專利名稱：光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置。特別地，本發(fā)明涉及 以下技術(shù)領(lǐng)域，其中，在聚焦和跟蹤器件確保令人滿意的伺服特性， 同時(shí)通過(guò)為可移動(dòng)組塊^是供用作動(dòng)力阻尼器的薄部防止了功能劣 化。
背景技術(shù)：
盤驅(qū)動(dòng)裝置^W于信息信號(hào)在盤記錄介質(zhì)(諸如光盤和》茲光盤) 上的記錄以及信息信號(hào)從盤記錄介質(zhì)中的再生。這種盤驅(qū)動(dòng)裝置包 括沿盤記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)并向所述盤記錄介質(zhì)發(fā)射激光的光學(xué) 拾取裝置。
光學(xué)拾取裝置包括物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。物4竟驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定組塊 和可移動(dòng)組塊。由固定組塊借助于支撐彈簧(例如金屬線)支撐可 移動(dòng)組塊。
在這種光學(xué)拾取裝置中，通過(guò)沿聚焦方向相對(duì)于固定組塊移動(dòng) 具有物鏡的可移動(dòng)組塊來(lái)執(zhí)行聚焦調(diào)節(jié)，上述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)
離盤記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，同時(shí)通過(guò)沿if艮蹤方向相對(duì)于固定 組塊移動(dòng)可移動(dòng)組塊來(lái)扭J于3艮蹤調(diào)節(jié)，上述^艮蹤方向是盤記錄介質(zhì)
的大致徑向，從而使通過(guò)物鏡發(fā)射到盤記錄介質(zhì)上的激光點(diǎn)會(huì)聚在 盤記錄介質(zhì)的記錄軌道上。
一些光學(xué)拾取裝置能夠執(zhí)行傾斜調(diào)節(jié)。在傾斜調(diào)節(jié)中，可移動(dòng)
纟且塊在沿"t刀線方向延4申的4由的》走壽爭(zhēng)方向(rotational direction)上才目 對(duì)于固定組塊移動(dòng)，上述切線方向是與聚焦方向和^艮蹤方向均正交 的方向，從而使通過(guò)物鏡發(fā)射到盤記錄介質(zhì)的記錄表面上的激光的 光軸變?yōu)榇怪庇谟涗洷砻妗?br> 包括在這種光學(xué)拾取裝置中的物鏡驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)具有由可移動(dòng)組 塊的重量和支撐彈簧的彈性模量定義的頻率特性(參見(jiàn)圖5)。參見(jiàn) 圖5，物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)具有在特定范圍內(nèi)的共才展峰值P。因此這個(gè)共 振峰值P，聚焦伺服特性和跟蹤伺服特性可能會(huì)劣化，并且可能降 低盤驅(qū)動(dòng)裝置的操作可靠性。
日本未審查專利申i青^^開(kāi)第2004-171679號(hào)7>開(kāi)了一種能夠防 止由于共振峰值的出現(xiàn)而引起的聚焦伺服和跟蹤伺服特性劣化的 示例性光學(xué)拾取裝置。在這種光學(xué)拾取裝置中，作為重物的線圏用 粘彈性粘合劑連接到透鏡支架，從而構(gòu)成了阻尼器。
通過(guò)將作為重物的線圏用粘彈性粘合劑連接到透鏡支架構(gòu)成 阻尼器，在透鏡支架上產(chǎn)生的振動(dòng)被阻尼器吸收。這減小了共振峰 值。因此，確保了令人滿意的聚焦和跟蹤伺力良特性。

發(fā)明內(nèi)容
在日本未審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第2004-171679號(hào)中披露的光學(xué)拾 取裝置存在的問(wèn)題在于，用彈性粘合劑構(gòu)成的阻尼器的性能在高溫
下使用時(shí)容易劣化，并且在使用一段時(shí)間后，由于彈性粘合劑的耐 熱性不充分，其物理性質(zhì)常常會(huì)隨時(shí)間變化。
此外，粘彈性的粘合劑有時(shí)會(huì)釋放出揮發(fā)性的物質(zhì)。如果釋放 出來(lái)的揮發(fā)性物質(zhì)粘到物鏡上，那么就可能降#^光學(xué)才合取裝置的光 學(xué)性能。
期望根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置能夠克 服上述問(wèn)題，并且在不降低性能的情況下確保令人滿意的伺服特 性。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供了 一種光學(xué)才合取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝
置，其中，物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)包4舌以下元件固定組塊，固定在可移動(dòng) 基座上；可移動(dòng)組塊，具有物4免和支持物鏡的透鏡支架，可移動(dòng)組 塊凈皮配置為沿聚焦方向、3艮蹤方向、和傾斜方向相對(duì)于固定組塊移 動(dòng)，其中，上述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離盤記錄介質(zhì)的記錄表面的方 向，上述跟蹤方向是盤記錄介質(zhì)的大致徑向，以及上述傾斜方向是 在與聚焦方向和跟蹤方向均正交的方向上延伸的軸的旋轉(zhuǎn)方向；多 個(gè)支撐彈簧，連接固定組塊和可移動(dòng)組塊；聚焦磁路，被配置為4吏 可移動(dòng)組塊沿聚焦方向移動(dòng)，并且包括聚焦線圏和聚焦》茲體；i 艮蹤 石茲路，；故配置為4吏可移動(dòng)組塊沿跟蹤方向移動(dòng)，并且包括跟蹤線圏 和跟蹤》茲體；以及傾斜磁路，被配置為使可移動(dòng)組塊沿傾斜方向移 動(dòng)，并且包括傾斜線圏和傾斜磁體。透鏡支架包括支持物鏡的主體、
阻尼器的薄部。傾殺牛線圏和傾^^茲體之一連4妄至薄部。
因此，在光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置中，在透鏡支架上產(chǎn)生的 l展動(dòng)^皮用作動(dòng)力阻尼器的薄部所吸收。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供了一種光學(xué)拾取裝置，被配置為用
激光照射裝載在盤架上的盤記錄介質(zhì)。光學(xué)拾取裝置包括可移動(dòng) 基座，被配置為可沿裝載在盤架上的盤記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)；以及 物鏡驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)，安裝在可移動(dòng)基座上。物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定組 塊，固定在可移動(dòng)基座上；可移動(dòng)組塊，具有物鏡和支持物4竟的透 4竟支架，可移動(dòng)組塊^皮配置為沿聚焦方向、3艮蹤方向、和傾殺牛方向 相對(duì)于固定組塊移動(dòng)，其中，上述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離盤記錄介 質(zhì)的記錄表面的方向，上述跟蹤方向是盤記錄介質(zhì)的大致徑向，以 及上述令頁(yè)殺牛方向是在與聚焦方向和3艮蹤方向均正交的方向上延4申 的軸的旋轉(zhuǎn)方向；多個(gè)支撐彈簧，連接固定組塊和可移動(dòng)組塊；聚 焦》茲3各，帔配置為〗吏可移動(dòng)組塊沿聚焦方向移動(dòng)，并且包括聚焦線 圏和聚焦不茲體；跟蹤^茲路，；故配置為使可移動(dòng)組塊沿跟蹤方向移動(dòng)， 并且包括跟蹤線圈和跟蹤》茲體；以及傾斜》茲^各，被配置為使可移動(dòng) 組塊沿傾殺+方向移動(dòng)，并且包^"傾殺+線圏和傾名牛^茲體。透鏡支架包 括支持物鏡的主體、以及從主體突出并且用作吸收在可移動(dòng)組塊 上產(chǎn)生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器的薄部。傾斜線圏和傾斜磁體之一連接 至薄部。
因此，該光學(xué)拾取裝置沒(méi)有了諸如在相關(guān)技術(shù)中觀測(cè)到的功能 劣化問(wèn)題，即，相關(guān)技術(shù)中使用了粘彈性的粘合劑，在高溫下4吏用 期間，在長(zhǎng)期使用后，因?yàn)獒尫艙]發(fā)性物質(zhì)，所以出現(xiàn)了功能劣化。 因此，能夠確保在聚焦和跟蹤期間令人滿意的伺服特性。
在根據(jù)以上實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置中，傾斜線圏可以連接至透 4竟支架的薄部，聚焦線圏和所述3艮蹤線圏可以連4妻至透4竟支架的主 體，并且可以遠(yuǎn)離物4竟5夸過(guò)聚焦線圏和跟蹤線圏來(lái)》文置傾斜線圈。 因此，傾斜線圈和物鏡彼此間有一定距離。在這樣的配置中，在傾 斜線圏上產(chǎn)生的振動(dòng)不易于轉(zhuǎn)移到物鏡上。因此，可以抑制在物鏡 中產(chǎn)生的振動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，盤驅(qū)動(dòng)裝置包括盤架，其上將 裝載盤記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取裝置，被配置為用透射過(guò)物鏡的激 光照射裝載在盤架上的盤記錄介質(zhì)。光學(xué)拾取裝置包括可移動(dòng)基 座，被配置為沿裝載在盤架上的盤記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)；以及安裝 在可移動(dòng)基座上的物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)。物鏡驅(qū)動(dòng)4幾構(gòu)包4舌固定組塊， 固定在可移動(dòng)基座上；可移動(dòng)組塊，具有物4竟和支持物4竟的透4竟支 架，可移動(dòng)組塊一皮配置為沿聚焦方向、跟蹤方向、和傾殺+方向相只于 于固定組塊移動(dòng)，其中，上述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離盤記錄介質(zhì)的 記錄表面的方向，上述跟蹤方向是盤記錄介質(zhì)的大致徑向，以及上 述傾斜方向是在與聚焦方向和跟蹤方向均正交的方向上延伸的軸 的^:轉(zhuǎn)方向；多個(gè)支撐彈簧，連4妾固定組塊和可移動(dòng)組塊；聚焦》茲 ^各，帔配置為4吏可移動(dòng)組塊沿聚焦方向移動(dòng)，并且包4舌聚焦線圈和 聚焦f茲體；跟蹤f茲3各，纟皮配置為4吏可移動(dòng)組塊沿跟蹤方向移動(dòng)，并 且包括跟蹤線圈和跟蹤石茲體；以及傾斜磁路，-故配置為使可移動(dòng)組 塊沿傾斜方向移動(dòng)，并且包括傾斜線圏和傾斜^茲體。透4竟支架包4舌 支持物4竟的主體；以及/人主體突出并且用作吸"文在可移動(dòng)組塊上產(chǎn) 生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器的薄部。傾斜線圈和所述傾斜》茲體之一連接 至薄部。
因此，包括光學(xué)拾取裝置的盤驅(qū)動(dòng)裝置沒(méi)有產(chǎn)生在包括相關(guān)技 術(shù)光學(xué)拾取裝置的盤驅(qū)動(dòng)裝置中所觀測(cè)到的功能劣化問(wèn)題，相關(guān)4支 術(shù)中使用了粘彈性的粘合劑，在高溫下使用期間，在長(zhǎng)期使用后， 因?yàn)獒宆:出揮發(fā)性物質(zhì)，所以產(chǎn)生了功能劣化。因此，能夠確^f呆在 聚焦和跟蹤期間令人滿意的伺服特性。


圖1是包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的盤驅(qū)動(dòng)裝置的 示意性透^L圖2是包括在根據(jù)實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置中的物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的 》欠大透一見(jiàn)圖3是包括在根據(jù)實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置中的可移動(dòng)組塊的放 大透一見(jiàn)圖4是示出了^F艮據(jù)實(shí)施例的光學(xué)拾取裝置的頻率特性的圖； 圖5是示出了相關(guān)技術(shù)的光學(xué)拾取裝置的頻率特性的圖；
具體實(shí)施例方式
接下來(lái)將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng) 裝置的實(shí)施例。
參照?qǐng)D1,盤驅(qū)動(dòng)裝置1具有外殼2，外殼內(nèi)裝有相關(guān)組件和 機(jī)構(gòu)。外殼2具有盤插槽(未示出)。
外殼2內(nèi)還裝有底盤(未示出)。底盤岸義載主軸馬達(dá)。盤架3 固定在主軸馬達(dá)的馬達(dá)軸上。
底盤還承載有彼此平行的導(dǎo)軸4和4，并且支撐由進(jìn)給馬達(dá)(未 示出)旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)螺桿5。
光學(xué)拾取裝置6包括可移動(dòng)基座7、設(shè)置在可移動(dòng)基座7上的 相關(guān)光學(xué)組件、以及安裝在可移動(dòng)基座7上的物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)8。在 可移動(dòng)基座7的兩端處i殳置有軸〃K 7a和7b， 4由7K導(dǎo)軸4和4用軸 承滑動(dòng)地支撐可移動(dòng)基座7。
設(shè)置給可移動(dòng)基座7的螺母構(gòu)件(未示出)螺紋地嚙合導(dǎo)螺桿 5。當(dāng)通過(guò)進(jìn)給馬達(dá)旋轉(zhuǎn)導(dǎo)螺桿5時(shí)，螺母構(gòu)件沿根據(jù)導(dǎo)螺桿5旋
轉(zhuǎn)方向的方向移動(dòng)，從而，光學(xué)拾取裝置6沿裝載在盤架3上的盤 記錄介質(zhì)100的半徑的方向(徑向)移動(dòng)。
參考圖1和2，物鎮(zhèn):驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)8包括固定組塊9和可移動(dòng)組塊 10?？梢苿?dòng)組塊10相對(duì)于固定組塊9移動(dòng)。物4竟驅(qū)動(dòng)4幾構(gòu)8安裝 在設(shè)置在可移動(dòng)基座7中的安裝凹槽7c中。
固定組塊9和可移動(dòng)組塊10在盤記錄介質(zhì)100的記錄軌道的 +刀線方向(切向)^皮jt匕間隔。
固定組塊9固定在可移動(dòng)基座7上。在固定組塊9的后表面上 有電路板11。
可移動(dòng)組塊10由透4竟支架12和安裝在透4竟支架上的相關(guān)組件 構(gòu)成。
參照?qǐng)D3，透鏡支架12包括主體13以及/人主體13突出的薄部 14和14。主體13以及薄部14和14作為整體形成。
主體13包括透鏡安裝部13a、突出部13b和13b (;f皮此水平間 隔并且從透鏡安裝部13a的后面向后方突出)、以及連接部13c (連 *接在突出部13b和13b的后端處)。透4竟支架12的這種配置l是供了 由透鏡安裝部13a的后表面、突出部13b和13b的內(nèi)表面、以及連 4妄部13c的前表面限定的配置空間15。
物鏡16和17安裝在主體13的頂部并由透鏡安裝部13a支持 物鏡16和17 4皮配置為與不同類型的盤i己錄介質(zhì)100 ( i者如4吏用波 長(zhǎng)約780 nm的激光的致密盤(CD )、使用波長(zhǎng)約660 nm的激光的 數(shù)字通用盤(DVD)、以及使用波長(zhǎng)約450nm的激光的藍(lán)光盤)一 起使用。
薄部14和14從主體13的連接部13c的右端和左端分別向右 和向左突出，并且具有大致矩形的纟反狀(其表面分別面向前方和后 方)。薄部14和14的厚度為1 mm以下，例如0.3 mm，并且用作 吸收在可移動(dòng)組塊10上產(chǎn)生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器。
在透鏡支架12中，在透鏡安裝部13a的后表面處設(shè)置有聚焦 線圏18以及if艮^宗線圈19和19。聚焦線圈18置于配置空間15中， 3艮A宗線圈19和19分別置于聚焦線圏18的左側(cè)和右側(cè)。
在透4竟支架12中，在薄部14和14的各個(gè)后表面處i殳置有傾 殺牛線圈20和20。因此，遠(yuǎn)離物鏡16和17^,過(guò)隔聚焦線圈18以及 跟蹤線圏19和19》文置傾斜線圈20和20。
在透4竟支架12中，在透4竟安裝部13a的右側(cè)和左側(cè)處分別i殳 置有連4妄4反21和21。連4妄才反21和21經(jīng)由其連4妄端子(未示出) 與聚焦線圏18、 3艮蹤線圏19和19以及傾名牛線圏20和20的各個(gè)端 子相連。
安裝在固定組塊9上的電^各板11與安裝在可移動(dòng)組塊10上的 各個(gè)連接板21和21經(jīng)由三個(gè)支撐彈簧22連接，每個(gè)支撐彈簧22 的一端均連接至電路板11，另一端連接至連接板21和21之一。因 此，利用支撐彈簧22,可移動(dòng)組塊10連接至固定組塊9同時(shí)保持 處于懸浮狀態(tài)。
支撐彈簧22由導(dǎo)電金屬材料制成，并且例如形狀為絲狀。在 物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)8中，驅(qū)動(dòng)電流從電源電3各(未示出)經(jīng)由電^各板11、 支撐彈簧22以及連接板21和21被提供給聚焦線圏18，跟蹤線圏 19和19或者，頁(yè)4斗線圈20和20。
在可移動(dòng)基座7的安裝凹槽7c中具有由磁性金屬材料制成的 輒元件23。
軛元件23包括其分別朝上和朝下的表面水平延伸的基座部 23a;,人基座部23a的前端向上突出的第一扼部23b、也/人基座部 23a的前端向上突出的第二輒部23c和23c、以及從基座部23a的后 端向上突出的第三輒部23d和23d。第二軛部23c和23c分別位于 第 一軛部23b的左右兩側(cè)。第三軛部23d和23d 4皮此水平間隔。
在第一扼部23b的前表面上i殳置有聚焦》茲體24。在第二軛部 23c和23c的前表面上分別i殳置有跟蹤》茲體25和25。在第三輒部 23d和23d的前表面上分別設(shè)置有傾斜,茲體26和26。將第一扼部 23b和聚焦》茲體24 乂人下側(cè)插入到配置空間15中。
聚焦-磁體24面向聚焦線圏18。 3艮蹤f茲體25和25分別面向3艮 蹤線圈19和19。傾斜磁體26和26分另'J面向傾斜線圈20和20。
聚焦線圈18、聚焦磁體24以及第一輒部23b構(gòu)成聚焦》茲3各27。 3艮蹤線圏19和19、 5艮蹤》茲體25和25以及第二4厄部23c和23c構(gòu) 成3艮蹤》茲3各28。傾4斗線圏20和20、傾斜J茲體26和26以及第三輒 部23d和23d構(gòu)成傾斜磁路29 。
將驅(qū)動(dòng)電流從電源電路(未示出)提供給聚焦線圏18、跟蹤線 圏19和19或者傾殺牛線圏20和20產(chǎn)生了方向取決于驅(qū)動(dòng)電流的方 向以及由聚焦》茲體24、 3艮蹤f茲體25和25或者傾釗J茲體26和26產(chǎn) 生的,茲通量的方向的力。因此，可移動(dòng)組塊10沿聚焦方向、i 艮蹤 方向或者，頁(yè)殺牛方向^多動(dòng)。
聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離盤記錄介質(zhì)100的方向(圖2中的方向 F)，即，垂直方向。跟蹤方向是盤記錄介質(zhì)100的徑向(圖2中的 方向TR)，即，7jc平方向。，頁(yè)殺牛方向在與聚焦方向和3艮3宗方向均正 交的方向(切線方向)上延伸的軸的旋轉(zhuǎn)方向(圖2中的方向TI)。
當(dāng)可移動(dòng)組塊10沿聚焦方向、3艮蹤方向或傾斜方向移動(dòng)時(shí)， 支撐彈簧22彈性變形。
在如上所述配置的盤驅(qū)動(dòng)裝置1中，當(dāng)主軸馬達(dá)旋轉(zhuǎn)盤架3時(shí)， 裝載在盤架3上的盤記錄介質(zhì)100旋轉(zhuǎn)。同時(shí)，光學(xué)拾取裝置6沿 盤記錄介質(zhì)100的徑向移動(dòng)，乂人而在盤記錄介質(zhì)100上了記錄4言息 或者,人盤記錄介質(zhì)IOO再生了信息。
當(dāng)在記錄或再生期間驅(qū)動(dòng)電流^皮-提供給聚焦線圏18時(shí)，如上 所述，物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)8的可移動(dòng)組塊10沿圖2所示的聚焦方向F-F 相對(duì)于固定組塊9移動(dòng)。因此，執(zhí)行聚焦調(diào)節(jié)以使透過(guò)物鏡16或 17的激光點(diǎn)會(huì)聚在盤記錄介質(zhì)100的記錄表面上。
當(dāng)驅(qū)動(dòng)電流一皮提供給跟蹤線圏19和19時(shí)，如上所述，物4竟驅(qū) 動(dòng)機(jī)構(gòu)8的可移動(dòng)組塊10沿圖2所示的跟蹤方向TR-TR相對(duì)于固 定組塊9移動(dòng)。因此，執(zhí)行跟蹤調(diào)節(jié)以使透過(guò)物鏡16或17的激光 點(diǎn)會(huì)聚在盤記錄介質(zhì)100的記錄專九道上。
當(dāng)驅(qū)動(dòng)電流被提供給傾斜線圏20和20時(shí)，如上所述，物^:驅(qū) 動(dòng)才幾構(gòu)8的可移動(dòng)《且塊10沿圖2所示的傾凍+方向TI-TI相對(duì)于固定 組塊9移動(dòng)。因此，扭j亍傾名牛調(diào)節(jié)，以4吏透過(guò)物4竟16或17的-敫光 的光軸變?yōu)榕c盤記錄介質(zhì)100的記錄表面垂直。
在光學(xué)拾取裝置6中，可移動(dòng)組塊10在聚焦和3艮蹤期間容易 振動(dòng)，而薄部14和14上的傾斜線圈20和20起到了重物用作。因 此，薄部14和14起到了動(dòng)力阻尼器的作用。具體地，當(dāng)主體13 在聚焦和跟蹤期間振動(dòng)時(shí)，薄部14和14以與在主體13中產(chǎn)生的 -振動(dòng)周期不同的周期(取決于薄部14和14的具體彈性才莫量和重量) 振動(dòng)。因此，在聚焦和跟蹤期間，減小了使伺服特性劣化的共振頻
率的共振峰值。因此，能夠確保具有令人滿意的聚焦和跟蹤伺服特 性。
圖4是示出了聚焦和跟蹤過(guò)程中的頻率特性的圖。實(shí)線示出光 學(xué)拾取裝置6的頻率特性，而虛線示出圖5所示的相關(guān)技術(shù)光學(xué)拾 取裝置的頻率特性。參照?qǐng)D4，光學(xué)拾取裝置6具有在兩個(gè)特定共 振頻率范圍內(nèi)的共振峰值(Pl和P2)。共振峰值Pl和P2均小于相 關(guān)技術(shù)光學(xué)拾取裝置的共振峰值P。
在使用粘彈性的粘合劑的相關(guān)技術(shù)光學(xué)拾取裝置中，在高溫下 使用期間，在長(zhǎng)期使用后，因?yàn)閾]發(fā)性物質(zhì)的釋放，常常出現(xiàn)功能 性劣化。然而，包4舌如上所述用作動(dòng)力阻尼器的薄部14和14作為 透鏡支架12的一部分的光學(xué)拾取裝置6不會(huì)出現(xiàn)在相關(guān)技術(shù)光學(xué) 拾取裝置中觀測(cè)到的功能性劣化。因此，光學(xué)拾取裝置6能夠確保 在聚焦和^艮蹤時(shí)令人滿意的伺力良特性。
在能夠減小共4展峰值的光學(xué)沖合取裝置6中，可以使可移動(dòng)組塊 IO在聚焦和跟蹤期間遵循高頻振動(dòng)。因此，光學(xué)拾取裝置6能夠?qū)?現(xiàn)高增益伺服操作，并因此能夠應(yīng)對(duì)高速操作。
另一方面，因?yàn)?i殳置在薄部14和14上的傾殺牛線圏20和20的 存在，在傾殺牛期間，光學(xué)沖合取裝置6在傾名牛線圏20和20和物4竟16 和17之間會(huì)具有降^f氐的傳遞特性(transfer characteristic )。然而， 降低的傳遞特性并不會(huì)使物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)8的性能劣化。這是因?yàn)椋?雖然使用反饋電路基于伺服操作執(zhí)行聚焦和跟蹤并因此需要減小 共振峰值以改善運(yùn)行可靠性，但是傾斜并不是基于這種伺服操作執(zhí) 行的，而是基于根據(jù)目標(biāo)值的前饋操作執(zhí)行的。
在光學(xué)拾取裝置6中，傾斜線圈20和20與物4竟16和17 4皮此 間間隔，并且兩者之間4翁入有聚焦線圏18以及所述^艮蹤線圏19和
19。在這種配置中，在傾殺牛線圏20和20上產(chǎn)生的才展動(dòng)不容易禍:傳 遞給物鏡16和17。因此，能夠抑制在物鏡16和17上產(chǎn)生的振動(dòng)。
上述描述集中于所謂移動(dòng)線圏型的示例性物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)8，其 中，聚焦線圏18、跟蹤線圈19和19以及傾斜線圈20和20連接至 透鏡支架12。可選地，還可以使用所謂移動(dòng)^茲體型的物鏡驅(qū)動(dòng)4幾構(gòu)， 其中，聚焦磁體24、跟蹤/磁體25和25以及傾斜石茲體26和26連接 至透4竟支架12。
在上述描述中作為實(shí)例的物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)8包括一個(gè)聚焦線圏、 兩個(gè)i 艮蹤線圏、兩個(gè)傾名+線圈、 一個(gè)聚磁體、兩個(gè)跟蹤f茲體以及 兩個(gè)傾斜磁體。然而，線圏和磁體的數(shù)量并不限于一個(gè)或兩個(gè)，并 且當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明時(shí)，可以提供任意數(shù)量的線圏和磁體。
上述描述集中于將兩個(gè)薄部14和14用作動(dòng)力阻尼器的實(shí)例。 然而，薄部的數(shù)量并不限于兩個(gè)，并且當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明時(shí)，可以提供 任意數(shù)量的薄部。
在上述描述中，聚焦方向、跟蹤方向以及切向分別對(duì)應(yīng)于垂直 方向、7K平方向和前后方向。然而，提供這些方向'l"生表達(dá)為方《更， 并且不限于這些方向。
以上具體描述的組件的形狀和配置僅僅是本發(fā)明的示例性實(shí) 施例，而不限制本發(fā)明的范圍。
本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，根據(jù)設(shè)計(jì)要求和其它因素，可以在附 件權(quán)利要求的范圍或其等同范圍內(nèi)，進(jìn)行各種修改、組合、子組合 和變化。
權(quán)利要求
1. 一種光學(xué)拾取裝置，被配置為用激光照射裝載在盤架上的盤記錄介質(zhì)，所述光學(xué)拾取裝置包括:可移動(dòng)基座，被配置為沿裝載在所述盤架上的所述盤記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)；以及物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，安裝在所述可移動(dòng)基座上，其中，所述物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:固定組塊，固定在所述可移動(dòng)基座上；可移動(dòng)組塊，具有物鏡和支持所述物鏡的透鏡支架，所述可移動(dòng)組塊被配置為沿聚焦方向、跟蹤方向和傾斜方向相對(duì)于所述固定組塊移動(dòng)，其中，所述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離所述盤記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟蹤方向是所述盤記錄介質(zhì)的大致徑向，以及所述傾斜方向是在與所述聚焦方向和所述跟蹤方向均正交的方向上延伸的軸的旋轉(zhuǎn)方向；多個(gè)支撐彈簧，連接所述固定組塊和所述可移動(dòng)組塊；聚焦磁路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述聚焦方向移動(dòng)，并且包括聚焦線圈和聚焦磁體；跟蹤磁路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述跟蹤方向移動(dòng)，并且包括跟蹤線圈和跟蹤磁體；以及傾斜磁路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述傾斜方向移動(dòng)，并且包括傾斜線圈和傾斜磁體，其中，所述透鏡支架包括:主體，支持所述物鏡；以及薄部，從所述主體突出，并且用作吸收在所述可移動(dòng)組塊中產(chǎn)生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器，以及其中，所述傾斜線圈和所述傾斜磁體之一連接至所述薄部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取裝置，其中，所述傾斜線圏連接至所述透鏡支架的所述薄部，其中，所述聚焦線圏和所述跟蹤線圈連接至所述透鏡支 架的聲斤述主體，以及其中，遠(yuǎn)離所述物鏡跨過(guò)所述聚焦線圈和所述跟蹤線圏 ;故置所述傾殺+線圈。
3. —種盤驅(qū)動(dòng)裝置，包括盤架，其上將裝載盤記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取裝置，被配置為用透過(guò)物鏡的激光照射裝載在 所述盤架上的所述盤記錄介質(zhì)，其中，所述光學(xué)拾取裝置包括可移動(dòng)基座，；故配置為沿裝載在所述盤架上的所述 盤記錄介質(zhì)的徑向移動(dòng)；以及物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，安裝在所述可移動(dòng)基座上，其中，所述物4竟驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)包4舌固定組塊，固定在所述可移動(dòng)基座上；可移動(dòng)組塊，具有物鏡和支持所述物鏡的透鏡支架， 所述可移動(dòng)組塊#皮配置為沿聚焦方向、5艮蹤方向和傾殺牛 方向相對(duì)于所述固定組塊移動(dòng)，其中，所述聚焦方向是朝向或遠(yuǎn)離所述盤記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟 蹤方向是所述盤記錄介質(zhì)的大致徑向，以及所述傾方向是在與所述聚焦方向和所述跟蹤方向均正交的方向上延伸的軸的旋轉(zhuǎn)方向；多個(gè)支撐彈簧，連接所述固定組塊和所述可移動(dòng)組塊；聚焦磁路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述聚焦 方向移動(dòng)，并且包括聚焦線圈和聚焦磁體；跟蹤磁路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述跟蹤 方向移動(dòng)，并且包括跟蹤線圏和跟蹤》茲體；以及傾斜f茲路，被配置為使所述可移動(dòng)組塊沿所述傾斜 方向移動(dòng)，并且包4舌傾4牛線圏和傾釗4茲體，其中，所述透鏡支架包括主體，支持所述物鏡；以及薄部，從所述主體突出，并且用作吸收在所述可移 動(dòng)組塊中產(chǎn)生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器，以及其中，所述傾斜線圏和所述傾斜磁體之一連接至所述薄部。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取裝置和盤驅(qū)動(dòng)裝置，其中，該光學(xué)拾取裝置包括可移動(dòng)基座和安裝在可移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。物鏡驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括固定在可移動(dòng)基座上的固定組塊；可移動(dòng)組塊，具有物鏡和支持物鏡的透鏡支架，可移動(dòng)組塊沿聚焦方向、跟蹤方向和傾斜方向移動(dòng)；支撐彈簧，連接固定組塊和可移動(dòng)組塊；聚焦磁路，包括聚焦線圈和聚焦磁體；跟蹤磁路，包括跟蹤線圈和跟蹤磁體；以及傾斜磁路，包括傾斜線圈和傾斜磁體。透鏡支架包括支持物鏡的主體、以及從主體突出并用作吸收在可移動(dòng)組塊上產(chǎn)生的振動(dòng)的動(dòng)力阻尼器的薄部。傾斜線圈或傾斜磁體連接到所述薄部。
文檔編號(hào)G11B7/09GK101388229SQ20081021207
公開(kāi)日2009年3月18日 申請(qǐng)日期2008年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月14日
發(fā)明者磯部裕史 申請(qǐng)人:索尼株式會(huì)社