專利名稱：移動體驅(qū)動方法及移動體驅(qū)動系統(tǒng)、圖案形成方法及裝置、曝光方法及裝置、以及組件制 ...的制作方法
移動體驅(qū)動方法及移動體驅(qū)動系統(tǒng)、 圖案形成方法及裝置、曝光方法及裝置、以及組件制造方法技術(shù)領(lǐng)域
第7本發(fā)明的用能量束使物體曝光的第4曝光方法，其特征在于在表面設(shè)有柵格部、且至少能在規(guī)定平面內(nèi)正交的第1及第2方向移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜的移動體上，以與上述表面成為大致面高相同的狀態(tài)裝載上述物體，根據(jù)具有與上述移動體的表面相對向配置的讀頭單元、測量在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息的編碼器系統(tǒng)的測量信息，及用于補(bǔ)償因在與上述規(guī)定平面正交的第3方向的上述移動體的表面與上述柵格部的柵格面的間隙產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置。00221據(jù)此，不受因在與規(guī)定平面正交的第3方向的移動體的表 面與柵格部的柵格面的間隙產(chǎn)生的編碼器系統(tǒng)的測量誤差的影響，即可使用編碼器系統(tǒng)高精度地控制在規(guī)定平面內(nèi)的移動體的位置，或能 高精度地使移動體上的物體曝光。
第IO本發(fā)明的圖案形成裝置，其特征在包括于移動體， 裝載有物體，可保持上述物體在移動面內(nèi)移動；以及權(quán)利要求52至57中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，為了對上述物體形成圖案，驅(qū) 動上述移動體。
圖l是以概略方式表示一個實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的構(gòu)成的圖。圖2是表示

圖1的載臺裝置的俯視圖。圖3是表示圖1的曝光裝置所具備的各種測量裝置(編碼器、對 準(zhǔn)系統(tǒng)、多點(diǎn)AF系統(tǒng)、Z傳感器等)的配置的俯視圖。圖4(A)是表示晶片載臺的俯視圖，圖4(B)是表示晶片載臺WST 的部分截面的概略側(cè)視圖。圖5(A)是表示測量載臺的俯視圖，圖5(B)是表示測量載臺的部 分截面的概略側(cè)視圖。圖6是表示一個實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的控制系統(tǒng)的主要構(gòu)成的 方塊圖。圖7(A)及圖7(B)是用于說明分別包含配置成數(shù)組狀的多個讀頭 的多個編碼器對晶片臺在XY平面內(nèi)的位置測量及讀頭間的測量值的 接續(xù)的圖。圖8(A)是表示編碼器的構(gòu)成的一例的圖，圖8(B)是用于說明此 測量誤差所產(chǎn)生的構(gòu)造的圖，且是用于說明編碼器讀頭內(nèi)的光束對反射型衍射光柵的入射光、繞射光的關(guān)系的圖。圖9(A)是表示即使在編碼器的讀頭與標(biāo)尺之間產(chǎn)生在非測量方 向的相對運(yùn)動時計(jì)數(shù)值也不會變化的情況的圖，圖9(B)是表示在編碼 器的讀頭與標(biāo)尺之間產(chǎn)生在非測量方向的相對運(yùn)動時計(jì)數(shù)值變化的 情形的一例的圖。圖10(A) 圖IO(D)是用于說明在讀頭與標(biāo)尺之間產(chǎn)生在非測量方 向的相對運(yùn)動時，編碼器的計(jì)數(shù)值變化的情形與計(jì)數(shù)值不變化的情形 的圖。圖ll(A)及圖ll(B)是用于說明用于取得修正信息的動作的圖， 該修正信息用于修正因向非測量方向的讀頭與標(biāo)尺的相對運(yùn)動而產(chǎn) 生的編碼器(第1編號的編碼器)的測量誤差。圖12是表示縱搖量0x - a時編碼器對Z位置變化的測量誤差的圖表。圖13是用于說明用于取得修正信息的動作的圖，該修正信息用于修正因向非測量方向的讀頭與標(biāo)尺的相對運(yùn)動而產(chǎn)生的另一編碼器(第2編號的編碼器)的測量誤差。圖14是用于說明讀頭位置的校正處理的圖。圖15是用于說明用于求出阿貝偏移量的校正處理的圖。圖16是用于說明用多個讀頭測量同 一標(biāo)尺上的多個測量點(diǎn)時產(chǎn)生的不良情形的圖。圖17是用于說明測量標(biāo)尺凹凸的方法的圖(其1)。圖18(A) 圖18(D)是用于說明測量標(biāo)尺凹凸的方法的圖(其2)。圖19是用于說明標(biāo)尺的柵格間距的修正信息及柵格變形的修正信息的取得動作的圖。圖20(A)及圖20(B)是用于說明將修正后的編碼器的測量值轉(zhuǎn)換成晶片載臺WST的位置的具體方法的圖。圖21是用于說明晶片栽臺的XY平面內(nèi)的位置控制所使用的編碼器的切換處理的圖。圖22是概念性地表示晶片載臺的位置控制、編碼器的計(jì)數(shù)值的取得、及編碼器切換的時序的圖。圖23是表示對晶片載臺上的晶片進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的膝光的狀 態(tài)下晶片載臺及測量載臺的狀態(tài)的圖。圖24是表示啄光結(jié)束后，從晶片載臺與測量載臺分離的狀態(tài)移 行至兩載臺彼此接觸的狀態(tài)后的兩載臺的狀態(tài)的圖。圖25是表示一邊保持晶片臺與測量臺在Y軸方向的位置關(guān)系、 一邊使測量載臺向-Y方向移動且使晶片載臺往卸載位置移動時兩載 臺的狀態(tài)的圖。圖26是表示測量載臺在到達(dá)將進(jìn)行Sec—BCHK(時距)的位置時 晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。圖27是表示與進(jìn)行Sec—BCHK(時距)同時將晶片載臺從卸載位 置移動至裝載位置時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。圖28是表示測量載臺向最佳急停待機(jī)位置移動、晶片裝載在晶 片臺上時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。圖29是表示測量載臺在最佳急停待機(jī)位置待機(jī)中、晶片載臺向 進(jìn)行Pri - BCHK前半處理的位置移動時兩載臺的狀態(tài)的圖。圖30是表示使用對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL22， AL23,來同時檢測附設(shè)于 三個第一對準(zhǔn)照射區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記時晶片栽臺與測量載臺的狀態(tài)的 圖。圖31是表示進(jìn)行聚焦校正前半處理時晶片載臺與測量載臺的狀 態(tài)的圖。圖32是使用對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24，來同時檢測附設(shè)于五 個第二對準(zhǔn)照射區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。圖33是表示在進(jìn)行Pri-BCHK后半處理及聚焦校正后半處理 的至少一個時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。圖34是表示使用對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24，來同時檢測附設(shè) 于五個笫三對準(zhǔn)照射區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài) 的圖。圖35是表示使用對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL22， AL23，來同時檢測附設(shè)于三個第四對準(zhǔn)照射區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的 圖。圖36是表示聚焦映射結(jié)束時晶片載臺與測量載臺的狀態(tài)的圖。 圖37是用于說明組件制造方法的實(shí)施形態(tài)的流程圖。 圖38是表示圖37的步驟204的具體例的流程圖。 附圖標(biāo)記說明AF:檢測區(qū)域；AL1:第一對準(zhǔn)系統(tǒng)；AL2" AL22， AL23， AL24: 第二對準(zhǔn)系統(tǒng)；AR:區(qū)域；AX:光軸；B1~B4:測長光束；B一， B42: 測長光束；B5h B52:測長光束；B6， B7:測長光束；CL:中心線； CT:上下動銷；Encl~Enc4:編碼器；FM:基準(zhǔn)標(biāo)記；IA:曝光區(qū) 域；IAR:照明區(qū)域；IL:瀑光用照明光；LB:激光束；LB!， LB2: 光束；LD:半導(dǎo)體激光；LH, LV:直線；LL， LW:中心軸；LP: 裝載位置；Lq:液體；LI:收束透鏡；L2a， L2b:透鏡；M:基準(zhǔn) 標(biāo)記；MA，MB:向量；MST:測量載臺；MTB:測量臺；O:旋轉(zhuǎn) 中心；PBS:偏光分束器；PL:投影光學(xué)系統(tǒng)；PU:投影單元；Pl5 P2: 測量點(diǎn)；R:標(biāo)線片；RG:反射型衍射光柵；RST:標(biāo)線片載臺；Rla， Rlb， R2a， R2b:反射鏡；SL:空間像測量狹縫圖案；UP:卸載位 置；W:晶片；WPla， WPlb:四分之一波長板；WST:晶片載臺； WTB:晶片臺；5:液體供應(yīng)裝置；6:液體回收裝置；8:局部液浸 裝置；10:照明系統(tǒng)；11:標(biāo)線片載臺驅(qū)動系統(tǒng)；12:基座；14:液 浸區(qū)域；15， 41:移動鏡；16， 18: Y千涉儀；17a， 17b:反射面； 19a， 19b:反射面；20:主控制裝置；28:板體；28a:第1疏液區(qū) 域；28b:第2疏液區(qū)域；30:測量板；31A:液體供應(yīng)管；31B:液 體回收管；32:噴嘴單元；34:內(nèi)存；36:框體；37， 38:柵格線； 39X:標(biāo)尺；39X" 39X2: X標(biāo)尺；39Y" 39Y2: Y標(biāo)尺；40:鏡筒； 41a， 41b， 41c:反射面；42:安裝構(gòu)件；43A， 43B: Z千涉儀；44: 受光系統(tǒng)；45:空間像測量裝置；46: CD桿；47A， 47B:固定鏡； 50:載臺裝置；52:基準(zhǔn)柵格；54:支持構(gòu)件；56,， 564:臂；58, ~ 584:真空墊；60! 604:旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)；62A~62D:讀頭單元；64:Y讀頭；64a:照射系統(tǒng)；64b:光學(xué)系統(tǒng)；64c:受光系統(tǒng)；64A2， 64A3， 64A4: Y讀頭；64C3, 64C4， 64c5: Y讀頭；64y" 64y2: Y讀頭；66: X讀頭；66A， 66B:讀頭；68:調(diào)整裝置；70A， 70C: Y線性編碼 器；70B， 70D: X線性編碼器；70E， 70F: Y軸線性編碼器；72a ~ 72d: Z傳感器；74l i ~ 742, 6: Z傳感器；76^- 762,6: Z傳感器； 78:局部空調(diào)系統(tǒng)；80， 81: X軸固定件；82， 83， 84， 85: Y軸可 動件；86， 87: Y軸固定件；卯a(chǎn):照射系統(tǒng)；卯b:受光系統(tǒng)；91， 92:載臺本體；94:照度偏差傳感器；96:空間像測量器；98:波面 像差測量器；99:傳感器群；100:曝光裝置；116:標(biāo)線片激光干涉 儀；118:干涉儀系統(tǒng)；124:載臺驅(qū)動系統(tǒng)；126 ~ 128， 130: X干涉 儀；191:前端透鏡。
具體實(shí)施方式
返回到圖1，所述載臺裝置50，具備配置于基座12上方 的晶片載臺WST及測量載臺MST、包含測量這些載臺WST， MST 的位置信息的Y干涉儀16， 18的干涉儀系統(tǒng)118(參照圖6)、在爆光時 等用于測量晶片載臺WST的位置信息的后述編碼器系統(tǒng)、及驅(qū)動載 臺WST， MST等的載臺驅(qū)動系統(tǒng)124(參照圖6)。
在本實(shí)施形態(tài)中，構(gòu)成載臺驅(qū)動系統(tǒng)124的上述各線性馬 達(dá)由圖6所示的主控制裝置20來控制。此外，各線性馬達(dá)，并不限 于動磁型或移動線圏型的任何一方，能根據(jù)需要來適當(dāng)選擇。
另外，如圖4(B)所示，在其內(nèi)部收納有光學(xué)系統(tǒng)(包含物鏡、 反射鏡、中繼透鏡等)的L字形框體36，以從晶片臺WTB貫通載臺 本體91內(nèi)部一部分的狀態(tài)，安裝成一部分埋設(shè)于上述各空間像測量 狹縫圖案SL下方的晶片載臺WST部分的狀態(tài)。雖省略圖示，但框 體36與上述一對空間像測量狹縫圖案SL對應(yīng)設(shè)置有一對。0067上述框體36內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)，將從上方往下方透射過空 間像測量狹縫圖案SL的照明光IL沿L字形路徑導(dǎo)引，并朝向-Y 方向射出。此外，以下為了方便說明，使用與框體36相同的符號將上迷框體36內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)記述為送光系統(tǒng)36。
此外，在標(biāo)尺端的附i^設(shè)有用于決定后述編碼器讀頭與標(biāo) 尺間的相對位置的位置導(dǎo)出圖案。此位置導(dǎo)出圖案由反射率不同的柵 格線構(gòu)成，編碼器讀頭掃描于此圖案上時，編碼器的輸出信號的強(qiáng)度 會改變。因此，預(yù)先設(shè)定臨限值，檢測輸出信號的強(qiáng)度超過該臨限值 的位置。以此檢測出的位置為基準(zhǔn)，設(shè)定編碼器讀頭與標(biāo)尺間的相對 位置。
本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置100，雖在圖1中為了避免圖式過 于復(fù)雜而予以省略，但實(shí)際上如圖3所示，配置有笫一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1, 該第一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1在通過投影單元PU的中心(與投影光學(xué)系統(tǒng)PL 的光軸AX—致，在本實(shí)施形態(tài)中也與前迷曝光區(qū)域IA的中心一致) 且與Y軸平行的直線LV上，從該光軸向-Y側(cè)相隔規(guī)定距離的位置 具有檢測中心。此第一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1經(jīng)由支持構(gòu)件54固定于未圖示 主框架的下面。夾著此第一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的X軸方向一側(cè)與另一側(cè)， 分別設(shè)有其檢測中心相對該直線LV配置成大致對稱的第二對準(zhǔn)系統(tǒng) AL2" AL22與AL23， AL24。即，五個對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AI^ ~ AL24的檢 測中心，在X軸方向配置于不同的位置，即沿X軸方向配置。0109各第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n(n-l~4)，如代表性地表示的第二 對準(zhǔn)系統(tǒng)AL24那樣，固定于能以旋轉(zhuǎn)中心O為中心向圖3中的順時 針及逆時針方向旋動規(guī)定角度范圍的臂5611(11- 1 ~4)的前端(旋動端)。 在本實(shí)施形態(tài)中，各第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的一部分(例如至少包含將對 準(zhǔn)光照射于檢測區(qū)域、且將檢測區(qū)域內(nèi)的對象標(biāo)記所產(chǎn)生的光導(dǎo)引至 受光元件的光學(xué)系統(tǒng))固定于臂56n，剩余的一部分則設(shè)于用于保持投 影單元PU的主框架。第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2" AL22, AL23， AL24能通過 分別以旋轉(zhuǎn)中心O旋動來調(diào)整X位置。即，笫二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i， AL22， AL23, AL24的檢測區(qū)域(或檢測中心)能獨(dú)立移動于X軸方向。因此， 笫 一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2h AL22, AL23， AL24能調(diào)整其 檢測區(qū)域在X軸方向的相對位置。此外，在本實(shí)施形態(tài)中，雖通過臂 的旋動來調(diào)整第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2l5 AL22， AL23， AL24的X位置，但并 不限于此，也可設(shè)置將第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2" AL22， AL23， AL24往返驅(qū) 動于X軸方向的驅(qū)動機(jī)構(gòu)。另外，第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2h AL22， AL23, AL24的至少一個也可不僅可移動于X軸方向而也可移動于Y軸方向。此外，由于各第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的一部分通過臂56 來移動，因此 可通過未圖示傳感器例如干涉儀或編碼器等來測量固定于臂56n的一 部分的位置信息。此傳感器可僅測量第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n在X軸方向 的位置信息，也能使其可測量其它方向例如Y軸方向及/或旋轉(zhuǎn)方向 (包含ex及ey方向的至少一方)的位置信息。0110j在前述各臂56 上面，設(shè)有由差動排氣型的空氣軸承構(gòu)成 的真空墊58n(n = l~4)。另外，臂56n，例如通過包含馬達(dá)等的旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動機(jī)構(gòu)60n(n-l~4，圖3中未圖示，參照圖6)，可依照主控制裝 置20的指示來旋動。主控制裝置20在臂56 的旋轉(zhuǎn)調(diào)整后，使各真 空墊58 動作以將各臂56 吸附固定于未圖示主框架。由此，即可維 持各臂56n的旋轉(zhuǎn)角度調(diào)整后的狀態(tài)，也即維持相對第一對準(zhǔn)系統(tǒng) AL1的4個第二對準(zhǔn)系統(tǒng)AL2! AL24的所希望的位置關(guān)系。
本實(shí)施形態(tài)的第一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及4個第二對準(zhǔn)系統(tǒng) AL2i ~ AL24 ，可4吏用例如影^象處理方式的FIA(Field Image Alignment(場像對準(zhǔn)))系統(tǒng)的傳感器，其能將不會使晶片上的抗蝕劑 感光的寬頻檢測光束照射于對象標(biāo)記，并用攝影組件(CCD(電荷耦合組件)等)拍攝通過來自該對象標(biāo)記的反射光而成像于受光面的對象標(biāo) 記像、及未圖示的指針(設(shè)于各對準(zhǔn)系統(tǒng)內(nèi)的指針板上的指針圖案)像， 并輸出這些的攝像信號。來自第一對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及4個第二對準(zhǔn)系統(tǒng) AL2廣AL24各自的攝像信號，供應(yīng)至圖6的主控制裝置20。
在圖8(B)中，用反射鏡Rla反射的光束LBi以角度e^射 入到反射型衍射光柵RG,而在931產(chǎn)生ria次繞射光。接著，被反射 鏡R2a反射而沿返路的返回光束以角度0al射入到反射型衍射光柵 RG。接著再次產(chǎn)生繞射光。此處，以角度0an產(chǎn)生而沿原來光路射向 反射鏡Rla的繞射光是與在往路產(chǎn)生的繞射光相同次數(shù)的na次繞射光。
此處，編碼器構(gòu)成為可滿足光路差A(yù)L-O及下式(8)所示 對稱性。
其次，主控制裝置20,以與上述使縱搖量變化的情形同樣 的順序，將晶片載臺WST的縱搖量及橫搖量均維持于零，并將晶片 載臺WST的偏搖量9z在-200nrad < < + 200nrad的范圍按順序 變化，并在各位置，使晶片臺WTB(晶片載臺WST)在規(guī)定范圍內(nèi)、 例如-100fim +100^1111的范圍內(nèi)驅(qū)動于2軸方向，在該驅(qū)動中以規(guī) 定取樣間隔按順序取得讀頭的測量值，并儲存于內(nèi)部存儲器。在所有 讀頭64或66進(jìn)行上述測量，并以與前述相同的順序，將內(nèi)部存儲器 內(nèi)的各數(shù)據(jù)描繪于以橫軸為Z位置、縱軸為編碼器計(jì)數(shù)值的二維坐標(biāo) 上，按順序連結(jié)偏搖量為相同時的描繪點(diǎn)，通過以偏搖量為零的線(中 央的橫線)通過原點(diǎn)的方式使橫軸位移，即能得到與圖12相同的圖表。 接著，主控制裝置20將所得到的圖表上各點(diǎn)的偏搖量ez、 Z位置、 測量誤差作成數(shù)據(jù)表，并將該數(shù)據(jù)表作為修正信息儲存于內(nèi)存34?；?者，主控制裝置20將測量誤差設(shè)為Z位置z、偏搖量ez的函數(shù)，通 過例如最小平方法算出未定系數(shù)，以求出其函數(shù)，來并將該函數(shù)作為 修正信息儲存于內(nèi)存34。
此處，當(dāng)晶片載臺WST的縱搖量不為零，且偏搖量不為 零時，晶片載臺WST在Z位置z時的各編碼器的測量誤差，可考慮 為在該在Z位置z時與上述縱搖量對應(yīng)的測量誤差、及與上述偏搖量 對應(yīng)的測量誤差的單純的和(線性和)。其原因在于，經(jīng)^^莫擬的結(jié)果， 可知使偏搖量變化的情形下，測量誤差(計(jì)數(shù)值)也會隨著Z位置的變 化而線性變化。〖0179以下，為了簡化說明，對各Y編碼器的Y讀頭，求出以下 式(10)所示表示測量誤差A(yù)y的晶片載臺WST的縱搖量ex、偏搖量 0z、 Z位置z的函數(shù)，并儲存于內(nèi)存34內(nèi)。并對各X編碼器的X讀 頭，求出以下式(ll)所示表示測量誤差A(yù)x的晶片載臺WST的橫搖量 0y、偏搖量9z、 Z位置z的函數(shù)，并儲存于內(nèi)存34內(nèi)。
為了修正上述誤差，必須正確求出各標(biāo)尺的面(光柵表面) 相對晶片載臺WST的基準(zhǔn)面的高度的差(所謂阿貝偏移量)。其原因在 于，為了修正因上述阿貝偏移量造成的阿貝誤差，必須使用編碼器系 統(tǒng)正確控制晶片栽臺WST在XY平面內(nèi)的位置?？紤]到這點(diǎn)，在本 實(shí)施形態(tài)中，主控制裝置20進(jìn)行以下述步驟求出上述阿貝偏移量的 校正。
首先，開始此校正處理時，主控制裝置20驅(qū)動晶片載臺 WST，使Y標(biāo)尺39Yi，39Y2分別位于讀頭單元62A，62C的下方。此 時，例如，如圖15所示，使讀頭單元62A的從左數(shù)來第三個Y讀頭 64A3，在取得上述載臺位置起因誤差修正信息時，相對向于Y標(biāo)尺 39Yi上的特定區(qū)域AR。另外，此時，如圖15所示，使讀頭單元62C 的從左數(shù)第四個Y讀頭64c4，在取得上述載臺位置起因誤差修正信息 時，相對向于Y標(biāo)尺39Y2上的特定區(qū)域。0195I接著，主控制裝置20根據(jù)使用上述測長光束B化B42及 B3的Y干涉儀16的測量結(jié)果、當(dāng)晶片載臺WST的相對XY平面的 Gx方向的位移(縱搖量)A9x不為0時，根據(jù)干涉儀系統(tǒng)118的Y干 涉儀16的測量結(jié)果，使晶片載臺WST繞通過曝光中心的X軸的平 行軸傾斜，以使其縱搖量Aex為O。此時，由于千涉儀系統(tǒng)118的各 干涉儀完成所有修正，因此可控制此種晶片載臺WST的縱搖。
同樣地，由上式(14)， (15)可知，當(dāng)將晶片載臺WST的橫 搖量設(shè)為(l)y時，伴隨晶片載臺WST的橫搖的X編碼器70B， 70D的 阿貝誤差A(yù)AB， AAd，能以次式(18)， (19)表示。
另外，如圖16所示，當(dāng)用例如多個讀頭66A， 66B測量同 一標(biāo)尺39X上的多個測量點(diǎn)Pi, P2時，該多個讀頭66A， 66B的光軸傾 斜會不同，且當(dāng)于標(biāo)尺39X表面存在有凹凸(包含傾斜)時，從圖16中的厶X^厶XB可清楚得知，因該傾斜差異而使凹凸對測量值的影響，于各讀頭均不同。因此，為了排除此影響的差異，有必要先求出標(biāo)尺 39X表面的凹凸。此標(biāo)尺39X表面的凹凸，雖可使用例如前述Z傳感 器等編碼器以外的測量裝置來測量，但在此種情形下，會因該測量裝 置的測量分辨率不同而使凹凸的測量精度受限，因此為了以高精度測 量凹凸，有可能需使用比原本目的所需的傳感器更高精度且更昂貴的 傳感器，來作為Z傳感器。
(e)主控制裝置20以與上述同樣的方式，分別求出表示Y 標(biāo)尺39Y2的凹凸的函數(shù)z = f2(y)、表示X標(biāo)尺39Xt的凹凸的函數(shù)z -g"X)、及表示X標(biāo)尺39X2的凹凸的函數(shù)z-g2(X)，并儲存于內(nèi)存 34。此外，x是以X干涉儀126測量的晶片載臺WST的X坐標(biāo)。
其次，主控制裝置20,以可忽視Y干涉儀16的測量值的 短期變動程度的低速并將X干涉儀126的測量值固定于規(guī)定值，且根 據(jù)Y干涉儀16及Z干涉儀43A，43B的測量值，使縱搖量、橫搖量、 及偏搖量均維持于零的狀態(tài)下，將晶片載臺WST如圖19中箭頭F，F(xiàn)， 所示，在前述有效移動范圍內(nèi)移動于+丫方向及-Y方向的至少一方 向。在此移動中，主控制裝置20分別使用上述函數(shù)z-fKy)、函數(shù)z - f"y)來修正Y線性編碼器70A， 70C的測量值(輸出)，且以規(guī)定取樣 間隔取得該修正后的測量值與Y干涉儀16的測量值(更正確而言，為 測長光束B化B42的測量值)，并根據(jù)該取得的各測量值求出Y線性 編碼器70A, 70C的測量值(與編碼器70A的輸出-函數(shù)f"y)對應(yīng)的測 量值、與編碼器70C的輸出-函數(shù)f2(y)對應(yīng)的測量值)與Y干涉儀16 的測量值的關(guān)系。即，主控制裝置20，求出隨著晶片栽臺WST的移 動而按順序相對向配置于讀頭單元62A及62C的Y標(biāo)尺39Yh 39Y2 的柵格間距(相鄰的柵格線的間隔)及該柵格間距的修正信息。該柵格 間距的修正信息，例如當(dāng)以橫軸為干涉儀的測量值，以縱軸為編碼器的測量值(起因于標(biāo)尺面的凹凸的誤差經(jīng)修正的測量值)時，可求出為將雙方關(guān)系以曲線表示的修正圖等。此時Y干涉儀16的測量值由于 是以前述極低速掃描晶片載臺WST時所得的值，因此不但不包含長 期性變動誤差，也幾乎不包含因空氣晃動等導(dǎo)致的短期性變動誤差， 可將其視為可忽視誤差的正確的值。
接著，在批量內(nèi)的處理中，主控制裝置20 —邊根據(jù)前述 柵格間距的修正信息及上述柵格線38的變形(彎曲)的修正信息、及通 過干涉儀系統(tǒng)118所測量的晶片載臺WST的與Z位置、縱搖量』ex 及偏搖量J0z對應(yīng)的栽臺位置起因誤差修正信息，以及因Y標(biāo)尺39Yi 39Y2表面的阿貝偏移量產(chǎn)生的載臺WST的縱搖量」0x對應(yīng)的阿貝誤 差修正信息，修正讀頭單元62A， 62C所得到的測量值(也即編碼器70A, 70C的測量值)， 一邊使用Y標(biāo)尺39Y!， 39Y2與讀頭單元62A， 62C、 也即使用Y線性編碼器70A, 70C來進(jìn)行晶片載臺WST往Y軸方向 的移動控制。由此，可不受Y標(biāo)尺的柵格間距隨時間的變化及構(gòu)成Y 標(biāo)尺的各柵格(線)的彎曲的影響，且不受晶片載臺WST在非測量方向 的位置變化(讀頭與標(biāo)尺在非測量方向的相對運(yùn)動)的影響，且不受阿 貝誤差的影響，使用Y線性編碼器70A, 70C以高精度控制晶片載臺 WST在Y軸方向的移動。
此外，在上述說明中，雖對Y標(biāo)尺、X標(biāo)尺均進(jìn)行柵格間 距、以及柵格線彎曲的修正信息的取得，但并不限于此，也可僅對Y 標(biāo)尺及X標(biāo)尺的任一方進(jìn)行柵格間距及柵格線彎曲的修正信息的取 得，或也可對Y標(biāo)尺及X標(biāo)尺雙方進(jìn)行柵格間距、柵格線彎曲中任 一方的修正信息的取得。當(dāng)例如僅進(jìn)行X標(biāo)尺的柵格線37彎曲的修 正信息的取得時，也可不使用Y干涉儀16,而僅根據(jù)Y線性編碼器 70A，70C的測量值來^f吏晶片載臺WST移動于Y軸方向。同樣地，當(dāng) 例如僅進(jìn)行Y標(biāo)尺的柵格線38彎曲的修正信息的取得時，也可不使 用X干涉儀126，而僅根據(jù)X線性編碼器70B, 70D的測量值來使晶 片載臺WST移動于X軸方向。另外，也可僅補(bǔ)償前述載臺位置起因 誤差、因標(biāo)尺(例如柵格面的平面度(平坦性)、及/或柵格的形成誤差 (包含間距誤差、柵格線彎曲等))而產(chǎn)生的編碼器測量誤差(以下，也稱 為標(biāo)尺起因誤差)的任一個。
Cx-r，'ex， …(20a) CY = r， ey， …(20b)此處的ex，、 ey，是晶片載臺WST的相對坐標(biāo)系統(tǒng)(X，， Y，， 6z，)中 的X，， Y，單位向量，其與基準(zhǔn)坐標(biāo)系統(tǒng)(X, Y, ez)中的X， Y單位向量 ex, ey有下式(21)的關(guān)系。0243數(shù)式1K丫 、e力—sin& cos&、％…(21)
d = - (Pi - X)sin0z + - Y)cos0z…(23a) C2 = - (p2 - X)sin0z + (q2 - Y)cos0z…(23b) C3 = (p3 — X)cos0z + (q3 — Y)sinez…(23c)
主控制裝置20，首先根據(jù)編碼器Encl、 Enc2、及Enc3 的測量值d， C2， C3，解開上述聯(lián)立方程式(23a) (23c)，算出晶片栽 臺WST在XY平面內(nèi)的位置信息(X， Y， 0z)。
因此，在本實(shí)施形態(tài)中，主控制裝置20，根據(jù)晶片載臺 WST的移動路徑(目標(biāo)軌道)，將從用于測量晶片載臺WST在XY平 面內(nèi)3自由度(X，Y， ez)方向的位置信息的三個編碼器(讀頭)的切換(三 個讀頭的組合(例如編碼器Encl， Enc2及Enc3))，切換至另外三個讀 頭的組合(例如Enc4， Enc2及Enc3)、及切換的時序)的動作，預(yù)先進(jìn) 行調(diào)度，并調(diào)度結(jié)果儲存于內(nèi)存34等的記憶裝置。
此外，此處雖以Y讀頭彼此的切換及接續(xù)處理為例進(jìn)行了 說明，但X讀頭彼此的切換及接續(xù)處理，或在X讀頭與Y讀頭之間 屬于不同讀頭單元的兩個讀頭間的切換及接續(xù)處理，也同樣地能說明 為第2方式。0277因此，若簡單說明接續(xù)處理的原理，則為了使晶片載臺 WST的位置測量結(jié)果在切換前后接續(xù)，而預(yù)測新使用的另一讀頭的 測量值，并將該預(yù)測值設(shè)定為第2讀頭的測量值初始值。此處，為了 預(yù)測其它讀頭的測量值，使用理論式(22a)，(22b)，及包含其后停止的切換對象的讀頭在內(nèi)的必要數(shù)目的動作中的讀頭測量值。不過，在進(jìn)行接續(xù)時所需的晶片載臺wsT在ez方向的旋轉(zhuǎn)角，也可使用從干涉儀系統(tǒng)118的測量結(jié)果得到的值。
將第1組合的Y讀頭64e3, 64A的測量值CY3， CYA所依據(jù)的理論式(25a), (25c)代入新使用的Y讀頭64c4的測量值CY3所依據(jù)的理 論式(25b)，即可導(dǎo)出次式(27)。
CY4 = (l-c) CY3 - c CYA…(27)其中，設(shè)定數(shù)c = (p3 - p4) / (qA - q3)。如此，通過將Y讀頭64c3， 64A的測量值分別代入上式(27)右邊的CY3， Cya來求出左迫的CY4，由 此能預(yù)測新使用的Y讀頭64e4的測量值。
因此，在為了測量晶片載臺WST在3自由度(X，Y，9z)方 向的位置而必須使用三個讀頭的前提下，不論本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置 100所采用的標(biāo)尺與讀頭的配置，作為能適用于各種情形的切換及接 續(xù)處理的一般方式，可提出第l方式。接著，根據(jù)本實(shí)施形態(tài)的曝光 裝置100所采用的標(biāo)尺與讀頭的具體配置、以及接續(xù)處理的具體步驟， 在特別的條件下第3方式成立。0289I此外，除了第l方式以外，在上述第2及第3方式的編碼 器讀頭的切換及接續(xù)處理中，預(yù)測新使用的其它讀頭的測量值，并將 該預(yù)測值設(shè)定為其它讀頭的測量值初始值，以在切換前后監(jiān)視的晶片 載臺WST的位置坐標(biāo)可接續(xù)。也可取代此方式，將切換及接續(xù)處理 所產(chǎn)生的測量誤差也包含在內(nèi)算出其它讀頭的測量誤差，以作成該修 正數(shù)據(jù)。接著，在其它讀頭的使用中，使用作成的修正數(shù)據(jù)，以對晶片載臺WST進(jìn)行伺服驅(qū)動控制。此時，可根據(jù)修正數(shù)據(jù)，修正以其 它讀頭測量的晶片載臺WST的位置信息，也可修正用于進(jìn)行伺服控 制的晶片載臺WST的目標(biāo)位置。另外，在曝光動作中，可追隨晶片 載臺WST的動作對標(biāo)線片載臺進(jìn)行伺服驅(qū)動控制。因此，也可根據(jù) 修正數(shù)據(jù)，代替晶片載臺WST的伺服控制的方式，修正標(biāo)線片載臺 的追隨伺服控制。另外，根據(jù)這些控制方式，也可直接將切換前的讀 頭測量值設(shè)定為其它讀頭的初始值。此外，在作成修正數(shù)據(jù)時，不限 于編碼器系統(tǒng)，也可適當(dāng)?shù)厥褂酶缮鎯x系統(tǒng)等的本實(shí)施形態(tài)的曝光裝 置所具備的測量系統(tǒng)。
圖23表示對晶片載臺WST上的晶片W(此處例舉某批量 (一批量為25片或50片)中間的晶片)進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光的狀 態(tài)。此時的測量載臺MST，雖也可于可避免與晶片載臺WST沖撞的 退開位置待機(jī)，但本實(shí)施形態(tài)中與晶片載臺WST保持規(guī)定距離追隨 移動。因此，在曝光結(jié)束后，在移行至與晶片載臺WST為接觸狀態(tài)(或 接近狀態(tài))時的測量載臺MST的移動距離，只要與上述規(guī)定距離為相 同距離即足夠。
\1811持續(xù)往+Y方向移動。接著，主控制裝置20使用五個 對準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2! AL24大致同時且個別檢測出附設(shè)于五個第三 對準(zhǔn)照射區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記(參照圖34中的星標(biāo)記)，并將上述五個對準(zhǔn) 系統(tǒng)AL1， AL2t AL24的檢測結(jié)果與進(jìn)4亍該檢測時的上述四個編碼 器中至少三個編碼器的測量值(經(jīng)前述各修正信息修正后的測量值)以 彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲存于內(nèi)部存儲器。此時，也持續(xù)進(jìn)行聚焦映射。
此外，在上迷實(shí)施形態(tài)中，通過相同曝光裝置，實(shí)施編碼 器的讀頭的切換及測量值的接續(xù)相關(guān)發(fā)明、編碼器系統(tǒng)的各種測量誤 差(例如，載臺位置起因誤差、讀頭起因誤差、標(biāo)尺起因誤差、及阿貝 誤差等)的修正相關(guān)發(fā)明，使用編碼器系統(tǒng)在晶片更換時開始晶片載臺 的位置控制的發(fā)明(編碼器系統(tǒng)的重設(shè)相關(guān)發(fā)明)、與晶片載臺的位置 控制的時序同步進(jìn)行編碼器(讀頭)的切換動作的切換時序相關(guān)發(fā)明、 及根據(jù)晶片載臺的移動路徑將該切換時序加以排程的發(fā)明等。然而， 這些發(fā)明也可個別單獨(dú)、或任意組合來實(shí)施。另外，在上述實(shí)施形態(tài)中，作為曝光裝置的照明光IL，并 不限于波長100nm以上的光，也可4吏用波長未滿100nm的光。例如， 近年來，為了曝光70nm以下的圖案，已進(jìn)行了一種EUV(極紫外光) 曝光裝置的開發(fā)，其用SOR(同步加速器軌道放射光)或電漿激光為光 源來產(chǎn)生軟X線區(qū)域(例如5 ~ 15nm的波長域)的EUV(Extreme Ultra Violet)光，且使用根據(jù)其曝光波長(例如13.5nm)所設(shè)計(jì)的全反射縮 小光學(xué)系統(tǒng)及反射型掩膜。此裝置由于使用圓弧照明同步掃描掩膜與 晶片來進(jìn)行掃瞄曝光的構(gòu)成，因此能將本發(fā)明非常合適地適用于上述裝置。此外，本發(fā)明也適用于使用電子射線或離子光束等的帶電粒子 射線的曝光裝置。
圖38表示半導(dǎo)體組件中該步驟204的詳細(xì)流程例。在圖 38中，步驟211(氧化步驟)使晶片表面氧化。步驟212(CVD(化學(xué)氣相 沉積)步驟)于晶片表面形成絕緣膜。步驟213(電極形成步驟)，通過蒸 鍍將電極形成于晶片上。步驟214(離子植入步驟)將離子植入晶片。 以上步驟211 ~步驟214的各步驟構(gòu)成晶片處理的各階段的前處理步 驟，并根據(jù)各階段所需處理加以選擇并進(jìn)行。0372在晶片處理的各階段中，當(dāng)結(jié)束上述前處理步驟時，即如 以下進(jìn)行后處理步驟。此后處理步驟中，首先，步驟215(抗蝕劑形成 步驟)，將感光劑涂布于晶片。接著，在步驟216(曝光步驟)中，使用 于上說明的曝光裝置(圖案形成裝置)及曝光方法(圖案形成方法)將掩 膜的電路圖案轉(zhuǎn)印于晶片。其次，在步驟217(顯影步驟)中，使曝光 的晶片顯影，在步驟218(蝕刻步驟)中，通過蝕刻除去抗蝕劑殘存部 分以外部分的露出構(gòu)件。接著，在步驟219(抗蝕劑除去步驟)中，除 去結(jié)束蝕刻后不需要的抗蝕劑。[0373通過反復(fù)進(jìn)行這些前處理步驟及后處理步驟，來在晶片上 形成多重電路圖案。[0374由于只要使用于上說明的本實(shí)施形態(tài)的組件制造方法，即 會在曝光步驟(步驟216)中使用上述實(shí)施形態(tài)的曝光裝置(圖案形成裝 置)及曝光方法(圖案形成方法)，因此可一邊維持高重疊精度， 一邊進(jìn)行高生產(chǎn)率的瀑光。據(jù)此，能提升形成有微細(xì)圖案的高集成度的微組 件的生產(chǎn)性。[0375如以上的說明，本發(fā)明的移動體驅(qū)動系統(tǒng)及移動體驅(qū)動方 法，適于在移動面內(nèi)驅(qū)動移動體。另外，本發(fā)明的圖案形成裝置及圖 案形成方法，適于在物體上形成圖案。另外，本發(fā)明的曝光裝置及曝 光方法、以及組件制造方法，適于制造微組件。
權(quán)利要求
1.一種實(shí)質(zhì)上沿著規(guī)定平面驅(qū)動移動體的移動體驅(qū)動方法，其特征在于包括下述步驟使用包含將測量光束照射于具有把實(shí)質(zhì)上平行于上述平面的規(guī)定方向作為周期方向的光柵的標(biāo)尺、接收來自上述光柵的光束的讀頭的編碼器系統(tǒng)，測量平行于上述平面的面內(nèi)的上述移動體的位置信息，基于上述位置信息、及因上述標(biāo)尺的面相對上述移動體的位置控制的基準(zhǔn)的基準(zhǔn)面在垂直于上述平面的方向的位置的差造成的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息，沿著上述平面驅(qū)動上述移動體。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的移動體驅(qū)動方法，其特征在于 上述標(biāo)尺，配置在與上述平面實(shí)質(zhì)上平行的上述移動體的一面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的移動體驅(qū)動方法，其特征在于 在上述驅(qū)動步驟，根據(jù)上述移動體在上述規(guī)定方向的位置信息、的差造成的上述移動體相對上述平面的上述規(guī)定方向的傾斜角所對 應(yīng)的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息，沿著上述平面驅(qū)動上述 移動體。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動方法，其特 征在于還包括在上述驅(qū)動步驟之前，測量上述標(biāo)尺的面相對上述基準(zhǔn)面在垂直 于上述平面的方向的位置的差的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的移動體驅(qū)動方法，其特征在于 在上述測量步驟中，根據(jù)測量上述移動體相對上述平面的上述規(guī) 定方向的傾斜角的測量裝置的測量值，在上述規(guī)定方向使上述移動體相對上述平面傾斜角度a，根據(jù)上述傾斜前后的上述編碼器系統(tǒng)的測 量值及上述測量裝置所測量的上迷角度a的信息，算出上述標(biāo)尺的面 相對上述基準(zhǔn)面在垂直于上述平面的方向的位置的差。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的移動體驅(qū)動方法，其特征在于 上述測量裝置，使用具有多個測長軸、測量上述移動體的上述傾斜角的干涉儀。
7. —種圖案形成方法，其特征在于包括裝載步驟，將物體裝載于可在移動面內(nèi)移動的移動體上；以及 驅(qū)動步驟，為了對上述物體形成圖案，用權(quán)利要求1至6中的任 一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動方法驅(qū)動上述移動體。
8. —種包含圖案形成步驟的組件制造方法，其特征在于 于上述圖案形成步驟，使用權(quán)利要求7所述的圖案形成方法將圖案形成在物體上。
9. 一種通過照射能量束將圖案形成在物體的曝光方法，其特征在于為了使上述能量束與上述物體相對移動，使用權(quán)利要求1至6 中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動方法，驅(qū)動裝載有上述物體的移動體。
10. —種用能量束使物體曝光的曝光方法，其特征在于 于在至少能在規(guī)定平面內(nèi)正交的第1及第2方向移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜的移動體裝載上述物體，在裝載有上述物體的上述移動體的一面設(shè)有柵格部及讀頭單元 中的一個，且另一個與上迷移動體的一面相對向設(shè)置，根據(jù)測量在上 述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息的編碼器系統(tǒng)的測量信息，及 上述膝光時上述物體在大致一致的基準(zhǔn)面及上述柵格部的柵格面的與上述規(guī)定平面正交的第3方向的位置信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi) 的上述移動體的位置。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光方法，其特征在于 以補(bǔ)償因上述基準(zhǔn)面與上述柵格面在上述第3方向的位置的差產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的方式，控制上述移動體的位置。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于 上述柵格部設(shè)于上述移動體的表面，且在上述柵格面與上述表面上述第3方向的位置不同，且上述移動體能將上述物體保持成與其表 面大致面高相同。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10至12中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于根據(jù)上迷基準(zhǔn)面及上述柵格面的位置信息，修正上迷編碼器系統(tǒng) 的測量信息或定位上述移動體的目標(biāo)位置。
14. 根據(jù)權(quán)利要求10至13中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述物體經(jīng)由掩膜被上述能量束曝光，在上述曝光時， 一邊根據(jù) 上述編碼器系統(tǒng)的測量信息驅(qū)動上述移動體， 一邊以補(bǔ)償因上述基準(zhǔn) 面與上述柵格面在上述第3方向的位置的差產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的 測量誤差的方式，根據(jù)上述基準(zhǔn)面及上述柵格面的位置信息控制上述 掩膜的位置。
15. 根據(jù)權(quán)利要求10至14中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述基準(zhǔn)面是在上述物體上產(chǎn)生圖案像的投影系統(tǒng)的像面。
16. —種用能量束使物體膝光的曝光方法，其特征在于 于在至少能在規(guī)定平面內(nèi)正交的第1及第2方向移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜的移動體裝載上述物體，在裝載有上述物體的上述移動體的一面設(shè)有柵格部及讀頭單元 中的一個，且另一個與上述移動體的一面相對向設(shè)置，根據(jù)測量在上 述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息的編碼器系統(tǒng)的測量信息，及 用于補(bǔ)償因上述曝光時上述物體在大致一致的基準(zhǔn)面及上述柵格部 的柵格面的與上述規(guī)定平面正交的第3方向的位置的差產(chǎn)生的上述編 碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動 體的位置。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的啄光方法，其特征在于 上述柵格部"i殳于上迷移動體的表面，且在上迷柵格面與上迷表面上述第3方向的位置不同，且上述移動體能將上述物體保持成與其表 面大致面高相同。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的曝光方法，其特征在于 還用檢測裝置檢測在上述第3方向的上述基準(zhǔn)面與上述柵格面的間隔信息。
19.上迷編碼器系統(tǒng)及上述測量裝置的測量信息求出上迷間隔信息。
20. —種用能量束使物體啄光的啄光方法，其特征在于 在表面設(shè)有柵格部、且至少能在規(guī)定平面內(nèi)正交的第1及第2方向移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜的移動體上，以與上述表面成為 大致面高相同的狀態(tài)裝栽上述物體，根據(jù)具有與上述移動體的表面相對向配置的讀頭單元、測量在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息的編碼器系統(tǒng)的測量信息，及用于補(bǔ)償因在與上述規(guī)定平面正交的第3方向的上述移動體的表面與 上述柵格部的柵格面的間隙產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修 正信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置。
21. 根據(jù)權(quán)利要求16至20中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述讀頭單元與上述柵格部的至少 一個產(chǎn) 生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的瀑光方法，其特征在于 上述修正信息，補(bǔ)償因上述讀頭單元的至少光學(xué)特性產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的膝光方法，其特征在于 上迷修正信息，補(bǔ)償因上述柵格部的平坦性與形成誤差的至少一個產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
24. 根據(jù)權(quán)利要求16至23中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述測量時的在與上述第1及第2方向不 同的方向的上述移動體的位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
25. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的曝光方法，其特征在于 上迷不同方向，包含與上述規(guī)定平面正交的方向、繞與上述規(guī)定平面正交的軸的旋轉(zhuǎn)方向、及繞與上述規(guī)定平面平行的軸的旋轉(zhuǎn)方向 的至少一個。
26. 根據(jù)權(quán)利要求16至25中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述移動體的傾斜產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng) 的測量誤差。
27. 根據(jù)權(quán)利要求16至26中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述編碼器系統(tǒng)，用上述讀頭單元的多個讀頭中的與上述柵格部 相對向的讀頭測量上述移動體的位置信息，上述修正信息，補(bǔ)償因上述測量所使用的讀頭的檢測點(diǎn)的位置或 位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的啄光方法，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因在與上述讀頭的上述移動體的位置信息的 測量方向正交的方向的上述檢測點(diǎn)的位置或位移產(chǎn)生的上述編碼器 系統(tǒng)的測量誤差。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的曝光方法，其特征在于 上述多個讀頭，在與上述測量方向正交的方向分離配置，在上述編碼器系統(tǒng)，依上述移動體在與上述測量方向正交的方向的位置，切 換上述測量所使用的讀頭。
30. 根據(jù)權(quán)利要求16至29中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述編碼器系統(tǒng)，通過上述移動體的移動切換上述測量所使用 的上述讀頭單元的讀頭，上述修正信息，補(bǔ)償因上述切換時的在與上述第1及第2方向不 同的方向的上述移動體的位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
31. 根據(jù)權(quán)利要求16至29中的任一項(xiàng)所迷的曝光方法，其特征在于在上述編碼器系統(tǒng)，通過上述移動體的移動切換上述測量所使用 的上述讀頭單元的讀頭，根據(jù)上述切換前的讀頭所測量的位置信息、及上述切換時的在與 上述第l及第2方向不同的方向的上述移動體的位置信息，決定用上 述切換后的讀頭應(yīng)測量的位置信息。
32. 根據(jù)權(quán)利要求31所述的曝光方法，其特征在于 以在上述切換的前后維持上述移動體的位置的方式?jīng)Q定以上述切換后的讀頭應(yīng)測量的位置信息，以在上述切換的前后上述移動體的 位置信息成為連續(xù)的方式，設(shè)定上述決定后的位置信息以作為上述切 換后的讀頭所測量的位置信息的初始值。
33. 根據(jù)權(quán)利要求30至32中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述切換時的與上述第l及第2方向不同的方向，包含上述規(guī)定 平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)方向。
34. 根據(jù)權(quán)利要求16至29中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于通過上述讀頭單元的多個讀頭中的與上述柵格部相對向的至少 三個讀頭，測量在上述第l方向、上述第2方向、及上述規(guī)定平面內(nèi) 的旋轉(zhuǎn)方向的上述移動體的位置信息，且通過上述移動體的移動，將 上述測量所使用的三個讀頭切換成包含與上述三個讀頭不同的至少 一個讀頭的三個讀頭，在上述切換時，根據(jù)上述切換前的三個讀頭所測量的位置信息， 決定用上述切換后的三個讀頭中的與上述切換前的三個讀頭不同的 至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信息。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的膝光方法，其特征在于 以在上述切換的前后維持上述移動體的位置的方式?jīng)Q定用上述切換后的至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信息，以在上述切換的前后上述移動體的位置信息成為連續(xù)的方式，設(shè) 定上述決定后的位置信息以作為上述切換后的至少一個讀頭所測量 的位置信息的初始值。
36. 根據(jù)權(quán)利要求34或35所述的曝光方法，其特征在于 使用上述切換前后的各讀頭的檢測點(diǎn)的平行于上述規(guī)定平面的面內(nèi)的位置信息，決定用上迷切換后的至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信
37. 根據(jù)權(quán)利要求30至36中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述切換在上述切換前的讀頭及上述切換后的讀頭的雙方與上 述柵格部相對向的狀態(tài)下進(jìn)行。
38. 根據(jù)權(quán)利要求16至37中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于根據(jù)上述修正信息，修正上述編碼器系統(tǒng)的測量信息或定位上述 移動體的目標(biāo)位置。
39. 根據(jù)權(quán)利要求16至38中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述物體經(jīng)由掩膜被上述能量束曝光，在上述曝光時， 一邊根據(jù) 上述編碼器系統(tǒng)的測量信息驅(qū)動上述移動體， 一邊以補(bǔ)償上述測量誤 差的方式，根據(jù)上述修正信息控制上述掩膜的位置。
40. 根據(jù)權(quán)利要求10至39中的任一項(xiàng)所述的啄光方法，其特征在于上述柵格部，是以上述讀頭的上述移動體的位置信息的測量方向 作為長邊方向而設(shè)置，上述讀頭單元，在與上述測量方向正交的方向， 分離配置上述多個讀頭。
41. 根據(jù)權(quán)利要求10至40中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于上述柵格部具有以上述第1方向?yàn)殚L邊方向且在上述第2方向 分離配置的一對第l柵格部；及以上述第2方向?yàn)殚L邊方向且在上述 第1方向分離配置的一對第2柵格部，上述讀頭單元具有在上述第2方向分離配置多個第l讀頭且在 上述曝光時上述第l讀頭與上述一對第l柵格部相對向的一對第l讀 頭單元；及在上述第1方向分離配置多個第2讀頭且在上述曝光時上 述第2讀頭與上述一對第2柵格部相對向的一對第2讀頭單元。
42. 根據(jù)權(quán)利要求10至41中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于還使用通過配置在與上述讀頭單元相同側(cè)的多個傳感器中的與 上述柵格部相對向的傳感器，測量在與上述規(guī)定平面正交的第3方向 的上述移動體的位置信息的測量系統(tǒng)，根據(jù)上述測量系統(tǒng)的測量信 息，控制上述移動體的第3方向的位置。
43. 根據(jù)權(quán)利要求42所述的曝光方法，其特征在于 上述測量系統(tǒng)，用與上述柵格部相對向的多個傳感器測量上述移動體的第3方向的位置信息、及傾斜信息。
44. 根據(jù)權(quán)利要求42或43所述的曝光方法，其特征在于 用上述編碼器系統(tǒng)測量上述移動體的6自由度方向的位置信息中的包含上述第l方向、上述第2方向、及上述規(guī)定平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)方向的3自由度方向的位置信息，用上述測量系統(tǒng)測量另外3自由度方 向的位置信息。
45. 根據(jù)權(quán)利要求44所述的曝光方法，其特征在于 根據(jù)上述測量的6自由度方向的位置信息，至少控制曝光動作中的上述移動體的位置。
46. 根據(jù)權(quán)利要求42至45中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述物體的面位置信息的測量動作中，除了上述編碼器系統(tǒng)及 上述測量系統(tǒng)之外，也使用測量上述物體的上述第3方向的位置信息 的位置測量裝置。
47. 根據(jù)權(quán)利要求42至46中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，其特征在于在上述標(biāo)記檢測動作中，使用上述編碼器系統(tǒng)及檢測上述物體的 標(biāo)i己的標(biāo)^己檢測系統(tǒng)。
48. 根據(jù)權(quán)利要求42至47中的任一項(xiàng)所述的膝光方法，其特征在于為了驅(qū)動上述移動體，在膝光動作中使用上述編碼器系統(tǒng)的測量 信息，在與上述曝光動作不同的動作中使用測量上述移動體的至少上 述第1及第2方向的位置信息的干涉儀系統(tǒng)的測量信息。
49. 根據(jù)權(quán)利要求48所述的曝光方法，其特征在于 在上述物體的標(biāo)記及/或面位置信息的檢測動作中，使用上述編碼器系統(tǒng)的測量信息。
50. 根據(jù)權(quán)利要求48或49所述的曝光方法，其特征在于上述干涉儀系統(tǒng)的測量信息的至少 一部分使用于上述啄光動作。
51. —種包含光刻步驟的組件制造方法，其特征在于 在上述光刻步驟，使用權(quán)利要求10至50中的任一項(xiàng)所述的曝光方法，使裝載于上述移動體的感應(yīng)物體瀑光，在上述感應(yīng)物體上形成 圖案。
52. —種實(shí)質(zhì)上沿著規(guī)定平面驅(qū)動移動體的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，其 特征在于包括編碼器系統(tǒng)，包含將測量光束照射于具有把實(shí)質(zhì)上平行于上述平 面的規(guī)定方向作為周期方向的光柵的標(biāo)尺、接收來自上述光柵的光、 測量平行于上述平面的面內(nèi)的上述移動體的位置信息；以及控制裝置，根據(jù)上迷編碼器系統(tǒng)所測量的在上述規(guī)定方向的上述 移動體的位置信息、及因上述標(biāo)尺的面相對上述移動體的對準(zhǔn)的基準(zhǔn) 的基準(zhǔn)面在垂直于上迷平面的方向的位置的差造成的上述編碼器系 統(tǒng)的測量誤差的修正信息，沿著上述平面驅(qū)動上述移動體。
53. 根據(jù)權(quán)利要求52所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，其特征在于 上述標(biāo)尺配置在實(shí)質(zhì)上平行于上述平面的上述移動體的一面。
54. 根據(jù)權(quán)利要求52或53所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，其特征在于 上述控制裝置，根據(jù)上述移動體在上述規(guī)定方向的位置信息、及因上述標(biāo)尺的面相對上述基準(zhǔn)面在垂直于上述平面的方向的位置的 差造成的上述移動體相對上述平面的上述規(guī)定方向的傾斜角所對應(yīng) 的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息，沿著上述平面驅(qū)動上述移 動體。
55. 根據(jù)權(quán)利要求52至54中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)， 其特征在于還包括測量上述標(biāo)尺的面相對上述基準(zhǔn)面在垂直于上述平面的方向的 位置的差的處理裝置。
56. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，其特征在于還包括 測量上述移動體相對上述平面的上述規(guī)定方向的傾斜角的測量裝置，上述處理裝置，根據(jù)上述測量裝置的測量值，在上述規(guī)定方向使 上述移動體相對上述平面傾斜角度a，根據(jù)上述傾斜前后的上述編碼 器系統(tǒng)的測量值及上述測量裝置所測量的上述角度a的信息，算出上 述標(biāo)尺的面相對上述基準(zhǔn)面在垂直于上述平面的方向的位置的差。
57. 根據(jù)權(quán)利要求56所迷的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，其特征在于 上述測量裝置是具有多個測長軸、測量上述移動體的上迷傾斜角的干涉儀。
58. —種圖案形成裝置，其特征在包括于移動體，裝載有物體，可保持上述物體在移動面內(nèi)移動；以及 權(quán)利要求52至57中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)，為了對上 述物體形成圖案，驅(qū)動上述移動體。
59. —種通過照射能量束將圖案形成在物體的曝光裝置，其特征 在于包括圖案化裝置，將上述能量束照射于上述物體；以及 權(quán)利要求52至57中的任一項(xiàng)所述的移動體驅(qū)動系統(tǒng)； 為了使上述能量束與上述物體相對移動，用上述移動體驅(qū)動系統(tǒng) 進(jìn)行裝載有上述物體的移動體的驅(qū)動。
60. —種用能量束使物體膝光的膝光裝置，其特征在于包括 移動體，保持上述物體，至少能在于規(guī)定平面內(nèi)正交的第l及第2方向上移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜；編碼器系統(tǒng)，在保持上述物體的上述移動體的一面設(shè)有柵格部及 讀頭單元中的一個，且另一個與上述移動體的一面相對向設(shè)置，測量 在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息；以及控制裝置，根據(jù)上述曝光時上述物體在大致一致的基準(zhǔn)面及上述 柵格部的柵格面的與上述規(guī)定平面正交的第3方向的位置信息、及上 述編碼器系統(tǒng)的測量信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位 置。
61. 根據(jù)權(quán)利要求60所述的曝光裝置，其特征在于 以補(bǔ)償因上述基準(zhǔn)面與上述柵格面在上述第3方向的位置的差產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的方式，控制上述移動體的位置。
62. 根據(jù)權(quán)利要求60或61所述的曝光裝置，其特征在于 上述柵格部設(shè)于上述移動體的表面，且在上述柵格面與上述表面上述第3方向的位置不同，且上迷移動體能將上述物體保持成與其表 面大致面高相同。
63. 根據(jù)權(quán)利要求60至62中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于根據(jù)上述基準(zhǔn)面及上述柵格面的位置信息，修正上述編碼器系統(tǒng) 的測量信息或定位上述移動體的目標(biāo)位置。
64. 根據(jù)權(quán)利要求60至63中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于-.上述物體經(jīng)由掩膜被上述能量束曝光，在上述曝光時， 一邊根據(jù) 上述編碼器系統(tǒng)的測量信息驅(qū)動上述移動體， 一邊以補(bǔ)償因上述基準(zhǔn) 面與上述柵格面在上述第3方向的位置的差產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的 測量誤差的方式，根據(jù)上述基準(zhǔn)面及上迷柵格面的位置信息控制上述掩膜的位置。
65. 根據(jù)權(quán)利要求60至64中的任一項(xiàng)所迷的曝光裝置，其特征 在于還包括在上述物體上產(chǎn)生圖案像的投影系統(tǒng)， 上述基準(zhǔn)面是上述投影系統(tǒng)的像面。
66. —種用能量束使物體曝光的曝光裝置，其特征在于包括 移動體，保持上述物體，至少能在于規(guī)定平面內(nèi)正交的第l及第2方向上移動且能相對上述規(guī)定平面傾斜；編碼器系統(tǒng)，在保持上述物體的上述移動體的一面設(shè)有柵格部及 讀頭單元中的一個，且另一個與上迷移動體的一面相對向設(shè)置，測量 在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息；以及控制裝置，根據(jù)用于補(bǔ)償因上述曝光時上述物體在大致一致的基 準(zhǔn)面及上述柵格部的柵格面的與上述規(guī)定平面正交的第3方向的位置 的差產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差的修正信息、及上述編碼器系 統(tǒng)的測量信息，控制在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置。
67. 根據(jù)權(quán)利要求66所述的曝光裝置，其特征在于 上述柵格部設(shè)于上述移動體的表面，且在上述柵格面與上述表面上述第3方向的位置不同，且上述移動體能將上述物體保持成與其表 面大致面高相同。
68. 根據(jù)權(quán)利要求66或67所迷的曝光裝置，其特征在于還包括 檢測在上迷第3方向的上述基準(zhǔn)面與上述柵格面的間隔信息的檢測裝置。
69. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的曝光裝置，其特征在于 上述檢測裝置包含測量上述移動體的傾斜信息的測量裝置，使用上述編碼器系統(tǒng)及上述測量裝置的測量信息求出上述間隔信息。
70. —種用能量束使物體曝光的曝光裝置，其特征在于 移動體，能將上述物體保持成與表面大致面高相同且在上述表面設(shè)有柵格部，且至少能在于規(guī)定平面內(nèi)正交的第l及第2方向上移動 且能相對上述規(guī)定平面傾斜；編碼器系統(tǒng)，具有與上述移動體的表面相對向配置的讀頭單元， 測量在上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置信息；以及控制裝置，根據(jù)用于補(bǔ)償因在與上述規(guī)定平面正交的第3方向的 上述移動體的表面與上述柵格部的柵格面的間隙產(chǎn)生的上述編碼器 系統(tǒng)的測量誤差的修正信息、及上述編碼器系統(tǒng)的測量信息，控制在 上述規(guī)定平面內(nèi)的上述移動體的位置。
71. 根據(jù)權(quán)利要求66至70中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述讀頭單元與上述柵格部的至少一個產(chǎn) 生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
72. 根據(jù)權(quán)利要求71所述的啄光裝置，其特征在于 上述修正信息，補(bǔ)償因上述讀頭單元的至少光學(xué)特性產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
73. 根據(jù)權(quán)利要求71或72所述的曝光裝置，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述柵格部的平坦性與形成誤差的至少一 個產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
74. 根據(jù)權(quán)利要求66至73中的任一項(xiàng)所述的膝光裝置，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述測量時的在與上述第1及第2方向不同的方向的上迷移動體的位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
75. 根據(jù)權(quán)利要求74所述的膝光裝置，其特征在于 上述不同方向，包含與上述規(guī)定平面正交的方向、繞與上述規(guī)定平面正交的軸的旋轉(zhuǎn)方向、及繞與上述規(guī)定平面平行的軸的旋轉(zhuǎn)方向 的至少一個。
76. 根據(jù)權(quán)利要求66至75中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述修正信息，補(bǔ)償因上述移動體的傾斜產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng) 的測量誤差。
77. 根據(jù)權(quán)利要求66至76中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述編碼器系統(tǒng)，用上述讀頭單元的多個讀頭中的與上述柵格部 相對向的讀頭測量上述移動體的位置信息；上述修正信息，補(bǔ)償因上述測量所使用的讀頭的檢測點(diǎn)的位置或 位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
78. 根據(jù)權(quán)利要求77所述的曝光裝置，其特征在于 上述修正信息，補(bǔ)償因在與上述讀頭的上述移動體的位置信息的測量方向正交的方向的上迷檢測點(diǎn)的位置或位移產(chǎn)生的上述編碼器 系統(tǒng)的測量誤差。
79. 根據(jù)權(quán)利要求78所述的曝光裝置，其特征在于 上述多個讀頭，在與上述測量方向正交的方向分離配置，在上述編碼器系統(tǒng)中，依上述移動體在與上述測量方向正交的方向的位置， 切換上述測量所使用的讀頭。
80. 根據(jù)權(quán)利要求66至79中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于在上述編碼器系統(tǒng)中，通過上述移動體的移動切換上述測量所使 用的上述讀頭單元的讀頭，上述修正信息，補(bǔ)償因上述切換時的在與上述第1及第2方向不 同的方向的上述移動體的位移產(chǎn)生的上述編碼器系統(tǒng)的測量誤差。
81. 根據(jù)權(quán)利要求66至79中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于在上述編碼器系統(tǒng)中，通過上述移動體的移動，切換在上述測量 中所使用的上述讀頭單元的讀頭，根據(jù)上述切換前的讀頭所測量的位置信息、及在上述切換時的在 與上述第1及第2方向不同的方向的上迷移動體的位置信息，決定用 上迷切換后的讀頭應(yīng)測量的位置信息。
82. 根據(jù)權(quán)利要求81所述的曝光裝置，其特征在于 以在上迷切換的前后維持上述移動體的位置的方式?jīng)Q定用上述切換后的讀頭應(yīng)測量的位置信息，以在上述切換的前后上述移動體的 位置信息成為連續(xù)的方式，設(shè)定上述決定后的位置信息以作為上迷切 換后的讀頭所測量的位置信息的初始值。
83. 根據(jù)權(quán)利要求80至82中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述切換時的與上述第l及第2方向不同的方向，包含上述規(guī)定 平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)方向。
84. 根據(jù)權(quán)利要求66至79中的任一項(xiàng)所述的啄光裝置，其特征在于三個讀頭，測量在上述第l方向、上述第2方向、及上述規(guī)定平面內(nèi) 的旋轉(zhuǎn)方向的上迷移動體的位置信息，且通過上述移動體的移動，將 上述測量所使用的三個讀頭切換成包含與上述三個讀頭不同的至少一個讀頭的三個讀頭；在上述切換時，根據(jù)上述切換前的三個讀頭所測量的位置信息， 決定用上述切換后的三個讀頭中的與上述切換前的三個讀頭不同的 至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信息。
85. 根據(jù)權(quán)利要求84所述的曝光裝置，其特征在于 以在上述切換的前后維持上述移動體的位置的方式?jīng)Q定用上述切換后的至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信息，以在上述切換的前后上述 移動體的位置信息成為連續(xù)的方式，設(shè)定上述決定后的位置信息以作 為上述切換后的至少一個讀頭所測量的位置信息的初始值。
86. 才艮據(jù)權(quán)利要求84或85所述的曝光裝置，其特征在于 使用上迷切換前后的各讀頭的檢測點(diǎn)的平行于上迷規(guī)定平面的面內(nèi)的位置信息，決定用上述切換后的至少一個讀頭應(yīng)測量的位置信 息。
87. 根據(jù)權(quán)利要求80至86中的任一項(xiàng)所述的爆光裝置，其特征 在于，， 、 目'、，、 ，， 、，、 、 述柵格部相對向的狀態(tài)下進(jìn)行。
88. 根據(jù)權(quán)利要求66至87中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于根據(jù)上述修正信息，修正上述編碼器系統(tǒng)的測量信息或定位上述 移動體的目標(biāo)位置。
89. 根據(jù)權(quán)利要求66至88中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述物體經(jīng)由掩膜被上述能量束曝光，上述曝光時， 一邊根據(jù)上 述編碼器系統(tǒng)的測量信息驅(qū)動上述移動體， 一邊以補(bǔ)償上述測量誤差 的方式，根據(jù)上述修正信息控制上述掩膜的位置。
90. 根據(jù)權(quán)利要求60至89中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上迷柵格部，把上迷讀頭的上述移動體的位置信息的測量方向作 為長邊方向而設(shè)置，上述讀頭單元，在與上述測量方向正交的方向， 分離配置上述多個讀頭。
91. 根據(jù)權(quán)利要求60至卯中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于上述柵格部具有以上述第1方向作為長邊方向且在上迷第2 方向分離配置的一對第l柵格部；及把上述第2方向作為長邊方向且 在上述第1方向分離配置的一對第2柵格部，上述讀頭單元具有在上述第2方向分離配置多個第l讀頭且在 上述曝光時上述第1讀頭與上述一對第1柵格部相對向的一對第1讀 頭單元；及在上述第1方向分離配置多個第2讀頭且在上述曝光時上 述第2讀頭與上述一對第2柵格部相對向的一對第2讀頭單元。
92. 根據(jù)權(quán)利要求60至91中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征 在于還包括通過配置在與上述讀頭單元相同側(cè)的多個傳感器中的與上述柵 格部相對向的傳感器，測量在與上述規(guī)定平面正交的第3方向的上述 移動體的位置信息的測量系統(tǒng)，根據(jù)上述測量系統(tǒng)的測量信息，控制上述移動體的第3方向的位置。
93. 根據(jù)權(quán)利要求92所述的曝光裝置，其特征在于 上述測量系統(tǒng)，以與上述柵格部相對向的多個傳感器測量上述移動體的第3方向的位置信息、及傾斜信息。
94. 根據(jù)權(quán)利要求92或93所述的曝光裝置，其特征在于 用上述編碼器系統(tǒng)測量上述移動體的6自由度方向的位置信息中的包含上述第l方向、上述第2方向、及上迷規(guī)定平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)方 向的3自由度方向的位置信息，用上述測量系統(tǒng)測量另外3自由度方 向的位置信息。
95. 根據(jù)權(quán)利要求94所述的曝光裝置，其特征在于 根據(jù)上述測量的6自由度方向的位置信息，控制至少曝光動作的上述移動體的位置。
96. 根據(jù)權(quán)利要求92至95中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征 在于還包括測量上述物體的上述第3方向的位置信息的位置測量裝置， 在上述物體的面位置信息的測量動作中，使用上述編碼器系統(tǒng)、 上述測量系統(tǒng)、及上述位置測量裝置。
97. 根據(jù)權(quán)利要求92至96中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征 在于還包括檢測上述物體的標(biāo)i己的標(biāo)記檢測系統(tǒng)，在上迷標(biāo)記檢測動作中，使用上述編碼器系統(tǒng)及上述標(biāo)記檢測系統(tǒng)。
98. 根據(jù)權(quán)利要求92至97中的任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征 在于還包括測量上述移動體的至少上述第l及第2方向的位置信息的干涉儀系統(tǒng)，為了驅(qū)動上述移動體，在曝光動作中使用上述編碼器系統(tǒng)的測量 信息，在與上述曝光動作不同的動作中使用上述干涉儀系統(tǒng)的測量信
99. 根據(jù)權(quán)利要求98所述的曝光裝置，其特征在于 在上述物體的標(biāo)記及/或面位置信息的檢測動作中，使用上述編碼器系統(tǒng)的測量信息。
100. 根據(jù)權(quán)利要求98或99所述的曝光裝置，其特征在于 上述干涉儀系統(tǒng)的測量信息的至少 一部分使用于上述曝光動作。
全文摘要
控制裝置根據(jù)測量移動體WST相對XY平面的傾斜角的干涉儀的測量值，在光柵(39Y₁，39Y₂)的周期方向使移動體相對XY平面傾斜角度α，根據(jù)此傾斜前后的編碼器系統(tǒng)(62A，62C)的測量值與角度α的信息，算出光柵表面相對XY平面內(nèi)的移動體的位置控制的基準(zhǔn)的基準(zhǔn)面(例如投影光學(xué)系統(tǒng)的像面)的阿貝偏移量。接著，控制裝置根據(jù)編碼器系統(tǒng)所測量的XY平面內(nèi)的移動體的位置信息、及因光柵表面的阿貝偏移量造成的移動體相對XY平面的傾斜角所對應(yīng)的編碼器系統(tǒng)的測量誤差，沿著XY平面驅(qū)動移動體。
文檔編號H01L21/027GK101405837SQ20078000983
公開日2009年4月8日 申請日期2007年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月1日
發(fā)明者柴崎祐一 申請人:株式會社尼康