專利名稱：藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)與其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種藍(lán)光光盤片，且特別是有關(guān)于一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層的涂布機(jī)構(gòu)與方法。
背景技術(shù)：
光盤片燒錄技術(shù)的產(chǎn)生，讓數(shù)據(jù)備份的方法多了一種十分便利的方式，只要將空白光盤片放入刻錄機(jī)中，經(jīng)由參數(shù)設(shè)定，就可以輕易地將數(shù)據(jù)寫入空白光盤片里。光盤片的規(guī)格從最早的 CD-R(Compact Disc-Recordable)進(jìn)步到 DVD_R(Digital Versatile Disk-Recordable)、DVD+R，光儲(chǔ)存媒介的容量也跟著增加?，F(xiàn)在更有運(yùn)用藍(lán)光激光技術(shù)的高容量藍(lán)光光盤片，讓使用者可以在單一光盤片里儲(chǔ)存更多的數(shù)據(jù)。如何維持光盤片生產(chǎn)工藝的一致性，尤其是涂布工藝一致性，將會(huì)決定光盤片質(zhì)量的關(guān)鍵。而對(duì)于藍(lán)光光盤片而言，其對(duì)于生產(chǎn)制成一致性的需求比一般的⑶-R或是 DVD-R更高。藍(lán)光光盤片中覆蓋層(cover layer)的涂布工藝是否穩(wěn)定，更會(huì)影響藍(lán)光光盤片的良率以及質(zhì)量。參照?qǐng)D1，其是繪示現(xiàn)有的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)的示意圖。藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)100包含有一號(hào)涂布站110、二號(hào)涂布站120、三號(hào)涂布站130、輸送帶140、 以及預(yù)硬化站150?，F(xiàn)今的覆蓋層涂布工藝為一號(hào)涂布站110、二號(hào)涂布站120及三號(hào)涂布站130同時(shí)對(duì)光盤片基材170進(jìn)行涂布上膠，涂布完的光盤片基材170再依序進(jìn)入預(yù)硬化站150進(jìn)行預(yù)硬化工藝。然而，涂布一片光盤片基材170的時(shí)間約需30秒，預(yù)硬化一片光盤片基材170的時(shí)間約需10秒。一般的做法是由出自三號(hào)涂布站130的光盤片基材170開始進(jìn)入預(yù)硬化站150，接著是出自二號(hào)涂布站120的光盤片基材170，而后才會(huì)是出自一號(hào)涂布站110的光盤片基材170送入預(yù)硬化站150。當(dāng)光盤片基材170離開一號(hào)涂布站110之后，需要等上 20秒的時(shí)間才能進(jìn)入預(yù)硬化站150，而出自三號(hào)涂布站130的光盤片基材150則是馬上進(jìn)入預(yù)硬化站150。如此一來，出自不同涂布站的光盤片基材之間將會(huì)產(chǎn)生等待的時(shí)間差，這種差異將會(huì)致使光盤片的質(zhì)量難以一致。因此，如何維持藍(lán)光光盤片生產(chǎn)質(zhì)量的一致性，便成為一個(gè)重要的課題。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的就是在提供一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)及方法，用以維持藍(lán)光光盤片生產(chǎn)質(zhì)量的一致性。依照本發(fā)明的一實(shí)施例，提出一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)，包含多個(gè)涂布站、預(yù)硬化站及傳送帶，其中傳送帶用以單片輸送光盤片基材進(jìn)入涂布站，以及在涂布站與預(yù)硬化站之間單片輸送光盤片基材。藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)還包含多個(gè)取放片站， 取放片站設(shè)置于涂布站與輸送帶之間，以及預(yù)硬化站與輸送帶之間。本發(fā)明的另一實(shí)施例為一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，包含從多個(gè)涂布站的其中一者取出涂布有覆蓋層的光盤片基材至輸送帶，接著，輸送帶輸送光盤片基材至預(yù)硬化站，以及自預(yù)硬化站取出光盤片基材之后，輸送帶再將另一光盤片基材送入涂布站，其中輸送帶每次僅單片輸送光盤片基材進(jìn)入涂布站。本發(fā)明的又一實(shí)施例為一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，依序包含自一號(hào)涂布站取出涂布完成的一號(hào)光盤片基材，輸送一號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化，自預(yù)硬化站取出一號(hào)光盤片基材，自二號(hào)涂布站中取出二號(hào)光盤片基材，輸送二號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化，自預(yù)硬化站取出二號(hào)光盤片基材，自三號(hào)涂布站取出三號(hào)光盤片基材，輸送三號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化，以及自預(yù)硬化站取出三號(hào)光盤片基材。其中在輸送一號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一一號(hào)光盤片基材進(jìn)入一號(hào)涂布站。其中在輸送二號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一二號(hào)光盤片基材進(jìn)入二號(hào)涂布站。其中在輸送三號(hào)光盤片基材至預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一三號(hào)光盤片基材進(jìn)入三號(hào)涂布站。由于輸送時(shí)間以及取放片的時(shí)間極短，本發(fā)明通過單進(jìn)單出的原則，預(yù)先錯(cuò)開光盤片基材進(jìn)入各個(gè)涂布站的時(shí)間。如此一來，覆蓋層涂布完成的光盤片基材便可以直接從涂布站送入預(yù)硬化站中進(jìn)行預(yù)硬化工藝，而不需要在輸送帶上等待，可以有效確保藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布質(zhì)量的一致性。


為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例能更明顯易懂，所附附圖的詳細(xì)說明如下圖1是繪示現(xiàn)有的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)的示意圖；圖2是繪示本發(fā)明的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)一實(shí)施例的示意圖；圖3A至圖3L是繪示使用本發(fā)明的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法流程圖。主要組件符號(hào)說明200 涂布機(jī)構(gòu)210 —號(hào)涂布站220 二號(hào)涂布站230 三號(hào)涂布站240 輸送帶250 預(yù)硬化站260 取放片站270 一號(hào)光盤片基材280 二號(hào)光盤片基材290 三號(hào)光盤片基材slO s32 步驟
具體實(shí)施例方式以下將以附圖及詳細(xì)說明清楚說明本發(fā)明的精神，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在了解本發(fā)明的較佳實(shí)施例后，當(dāng)可由本發(fā)明所教示的技術(shù)，加以改變及修飾，其并不脫離本發(fā)明的精神與范圍。 如前所述，在光盤片基材上涂布覆蓋層所需要的時(shí)間約為30秒，而光盤片基材進(jìn)行預(yù)硬化的時(shí)間約為10秒鐘。因此，以下的實(shí)施例中以涂布站與預(yù)硬化站為3比1的比例進(jìn)行說明。隨著不同機(jī)臺(tái)的差異或是工藝的改進(jìn)，了解本案技術(shù)內(nèi)容的人員當(dāng)可依實(shí)際狀況調(diào)整涂布站與預(yù)硬化站的比例。 請(qǐng)參照?qǐng)D2，其是繪示本發(fā)明的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)一實(shí)施例的示意圖。 藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)200包含有一號(hào)涂布站210、二號(hào)涂布站220及三號(hào)涂布站 230等多個(gè)涂布站，以及輸送帶240與預(yù)硬化站250。藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)200還包含有多個(gè)取放片站沈0。取放片站260設(shè)置在涂布站210、220、230與輸送帶240之間，以在涂布站210、220、230與輸送帶240之間進(jìn)行取放片交換的動(dòng)作。取放片站260亦設(shè)置在預(yù)硬化站250與輸送帶240之間，以在預(yù)硬化站250與輸送帶240之間進(jìn)行取放片交換的動(dòng)作。其中輸送帶240是單進(jìn)單出地在涂布站210、220、230與預(yù)硬化站250之間輸送光盤片基材。輸送帶240為單片單片輸送光盤片基材進(jìn)入涂布站210、220、230，以及在涂布站 210、220、230與預(yù)硬化站250之間單片輸送光盤片基材。換言之，從涂布站210、220、230涂布完成的光盤片基材為直接進(jìn)入預(yù)硬化站250中進(jìn)行預(yù)硬化工藝，減少因等待而導(dǎo)致光盤片質(zhì)量無法一致的風(fēng)險(xiǎn)。參照?qǐng)D3A至圖3L，其是繪示使用本發(fā)明的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法流程圖。 為方便說明起見，送入一號(hào)涂布站210處理的光盤片基材稱為一號(hào)光盤片基材270，送入二號(hào)涂布站220處理的光盤片基材稱為二號(hào)光盤片基材觀0，送入三號(hào)涂布站230處理的光盤片基材稱為三號(hào)光盤片基材290。這些光盤片基材本質(zhì)上均為相同的光盤片基材，僅是為了在說明時(shí)方便區(qū)隔而在名稱上有所不同，合先敘明。圖3A的步驟SlO中，一號(hào)涂布站210所涂布覆蓋層完成的一號(hào)光盤片基材270經(jīng)由取放片站260送至輸送帶240上輸送至預(yù)硬化站250。圖;3B的步驟sl2是取放片站260將第一光盤片基材270由輸送帶240上取下，再放至預(yù)硬化站250中進(jìn)行第一光盤片基材270的預(yù)硬化工藝。待一號(hào)光盤片基材270進(jìn)入預(yù)硬化站250之后，如圖3C的步驟sl4所示，輸送帶 240再送入另一一號(hào)光盤片基材270，并經(jīng)由取放片站260將一號(hào)光盤片基材270送入一號(hào)涂布站210中，進(jìn)行一號(hào)光盤片基材270的覆蓋層涂布工藝。接著，圖3D步驟sl6中，預(yù)硬化站250中的一號(hào)光盤片基材270完成預(yù)硬化工藝， 由取放片站260取出放至存放區(qū)(圖中未繪示)。圖3E的步驟sl8為二號(hào)涂布站220完成二號(hào)光盤片基材觀0的覆蓋層涂布工藝， 取放片站260將二號(hào)光盤片基材280從二號(hào)涂布站220中取出，放至輸送帶240上以送至預(yù)硬化站250。接著，圖3F的步驟s20為取放片站260將二號(hào)光盤片基材觀0由輸送帶240上取下，送至預(yù)硬化站250中，以進(jìn)行二號(hào)光盤片基材觀0的預(yù)硬化工藝。待二號(hào)光盤片基材280進(jìn)入預(yù)硬化站250之后，參見圖3G的步驟s22，輸送帶MO 再送入另一二號(hào)光盤片基材洲0，由取放片站沈0送到二號(hào)涂布站220中進(jìn)行覆蓋層涂布的工藝。
圖3H的步驟W4中，預(yù)硬化站250中的二號(hào)光盤片基材280已經(jīng)完成預(yù)硬化工藝， 由取放片站260取出放至存放區(qū)(圖中未繪示)。接著，圖31的步驟s26中，三號(hào)涂布站230完成三號(hào)光盤片基材四0的覆蓋層涂布工藝，三號(hào)光盤片基材四0由取放片站260送至輸送帶240上，以送往預(yù)硬化站250。圖3J的步驟s28中，取放片站260將三號(hào)光盤片基材四0由輸送帶240上取下， 送入預(yù)硬化站250中進(jìn)行預(yù)硬化工藝。待三號(hào)光盤片基材290進(jìn)入預(yù)硬化站250之后，參照?qǐng)DI的步驟s30，輸送帶MO 再將另一三號(hào)光盤片基材290送至三號(hào)涂布站230前，由取放片站260將三號(hào)光盤片基材 290送至三號(hào)涂布站230中進(jìn)行三號(hào)光盤片基材四0的覆蓋層涂布工藝。圖3L的步驟s32為取放片站260將預(yù)硬化站250中完成預(yù)硬化工藝的三號(hào)光盤片基材290取出，放至存放區(qū)(圖中未繪示)。接著，再一次回到圖3A的步驟slO，重復(fù)進(jìn)行步驟SlO至步驟s32。由于輸送時(shí)間以及取放片的時(shí)間極短，本發(fā)明通過單進(jìn)單出的原則，預(yù)先錯(cuò)開光盤片基材進(jìn)入各個(gè)涂布站的時(shí)間。如此一來，覆蓋層涂布完成的光盤片基材便可以直接從涂布站送入預(yù)硬化站中進(jìn)行預(yù)硬化工藝，而不需要在輸送帶上等待，可以有效確保藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布質(zhì)量的一致性。雖然本發(fā)明已以實(shí)施方式揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所附的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)，其特征在于，包含 數(shù)個(gè)涂布站；一預(yù)硬化站；以及一傳送帶，用以單片輸送一光盤片基材進(jìn)入該些涂布站，以及在該些涂布站與該預(yù)硬化站之間單片輸送該光盤片基材。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包含數(shù)個(gè)取放片站，設(shè)置于該些涂布站與該輸送帶之間，以及該預(yù)硬化站與該輸送帶之間。
3.—種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，其特征在于，包含從數(shù)個(gè)涂布站的其中一者取出涂布有一覆蓋層的一光盤片基材至一輸送帶； 該輸送帶輸送該光盤片基材至一預(yù)硬化站；自該預(yù)硬化站取出該光盤片基材之后，該輸送帶再將另一光盤片基材送入該些涂布站，其中該輸送帶每次僅單片輸送該光盤片基材進(jìn)入該些涂布站。
4.一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，其特征在于，依序包含 自一一號(hào)涂布站取出涂布完成的一一號(hào)光盤片基材； 輸送該一號(hào)光盤片基材至一預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化；自該預(yù)硬化站取出該一號(hào)光盤片基材；自一二號(hào)涂布站中取出一二號(hào)光盤片基材；輸送該二號(hào)光盤片基材至該預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化；自該預(yù)硬化站取出該二號(hào)光盤片基材；自一三號(hào)涂布站取出一三號(hào)光盤片基材；輸送該三號(hào)光盤片基材至該預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化；以及自該預(yù)硬化站取出該三號(hào)光盤片基材。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，其特征在于，在輸送該一號(hào)光盤片基材至一預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一一號(hào)光盤片基材進(jìn)入該一號(hào)涂布站。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，其特征在于，在輸送該二號(hào)光盤片基材至該預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一二號(hào)光盤片基材進(jìn)入該二號(hào)涂布站。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法，其特征在于，在輸送該三號(hào)光盤片基材至該預(yù)硬化站進(jìn)行預(yù)硬化之后，還包含輸送另一三號(hào)光盤片基材進(jìn)入該三號(hào)涂布站。
全文摘要
本發(fā)明提供一種藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)以及一種單進(jìn)單出的藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布方法。所述藍(lán)光光盤片的覆蓋層涂布機(jī)構(gòu)包含多個(gè)涂布站、預(yù)硬化站及傳送帶，其中傳送帶用以單片輸送地在涂布站與預(yù)硬化站之間輸送光盤片基材。
文檔編號(hào)G11B7/26GK102479527SQ20101055797
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月19日
發(fā)明者劉康照, 謝逸萍 申請(qǐng)人:錸德科技股份有限公司