOR27;-CONR25R26;-CN;硝基;-OP(O)(OR29)2;-OP(O)(R’29)2;-Si(R’29)3;或鹵素;G和G’獨(dú)立地是E;可被D插入的C1-C18烷基;或C1-C18烷氧基,其被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下被D插入,其中R23、R24、R25和R26彼此獨(dú)立地為H;C6-C18芳基;被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基;C1-C18烷基;或被-O-插入的C2-C18烷基;R27和R28彼此獨(dú)立地為H;C6-C18芳基;被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基;C1-C18烷基;或被-O-插入的C2-C18烷基;R29是H;C6-C18芳基;被C1-C18烷基或C1-C18烷氧基取代的C6-C18芳基;C1-C18烷基;或被-O-插入的C2-C18烷基;R’29如R29所定義,不同的是R’29不是H。FPA00001113648200011.tif,FPA00001113648200021.tif,FPA00001113648200022.tif
2.權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中Ar1,在不與R2相連的情況下,以及Ar2、Ar2,、Ar3、Ar3,、Ar4、Ar4,和Ar5彼此獨(dú)立地選自<formula>formula see original document page 3</formula>尤其是其中 L 選自 CR7R,7、C = 0、C = NR7、0、S、NR7、SiR17R,17 ;R3在一個(gè)基團(tuán)內(nèi)可以相同或不同,且選自氫;殘基E ;可任選被E取代和/或在含有2個(gè) 或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的烷基;可任選地被G取代的C6-C24 芳基;可任選地被G取代的C2-C2(l雜芳基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更 多個(gè)碳原子的情況下可任選地被D插入的烷氧基;C7-C25芳烷基,其中芳烷基中的芳 基可任選地被G取代;或-C0-R28 ;或彼此相鄰的2個(gè)或更多個(gè)R3基團(tuán)形成環(huán);R4、R4’、R7和R7’彼此獨(dú)立地表示氫;殘基E ;可任選被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的烷基;可任選地被G取代的C6_C24芳基; 可任選地被G取代的C2-C2(l雜芳基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè) 碳原子的情況下可任選地被D插入的烷氧基;C7-C25芳烷基,其中芳烷基中的芳基可 任選地被G取代;或-C0-R28 ;或R4和R4,形成環(huán); 以及R17和R,17如R29所定義。
3.權(quán)利要求1或2的半導(dǎo)體器件,其中各芳基選自苯基和噻吩基。
4.權(quán)利要求1、2或3的半導(dǎo)體器件,其中A和A’獨(dú)立地選自氫;(^-(25烷基或C2-C25 烯基,各自可任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情況下在C,C-單鍵中被D插入; Ar10 或 _CR5R6_(CH2)g_Ar10;Ar1Q選自苯基和噻吩基;D 是-S- ;-0- ;-CR23 = CR24-;禾口E 是-OR29 ;-SR29 ;-NR25R26 ;-CN ;或鹵素;G和G’獨(dú)立地是E ;可被D插入的CrC18烷基;或CrC18烷氧基,其被E取代和/或在 含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳原子的情況下被D插入,其中R23、R24、R25和R26彼此獨(dú)立地是H ;苯基;噻吩基;被C「C18烷基或C「C18烷氧基取代的 苯基或噻吩基烷基;R29是H ;苯基;噻吩基;被Ci-Q烷基或Ci-Q烷氧基取代的苯基或噻吩基A-Q烷基;R,29如R29所定義,不同的是R,29不是H。
5.權(quán)利要求1或4的半導(dǎo)體器件,其中式⑴或(la)的化合物符合式(Ila)、(lib)、 (lie)、(lid)、(lie)或(Ilf)<formula>formula see original document page 5</formula>符號(hào)如權(quán)利要求1中所定義。
6.權(quán)利要求1、2或5的半導(dǎo)體器件,其中式(I)或(la)的化合物符合式(Ilia)或 (Illb)<formula>formula see original document page 6</formula>符號(hào)如權(quán)利要求1、2或5所定義。
7.上述權(quán)利要求任一項(xiàng)的半導(dǎo)體器件,含有式(la)、(lib)、(lid)和/或(Illb)的低 聚或聚合半導(dǎo)體化合物,含有A部分作為均低聚物或均聚物鏈的端基,所述端基A、A’獨(dú)立 地選自氫;(^-(25烷基或C2-C25烯基,各自可任選地,被E取代和/或在存在C,C-單鍵的情 況下在C,C-單鍵中被D插入;Ar1Q或-CR5R6- (CH2) g-Ar10 ;其中R5和R6彼此獨(dú)立地表示氫、氟或可被氟取代的Q-Q烷基,和 Ar10表示下式基團(tuán)<formula>formula see original document page 6</formula>、 、S'、R\ 或 z、S八R4'或 R4.,、S,p表示0、1、2或3 ;R3在一個(gè)基團(tuán)內(nèi)可以相同或不同并選自各自可被E取代的烷基、烷氧基; 或者是-CO-R28 ;或彼此相鄰的兩個(gè)或更多個(gè)R3基團(tuán)形成稠合的5元或6元碳環(huán);R4、R4’和R4"獨(dú)立地表示氫、可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其是更多個(gè)碳 原子的情況下可任選被D插入的烷基;可任選地被E取代和/或在含有2個(gè)或尤其 是更多個(gè)碳原子的情況下可任選被D插入的CfC18烷氧基;C7-C15苯基烷基,其中苯基可任 選地被G取代,或-CO-R28。
8.包含至少4個(gè)下式的重復(fù)單元的低聚物或聚合物<formula>formula see original document page 6</formula>其中<formula>formula see original document page 7</formula>其中符號(hào)如權(quán)利要求i中所定義。
9.制備有機(jī)半導(dǎo)體器件的方法,所述方法包括將根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)的式(I)和 /或(la)的化合物在有機(jī)溶劑中的溶液和/或分散體涂布在合適的襯底上并除去溶劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)的式(I)和/或(la)的化合物作為電荷輸送、半導(dǎo)、電 導(dǎo)、光導(dǎo)、光發(fā)射材料、表面改性材料、電池內(nèi)的電極材料、取向?qū)樱蛟贠FET、IC、TFT、顯示 器、RFITD標(biāo)志、電致或光致發(fā)光裝置、顯示器的背光、光生伏打或傳感裝置、電荷注入層、 Schottky 二極管、儲(chǔ)存裝置(例如FeFET)、平面化層、抗靜電、導(dǎo)電襯底或圖案、光導(dǎo)體或電 子照相應(yīng)用(記錄)中的用途。
全文摘要
包含至少一個(gè)式(Ia)部分的單體或聚合化合物,其中X是CR,其中R是H或如權(quán)利要求1所定義的取代基,或者是另外的酮基吡咯部分,例如式(Ib)或(Ic)的酮基吡咯部分,該部分和所有其它符號(hào)如權(quán)利要求1所定義,所述化合物呈現(xiàn)良好的有機(jī)溶劑溶解性和優(yōu)異的成膜性。另外,當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明的聚合物用于半導(dǎo)體器件或有機(jī)光生伏打(PV)器件(太陽能電池)時(shí),可以觀察到高的能量轉(zhuǎn)換效率、優(yōu)異的場效應(yīng)遷移率、良好的開/關(guān)電流比和/或優(yōu)異的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)H01L51/00GK101835821SQ200880113045
公開日2010年9月15日 申請(qǐng)日期2008年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月25日
發(fā)明者F·比恩尼沃爾德, H·J·科奈爾, J-C·弗洛里斯, M·G·R·特比茲, U·伯倫斯 申請(qǐng)人:巴斯夫歐洲公司
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