專利名稱:滑架滑動機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及能夠通過滑架所具備的磁頭對磁條進行信息的寫入讀取的磁條裝置 等中的滑架(carriage)滑動機構(gòu)。
背景技術(shù):
通常,對磁卡等進行讀寫的磁頭、對光盤等進行讀寫的光學(xué)式頭部的滑架滑動機 構(gòu)為,滑架主體分別經(jīng)由軸承部被兩根引導(dǎo)軸支承,并在該引導(dǎo)軸上滑動的構(gòu)造(例如參 照專利文獻1)。例如,作為磁頭的滑架滑動機構(gòu),如圖5的立體圖所示,構(gòu)成為磁頭1被固定安裝 在滑架2的上部,且被嵌入滑架2的軸承部5ajb進行滑動的主軸13和副軸14支承,能夠 向箭頭A方向移動。而且,主軸13和副軸14為圓柱形狀,軸承部恥構(gòu)成為以使副軸14還能夠向箭頭 B方向移動的方式設(shè)有間隙。專利文獻1 日本特開平08_3四474號公報然而,在上述現(xiàn)有的構(gòu)成中存在以下問題當在作為引導(dǎo)軸的主軸13和副軸14上 沉積灰塵20時,該灰塵20由于滑架2向箭頭A方向移動而阻塞軸承部fe、5b,從而使滑架 2的移動變得不穩(wěn)定,或者完全無法移動。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明采用以下的構(gòu)成。即,一種滑架滑動機構(gòu),由搭載了對 信息進行記錄再生的頭部的滑架、和與移動該滑架的方向平行地配置的一對引導(dǎo)軸構(gòu)成, 上述滑架具備沿著上述引導(dǎo)軸可移動地進行支承的軸承部,其中,上述引導(dǎo)軸構(gòu)成為,將該 引導(dǎo)軸的截面上部作成凸形狀且將側(cè)面由具有規(guī)定角度的傾斜度的斜面來形成。根據(jù)本發(fā)明的滑架滑動機構(gòu),其由搭載了對信息進行記錄再生的頭部的滑架、和 與移動該滑架的方向平行地配置的一對引導(dǎo)軸構(gòu)成,上述滑架具備沿著上述引導(dǎo)軸可移動 地進行支承的軸承部,其中,上述引導(dǎo)軸構(gòu)成為,將該引導(dǎo)軸的截面上部作成凸形狀且將側(cè) 面由具有規(guī)定角度的傾斜度的斜面來形成,因此在引導(dǎo)軸上無法沉積灰塵,從而能夠防止 軸承部被灰塵阻塞而產(chǎn)生動作不良。
圖1是實施例1的滑架滑動機構(gòu)的構(gòu)成圖。圖2是實施例1的主軸和副軸的放大圖。圖3是變形例1的主軸和副軸的構(gòu)成圖。圖4是變形例2的主軸和副軸的構(gòu)成圖。圖5是現(xiàn)有的滑架滑動機構(gòu)的構(gòu)成圖。附圖標號說明1...磁頭;2. · ·滑架;3,13. · ·主軸;4,14. · ·副軸;5a,5b. · ·軸承部;7a、7b. · ·斜面;9a 9d...接觸部。
具體實施例方式下面,參照附圖對本發(fā)明涉及的實施方式的例子進行說明。對于附圖中共同的要 素標記相同的標號。實施例1(構(gòu)成)圖1是實施例1的滑架滑動機構(gòu)的立體圖,圖2是主軸3和副軸4的放大圖。如 該圖所示,磁頭1被固定安裝在滑架2的上部并被主軸3和副軸4支承,能夠向箭頭A方向 移動。而且,主軸3和副軸4的截面為正方菱形的形狀,與軸承部fe和恥接觸的接觸部 9a 9d分別形成R形狀。另外,軸承部恥構(gòu)成為以使副軸4還能夠向箭頭B方向移動的 方式設(shè)有間隙。而且,在實際安裝的狀態(tài)下構(gòu)成為,接觸部9a相對于軸承部fe或恥是配置在上 方,在接觸部9a的兩側(cè)形成斜面7a和7b,且在各斜面與軸承部5ajb之間形成空間。(動作)通過以上的構(gòu)成,實施例1的滑架滑動機構(gòu)以如下的方式進行動作。下面,參照圖 1和圖2對該動作進行詳細地說明。首先,滑架2被固定安裝在由未圖示的電機驅(qū)動的傳送帶等上,當電機被驅(qū)動而 滑架2進行動作時,滑架2因被軸承部5a、恥支承而一邊與主軸3和副軸4滑動,一邊向圖 1的箭頭A方向移動。此時,軸承部fe、5b與主軸3和副軸4的接觸部9a 9d抵接而滑動,軸承部5a、 5b由于重力的關(guān)系而與接觸部9a的接觸最為緊密。即使灰塵20堆積在主軸3或副軸4的上表面,也能夠通過該接觸借助軸承5的拉 塞爾(russell)效果(排開垃圾前進的效果)刮落灰塵20,該被刮落的灰塵20雖然下落 到斜面7a和7b,然而由于該部分形成為斜面,所以不會產(chǎn)生堆積而是如箭頭D那樣從斜面 7a、7b下落,因此灰塵20不會堆積。另外,上述斜面7a和7b的傾斜度雖然與灰塵20和斜面7a、7b表面之間的摩擦系 數(shù)有關(guān),然而通??梢詾椤?”以下,因此為了能夠使灰塵20切實地落下,只要超過大致45 度即可。另外,為了減小摩擦系數(shù),斜面7a和7b的表面還可以進行表面加工。在以上實施例的說明中,對將主軸3、副軸4的截面形狀作成圖2那樣的正方菱形 的形狀進行了說明,然而也可以作成圖3所示的三角形的形狀、圖4所示的I字形狀?;蛘撸?只要能夠減小斜面7a和7b表面的摩擦系數(shù),雖未圖示然而也可以作成五邊形狀或六邊形 狀。而且,也可以只在上側(cè)設(shè)置具備傾斜度的斜面,而將下側(cè)作成半圓柱形狀。即使在作成圖3和圖4那樣的軸形狀的情況下,堆積在主軸3或副軸4上側(cè)的接 觸部9a上的灰塵20,也一邊與軸承部fe或恥抵接一邊滑動,因此同樣能夠通過拉塞爾效 果而刮落灰塵,且該被刮落的灰塵20從斜面7a和7b或直接下落到下方,而不堆積在各個 軸上。(實施例1的效果)
如上所述,根據(jù)實施例1的滑架滑動機構(gòu),其是由搭載了磁頭的滑架、與移動該滑 架的方向平行地配置的一對引導(dǎo)軸構(gòu)成,上述滑架具備沿著上述引導(dǎo)軸可移動地進行支承 的軸承部,其中,上述引導(dǎo)軸構(gòu)成為,將該截面上部作成凸形狀且將側(cè)面由具有規(guī)定角度的 傾斜度的斜面來形成,因此灰塵無法沉積在引導(dǎo)軸上,從而能夠防止軸承部被灰塵阻塞而 產(chǎn)生動作不良。工業(yè)實用性如上所述,本發(fā)明能夠廣泛地用于能夠通過滑架所具備的磁頭對磁條進行信息的 寫入、讀取的磁條裝置等中。
權(quán)利要求
1.一種滑架滑動機構(gòu),由搭載了對信息進行記錄再生的頭部的滑架、和與移動該滑架 的方向平行地配置的一對引導(dǎo)軸構(gòu)成,上述滑架具備沿著上述引導(dǎo)軸可移動地進行支承的 軸承部,其特征在于,上述引導(dǎo)軸構(gòu)成為,將該引導(dǎo)軸的截面上部作成凸形狀且將側(cè)面由具有規(guī)定角度的傾 斜度的斜面來形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑架滑動機構(gòu),其特征在于, 上述頭部是對磁條的信息進行記錄再生的磁頭。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑架滑動機構(gòu),其特征在于,將上述引導(dǎo)軸的截面形狀作成正方菱形形狀、三角形狀或I字形狀,或者五邊形狀或 六邊形狀,或者只將上側(cè)作成上述任意一種形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑架滑動機構(gòu),其特征在于, 上述規(guī)定的傾斜度為大致超過45度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種滑架滑動機構(gòu),使滑架的軸承部沿著引導(dǎo)軸滑動,從而使滑架移動,并防止由于在上述引導(dǎo)軸上沉積灰塵而軸承部被該灰塵阻塞而產(chǎn)生動作不良。該滑架滑動機構(gòu)由搭載了對信息進行記錄再生的頭部的滑架(2)、和與移動該滑架(2)的方向平行地配置的一對引導(dǎo)軸(3、4)構(gòu)成,上述滑架(2)具備沿著上述引導(dǎo)軸(3、4)可移動地進行支承的軸承部(5a、5b),其中,上述引導(dǎo)軸(3、4)構(gòu)成為,將該引導(dǎo)軸的截面上部作成凸形狀且將側(cè)面由具有規(guī)定角度的傾斜度的斜面(7a、7b)來形成。
文檔編號G11B5/58GK102110444SQ20101055791
公開日2011年6月29日 申請日期2010年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月25日
發(fā)明者池田恭之 申請人:沖電氣工業(yè)株式會社