專利名稱：物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和使用它的光學(xué)頭及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，以及使用該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的光學(xué)頭和光 學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置。
背景技術(shù)：
主流的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置是配線支撐(wire-support)型的，其中上面安 裝有物鏡和驅(qū)動(dòng)線圈的透鏡支架由多條配線彈性支撐，并且其中在透鏡 支架附近布置有永磁體，通過配線向驅(qū)動(dòng)線圈提供電流，從而對(duì)物鏡的 狀態(tài)進(jìn)行控制。這種類型的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置通常在物鏡的上表面上覆蓋有 帶孔的蓋。提供此蓋是為了避免由于永磁體或軛與光盤之間的碰撞而損 壞光盤，并避免在制造過程中由于工人的手指觸及配線而導(dǎo)致的配線的 變形，或避免由于接觸而導(dǎo)致的用于對(duì)配線進(jìn)行減震的阻尼材料的減少 或劣化。日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_平第H09-180223號(hào)中所述的蓋被成形為，可 以覆蓋物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的上表面、內(nèi)周側(cè)的側(cè)面和外周側(cè)的側(cè)面。近年來，由于光盤容量的增大，對(duì)于更快速的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)的需 求也在增長(zhǎng)。隨著記錄和再現(xiàn)速度的增大，主軸馬達(dá)的尺寸不可避免地 增大，并且主軸馬達(dá)在徑向上占用的空間也不斷擴(kuò)大。由此出現(xiàn)的問題 是，在不對(duì)主軸馬達(dá)占用的空間擴(kuò)大的狀況進(jìn)行改進(jìn)的情況下，使用具 有上述常規(guī)結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭時(shí)，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置不能移動(dòng)到光盤的最內(nèi)周。 還出現(xiàn)了這樣的問題，即，當(dāng)所述蓋的內(nèi)周側(cè)的側(cè)板部彎曲成弧形以與 主軸馬達(dá)的外周的形狀相一致從而避免所述蓋與主軸馬達(dá)發(fā)生碰撞時(shí)， 透鏡支架的移動(dòng)范圍受到了限制。發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的是提供一種避免了配線變形、阻尼材料減少和
其他問題的小型物鏡驅(qū)動(dòng)裝置；以及提供一種使用該裝置的光學(xué)頭和光 學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置。
本發(fā)明的上述和其他方面可以通過一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置來實(shí)現(xiàn)，該物 鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括透鏡支架，其用于支承物鏡；驅(qū)動(dòng)線圈，其附接在所 述透鏡支架；永磁體，其用于在所述驅(qū)動(dòng)線圈中產(chǎn)生磁通量；軛底座(底 座部件)，所述永磁體附接在該軛底座上；配線(支撐部件)，其用于彈 性支撐所述透鏡支架并向所述驅(qū)動(dòng)線圈提供電流；以及配線底座(固定 部件)，其由樹脂制成并且所述配線的一端固定到其上，其中所述配線底 座設(shè)置有用于覆蓋所述配線的一部分的整體(integral)配線蓋部。
根據(jù)本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，所述配線底座本身提供了用于覆蓋所 述配線的布線區(qū)的保護(hù)結(jié)構(gòu)，因此減小了所述裝置的總體尺寸，從而在 附接在光學(xué)頭上時(shí)易于對(duì)所述裝置進(jìn)行操作。
本發(fā)明的配線底座優(yōu)選地還設(shè)置有阻尼材料容納盒，該阻尼材料容 納盒填充有阻尼材料，其中所述配線穿過所述阻尼材料容納盒并被布置 為由所述阻尼材料包圍。在所述配線底座設(shè)置有阻尼材料容納盒的情況 下，當(dāng)操作物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的工人的手指觸及阻尼材料容納盒時(shí)，阻尼材 料容易出現(xiàn)減少、老化或其他不利影響。然而，根據(jù)本發(fā)明的配線底座 是與所述一體地構(gòu)成的；因此，可以將阻尼材料容納盒形成為，與其中 配線底座和蓋分離的情況相比具有更大的深度。因此，可以形成這樣的 結(jié)構(gòu)，即，無論該設(shè)備布置在何處，只要不用細(xì)小物體有意地觸及阻尼 材料容納盒，就不會(huì)觸及阻尼材料。
所述配線底座的上表面優(yōu)選地高于所述永磁體和軛底座的凸出部的 上表面。因此可以使配線底座充當(dāng)蓋。即使該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置與光盤發(fā)生 了碰撞，但是與光盤發(fā)生碰撞的配線底座由樹脂制成的事實(shí)意味著，與 碰撞涉及金屬的情況相比，光盤表面不會(huì)受到嚴(yán)重?fù)p壞。本發(fā)明的配線蓋部?jī)?yōu)選地被布置為沿配線的布線方向延伸并且形狀 為朝向配線的另一端逐漸變細(xì)的錐形。因此，可以相對(duì)于具有相同直徑 的主軸馬達(dá)增大所述蓋部的長(zhǎng)度，從而提高了安全性。本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置優(yōu)選地還包括軛蓋，該軛蓋由樹脂制成并附
接在所述軛底座的所述凸出部上，其中所述軛蓋的上表面優(yōu)選地高于所 述永磁體和所述軛底座的所述凸出部的上表面。即使該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置與 光盤發(fā)生了碰撞，但是與光盤發(fā)生碰撞的配線底座由樹脂制成的事實(shí)意 味著，與碰撞涉及金屬的情況相比，光盤表面不會(huì)受到嚴(yán)重?fù)p壞。本發(fā)明的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置優(yōu)選地還包括止動(dòng)件(stopper)部，其設(shè) 置在所述透鏡支架和所述軛蓋中的一個(gè)上，并向所述透鏡支架和所述軛 蓋中的另一個(gè)延伸，并用來限制所述透鏡支架在尋道方向上的可移動(dòng)范 圍；以及鎖止條，其設(shè)置在所述透鏡支架和所述軛蓋中的所述另一個(gè)上， 并用來至少限制所述止動(dòng)件部在聚焦方向上的可移動(dòng)范圍。因此所述軛 蓋可以兼作用于控制物鏡可移動(dòng)范圍的裝置，從而可以實(shí)現(xiàn)小型的高性 能物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。本發(fā)明的軛蓋優(yōu)選地包括一種能夠從所述軛底座的所述凸出部安裝 和拆卸的結(jié)構(gòu)。具體地說，該軛蓋優(yōu)選地包括寬度等于所述軛底座的 所述凸出部的厚度的間隙部；以及所述凸出部配合到所述間隙部中的結(jié) 構(gòu)。因此可以利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)將所述軛蓋可靠地附接在所述軛底座的所 述凸出部上。具體地說，以可靠的方式將所述軛蓋臨時(shí)固定到所述軛底 座上，因此可以容易地進(jìn)行粘合和其他操作。本發(fā)明的上述和其他目的也可以通過一種光學(xué)頭來實(shí)現(xiàn)，該光學(xué)頭 包括激光光源；物鏡，其用于將從所述激光光源發(fā)出的激光束聚焦到 光盤的記錄表面上；光探測(cè)器，其用于接收從所述光盤反射的光；以及 上述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其用于驅(qū)動(dòng)所述物鏡。本發(fā)明的上述和其他目的也可以通過一種光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置來實(shí) 現(xiàn)，該光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置包括主軸機(jī)構(gòu)，其用于使光盤旋轉(zhuǎn)；上述 光學(xué)頭，其被設(shè)置為能夠在光盤的徑向上自由運(yùn)動(dòng)；以及控制器，其用 于控制所述光學(xué)頭。因此，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供防止配線變形、阻尼材料減少和其他 問題的小型物鏡驅(qū)動(dòng)裝置；并且能夠提供使用該裝置的光學(xué)頭和光學(xué)記 錄和再現(xiàn)裝置。


通過以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其他 目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更為明顯，附圖中圖1是示例性示出根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝 置的結(jié)構(gòu)的框圖；圖2是示出光學(xué)頭20的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖3是示出光學(xué)頭20與主軸馬達(dá)12的位置關(guān)系的簡(jiǎn)化平面圖；圖4是示出物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30的構(gòu)成的簡(jiǎn)化立體圖；圖5是僅示出軛底座的構(gòu)成的簡(jiǎn)化立體圖；圖6是示出透鏡支架42的構(gòu)成的簡(jiǎn)化立體圖；圖7是物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30的構(gòu)成的側(cè)視圖；圖8是用于說明透鏡支架42的位移的簡(jiǎn)化截面圖；而圖9是僅示出軛蓋46的構(gòu)成的簡(jiǎn)化立體圖。
具體實(shí)施方式
下面將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。圖1是示意性示出根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝 置的結(jié)構(gòu)的框圖。如圖1所示，光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置IO包括:主軸馬達(dá)12，其用于 使光盤11旋轉(zhuǎn)；光學(xué)頭20，其用于將激光束照射到光盤11上并接收從 光盤反射的光；控制器13，其用于控制主軸馬達(dá)12和光學(xué)頭20的操作; 激光驅(qū)動(dòng)電路14，其用于向光學(xué)頭20提供激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)；以及透鏡驅(qū)動(dòng) 電路15，其用于向光學(xué)頭20提供透鏡驅(qū)動(dòng)信號(hào)?？刂破?3包括聚焦伺服控制器16、尋道伺服控制器17和激光控制 器18。當(dāng)聚焦伺服控制器16工作時(shí)，焦點(diǎn)被集中在旋轉(zhuǎn)光盤11的信息 記錄表面上。當(dāng)尋道伺服控制器17工作時(shí)，相對(duì)于光盤11的偏心信號(hào) 軌道對(duì)激光束斑進(jìn)行自動(dòng)尋道。聚焦伺服控制器16設(shè)置有自動(dòng)增益控制 功能以自動(dòng)調(diào)節(jié)聚焦增益，并且尋道伺服控制器17設(shè)置有自動(dòng)增益控制 功能以自動(dòng)調(diào)節(jié)尋道增益。激光控制器18生成由激光驅(qū)動(dòng)電路14提供
的激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)。激光控制器18基于與記錄在光盤11上的記錄條件設(shè)定有關(guān)的信息來生成適當(dāng)?shù)募す怛?qū)動(dòng)信號(hào)。聚焦伺服控制器16、尋道伺服控制器17和激光控制器18不必是控 制器13中的內(nèi)置電路，還可以是與控制器13分離的部件。這些電路不 必是物理電路，還可以是在控制器13中執(zhí)行的軟件。圖2是示出光學(xué)頭20的構(gòu)成的示意圖。如圖2所示，光學(xué)頭20包括激光光源21;衍射光柵22，其用于 將來自激光光源21的光束分為多束；準(zhǔn)直器23，其用于使從衍射光柵 22發(fā)出的激光束變得平行；鏡24，其用于將平行激光束導(dǎo)向光盤ll;物 鏡25，其用于將激光束會(huì)聚到盤表面上；分束器26，其用于將從光盤ll 反射的光導(dǎo)向感光元件28;畸變透鏡27，其用于對(duì)從分束器26反射的 光進(jìn)行會(huì)聚；以及所述感光元件28，其用于接收經(jīng)畸變透鏡27會(huì)聚的反 射光。物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30對(duì)物鏡25相對(duì)于光盤11的位置進(jìn)行精確控制。 更具體地說，通過在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)物鏡25來執(zhí)行用于將束斑聚焦到光 盤11的記錄表面上的聚焦校正，并通過在尋道方向上驅(qū)動(dòng)物鏡25來執(zhí) 行使束斑跟隨光盤11的軌道的尋道校正。通過使物鏡25以切線方向?yàn)?旋轉(zhuǎn)軸在尋道方向上旋轉(zhuǎn)來執(zhí)行與盤的曲率相對(duì)應(yīng)的傾角的校正。圖3是示出光學(xué)頭20與主軸馬達(dá)12的位置關(guān)系的簡(jiǎn)化平面圖。如圖3所示，光學(xué)頭20設(shè)置有殼體32，其能夠沿平行于光盤的 徑向布置的兩個(gè)導(dǎo)軸31、 31進(jìn)行移動(dòng)；設(shè)置在殼體32上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝 置30;設(shè)置在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30中的物鏡25;以及包括激光驅(qū)動(dòng)電路等 的控制基板33。雖然在圖3中未示出，但是在殼體32上還安裝有諸如激 光光源21和分束器26的光學(xué)元件。殼體32的面向主軸馬達(dá)12的內(nèi)周側(cè)上的一側(cè)在尋道方向具有彎曲 部32a，彎曲部32a輕微彎曲以與主軸馬達(dá)12的外周表面相符?？梢允?光學(xué)頭20朝向光盤(未示出)的內(nèi)周。物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30設(shè)置在彎曲部 32a附近，并且物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30的面向主軸馬達(dá)12的表面還具有彎曲成 與主軸馬達(dá)12的外周表面相符的形狀。在所得設(shè)計(jì)中，即使物鏡25移 動(dòng)到光盤的最內(nèi)周也不會(huì)接觸主軸馬達(dá)12。 圖4是示出該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)成的示意立體圖。如圖4所示，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30設(shè)置有充當(dāng)?shù)鬃考能椀鬃?1;設(shè)置在軛底座41上的透鏡支架42;設(shè)置在透鏡支架42的上部的中心的 物鏡25;在切線方向上設(shè)置在透鏡支架42的兩側(cè)的永磁體43a、 43b; 在尋道方向上布置在透鏡支架42的兩側(cè)的配線44;配線底座45，其由 樹脂制成并設(shè)置在從透鏡支架42看去永磁體43a附近的區(qū)域中；以及軛 蓋46，其由樹脂制成并設(shè)置在從透鏡支架42看去永磁體43b的一側(cè)。圖5是僅示出軛底座41的構(gòu)成的示意立體圖。如圖5所示，軛底座41由磁性材料制成并具有由該軛底座的垂直彎 曲部形成的兩個(gè)相對(duì)的凸出部41a、 41b。軛底座41的一側(cè)形成有彎曲成 與主軸馬達(dá)12的外周表面相符的彎曲部41c。凸出部41b的左側(cè)和右側(cè) 設(shè)置有用于鎖止軛蓋的凸部(突起)41d。永磁體43a、 43b分別附接在 具有上述結(jié)構(gòu)的軛底座41的凸出部41a、 41b上并位于透鏡支架42的切 線方向上。因此，軛底座41的凸出部41a、 41b充當(dāng)永磁體43a、 43b的 軛，并且永磁體43a、 43b產(chǎn)生磁通量，該磁通量大體沿切線方向穿過附 接在透鏡支架42上的線圈并在聚焦方向和尋道方向上延伸。圖6是示出透鏡支架42的構(gòu)成的示意立體圖。如圖6所示，透鏡支架42大致呈塊狀，并包括彎曲彈性高的較輕材 料，例如晶體聚合物。從透鏡支架42的上表面向下表面延伸的中心部設(shè) 置有供激光束穿過的圓孔，并且物鏡25固定在該圓孔的上部。透鏡支架 42的兩個(gè)切向側(cè)面的中心設(shè)置有在切線方向繞軸而成的尋道線圈48。尋 道線圈48的兩側(cè)設(shè)置有在切線方向繞軸而成的聚焦線圈47、 47。按照以 聚焦方向?yàn)檩S環(huán)繞透鏡支架42的側(cè)面的方式設(shè)置了傾斜線圈49。配線44是用于彈性支撐透鏡支架42的彈性支撐部件。這些配線還 用于向聚焦線圈47、尋道線圈48和傾斜線圈49提供電流。透鏡支架42 的兩側(cè)各連接了三條配線，因此總共有六條配線。圖7是物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30的構(gòu)成的側(cè)視圖。如圖7所示，配線44的端部44a通過焊接而固定到設(shè)置在配線底座 45的背面的印刷基板50上。在配線底座45側(cè)面上的設(shè)定范圍(配線44
在該設(shè)定范圍內(nèi)從印刷基板50向透鏡支架42延伸)內(nèi)設(shè)置有填充了凝 膠形阻尼材料的阻尼材料容納盒51 。配線44被設(shè)置為穿過這些阻尼材料 容納盒51。因此，配線44被阻尼材料包圍，從而由阻尼材料來吸收配線 44的振動(dòng)。配線44的另一端部44b通過焊接而固定到伸出部52以包纏繞驅(qū)動(dòng) 線圈47至49的端子并電連接至驅(qū)動(dòng)線圈47至49的端子。透鏡支架42 的側(cè)面設(shè)置有定位伸出部53。配線44的中部配合在定位伸出部53的遠(yuǎn) 端部所設(shè)置的V形槽53a中。因此配線44彈性支撐透鏡支架42，并且 軛底座41保持在浮動(dòng)狀態(tài)。圖4中所示的配線底座45不但充當(dāng)用于固定配線44的端部的固定 部件，而且充當(dāng)配線44的保護(hù)部件。配線底座45的側(cè)面部的形狀為沿 配線44的布線方向延伸，因此配線底座45具有沿切線方向延伸以部分 地覆蓋配線的配線蓋部45a。如現(xiàn)有技術(shù)那樣，在用蓋覆蓋整個(gè)裝置時(shí)能 夠可靠地保護(hù)配線44，但是在省去蓋以減小裝置的尺寸時(shí)就會(huì)暴露出配 線，從而可能出現(xiàn)配線變形、阻尼材料減少和其他缺陷。然而，正如本 實(shí)施方式那樣，為配線底座45設(shè)置配線蓋部45a并為配線底座45本身 設(shè)置用于保護(hù)配線的結(jié)構(gòu)，就能夠在不出現(xiàn)上述缺陷的情況下減小裝置 的尺寸。配線蓋部45a不必覆蓋沿切線方向延伸的配線的整體長(zhǎng)度，而 是可以部分地覆蓋配線。換句話說，配線蓋部45a應(yīng)當(dāng)覆蓋某一區(qū)域， 使得在對(duì)充當(dāng)配線的彈性部件的部分進(jìn)行處理時(shí)不會(huì)發(fā)生接觸。通過保 護(hù)所需的最小范圍，可以減小物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的尺寸，從而在附接在光學(xué) 頭上的過程中可以容易地對(duì)物鏡驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行操作。本實(shí)施方式的配線蓋部45a具有隨著靠近配線的另一端而變細(xì)的錐 形。因此，可以相對(duì)于具有相同直徑的其他馬達(dá)增大配線蓋部45a的長(zhǎng) 度，從而提高了安全性。然而，如上所述，配線蓋部45a不必保護(hù)全部 配線。， 配線底座45還用于保護(hù)永磁體43a和位于軛底座41 一側(cè)的凸出部 41a的上表面。因此，將配線底座45的上表面設(shè)定為高于永磁體43a和 軛底座的凸出部41a的上表面，并將配線底座45的角部倒成圓角。當(dāng)如 現(xiàn)有技術(shù)那樣整個(gè)裝置被樹脂蓋覆蓋時(shí)，即使物鏡驅(qū)動(dòng)裝置與光盤發(fā)生 碰撞，覆蓋整個(gè)裝置的蓋與光盤碰撞，盤表面也不會(huì)受到嚴(yán)重?fù)p壞，但是當(dāng)省去蓋以減小裝置的尺寸時(shí)，就會(huì)暴露出金屬部(即永磁體43a和 軛底座41的凸出部41a)，從而盤表面可能遭到損壞。然而，如本實(shí)施方 式那樣，通過使配線底座45高于永磁體43a和軛底座的凸出部41a的上 表面，可以防止金屬部與盤表面之間發(fā)生接觸。按照類似于配線底座45的方式，本實(shí)施方式的軛蓋46用于保護(hù)永 磁體43b和軛底座41的另一側(cè)的凸出部41b的上表面，并部分地覆蓋永 磁體43b的角部和凸出部41b的角部。軛蓋46的上表面高于永磁體43b 和軛底座的凸出部41b的上表面，并且將軛蓋46的角部倒成圓角。當(dāng)如 現(xiàn)有技術(shù)那樣整個(gè)裝置被樹脂蓋覆蓋時(shí)，即使物鏡驅(qū)動(dòng)裝置與光盤發(fā)生 碰撞，覆蓋整個(gè)裝置的蓋與光盤碰撞，盤表面也不會(huì)受到嚴(yán)重?fù)p壞，但 是當(dāng)省去蓋以減小裝置的尺寸時(shí)，就會(huì)暴露出金屬部(即永磁體43a和 軛底座41的凸出部41a),從而盤表面可能遭到過度損壞。如上所述，可以將現(xiàn)有的配線底座45用于一側(cè)的永磁體43a和凸出 部41a，但是還沒有可用于另一側(cè)的永磁體43b和凸出部41b的現(xiàn)有部件。 因此還設(shè)置了僅覆蓋永磁體43b和凸出部41b的軛蓋46，并且如本實(shí)施 方式那樣，使軛蓋46的高度高于永磁體43b和軛底座的凸出部41b的上 表面，從而解決了該問題。本實(shí)施方式的軛蓋46不僅用作如上所述的蓋，而且用作限制透鏡支 架42的移動(dòng)范圍的止動(dòng)件。如圖7所示，透鏡支架42的側(cè)面設(shè)置有沿配線44的布線方向朝軛 蓋46延伸的止動(dòng)件部54。本實(shí)施方式的止動(dòng)件部54與用于端子纏繞的 中間凸出部一體地形成。同時(shí)，軛蓋46的側(cè)面設(shè)置有上鎖止條46a和下 鎖止條46b。止動(dòng)件部54位于上鎖止條46a和下鎖止條46b之間。圖8是用于說明透鏡支架42的位移的示意性截面圖。如圖8所示，止動(dòng)件部54被設(shè)置成與永磁體43b的側(cè)面分開規(guī)定距 離dl。透鏡支架42和物鏡25以虛線示出，而永磁體43b以方形點(diǎn)劃線 示出。當(dāng)透鏡支架42沿箭頭所示的聚焦方向位移很大時(shí)，止
與上鎖止條46a或下鎖止條46b相接觸，從而可以限制沿聚焦方向的位 移。當(dāng)透鏡支架42沿箭頭所示的尋道方向位移很大時(shí)，止動(dòng)件部54與 永磁體43b的側(cè)面43s相接觸，從而可以限制沿尋道方向的位移。由于 止動(dòng)件部54與上鎖止條46a、下鎖止條46b或永磁體43b的側(cè)面43s的 接觸，還可以限制傾角的位移。圖9是僅示出軛蓋46的構(gòu)成的示意立體圖。如圖9所示，軛蓋46設(shè)置有背板部46X，其用于覆蓋軛底座的凸 出部的主表面；側(cè)面部46Y、 46Y，其用于覆蓋凸出部的側(cè)面。上鎖止條 46a和下鎖止條46b為側(cè)面部46Y而設(shè)。上鎖止條46a與下鎖止條46b 之間的間隔形成為插口，供設(shè)置在凸出部41b上的凸部(突起)41d (見 圖5)插入。背板部46X與上鎖止條46a之間的間隔的寬度Wl大致上與 凸出部41b的厚度相同。在該間隔中形成有軛蓋46可配合于其中的間隙 部46d。軛蓋46從箭頭P所示的切線方向設(shè)置在凸出部41b上，并且設(shè) 置在凸出部41b上的凸部(突起)41d從軛蓋46的插口插入。然后向下 按壓軛蓋46，從而突起41d配合到間隙部46d中，由此將軛蓋46附接在 凸出部41b上，從而由軛蓋46來保護(hù)永磁體43b和軛底座的凸出部41b。 因此，采用根據(jù)本實(shí)施方式的軛蓋46的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)，以可靠的方式將軛蓋 臨時(shí)固定到軛底座上，從而可以容易地執(zhí)行粘合和其他操作。根據(jù)如上所述的本實(shí)施方式的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30，配線底座45本身 提供了用于覆蓋一部分布線區(qū)域的保護(hù)結(jié)構(gòu)，從而可以省去專門的蓋， 可以減小裝置的整體尺寸，在附接在光學(xué)頭和其他過程期間工人不會(huì)觸 及配線或阻尼材料，從而可以按照更為直接的方式操作物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。 根據(jù)本實(shí)施方式的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置30，配線蓋部45a呈朝向配線的另一端 逐漸變細(xì)的錐形，因此配線蓋部45a的端部沒有伸出到軛底座的彎曲部 之外，從而可以將配線蓋部45a進(jìn)一步容納在相比于軛底座的內(nèi)側(cè)。因 此，透鏡底座的允許移動(dòng)范圍沒有受到限制，并且即使主軸馬達(dá)在徑向 占據(jù)的空間擴(kuò)大，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置也能夠移動(dòng)到光盤的最內(nèi)周。因此，已參照具體實(shí)施方式
示出并說明了本發(fā)明。但是應(yīng)注意到， 本發(fā)明絕不限于所述設(shè)置的細(xì)節(jié)，而是可以在不背離所附權(quán)利要求的情
況下作出修改和變型。例如，在上述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的實(shí)施方式中給出了一實(shí)施例，其中將 三種類型的驅(qū)動(dòng)線圈，即，聚焦線圈、尋道線圈和傾斜線圈，設(shè)置為驅(qū)動(dòng)線圈，并且左側(cè)和右側(cè)各設(shè)置有三條配線，總共六條配線。但是，并 未具體地限定本發(fā)明的驅(qū)動(dòng)線圈的數(shù)量和配線的數(shù)量。因此，例如可以省去傾斜線圈，可以在左側(cè)和右側(cè)各設(shè)置兩條配線，總共四條配線。在上述實(shí)施方式中，配線被用作彈性支撐透鏡支架42的支撐部件， 但是也可以將長(zhǎng)板簧用作透鏡支架42的支撐部件。上述實(shí)施方式中給出了一實(shí)施例，其中在配線底座45本身提供配線 的保護(hù)結(jié)構(gòu)的情況下設(shè)置有軛蓋，但是本發(fā)明并不限于這些情況。例如， 在不具有用于保護(hù)配線的結(jié)構(gòu)的配線底座45上放置有單獨(dú)的蓋的結(jié)構(gòu)中 也可以設(shè)置軛蓋，并且其中軛、永磁體和配線得到保護(hù)。
權(quán)利要求
1、 一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括 透鏡支架，其用于支承物鏡；驅(qū)動(dòng)線圈，其附接在所述透鏡支架上； 永磁體，其用于在所述驅(qū)動(dòng)線圈中產(chǎn)生磁通量； 底座部件，所述永磁體附接在該底座部件上； 支撐部件，其用于彈性支撐所述透鏡支架；以及 固定部件，其由樹脂制成并且所述支撐部件的一端固定到其上，其 中所述固定部件包括用于覆蓋所述支撐部件的一部分的整體蓋部。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中所述固定部件還包括 阻尼材料容納盒，其填充有阻尼材料；并且所述支撐部件穿過所述阻尼 材料容納盒并被布置為由所述阻尼材料包圍。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中所述固定部件的上表面高于所述永磁體和所述底座部件的凸出部的上表面。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中所述蓋部被設(shè)置為沿 所述支撐部件的布線方向延伸并呈朝向所述支撐部件的另一端逐漸變細(xì) 的錐形。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置還包括軛 蓋，該軛蓋由樹脂制成并附接在所述底座部件的所述凸出部上，其中所 述軛蓋的上表面高于所述永磁體和所述底座部件的所述凸出部的上表 面。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置還包括 止動(dòng)件部，其設(shè)置在所述透鏡支架和所述軛蓋中的一個(gè)上，并向所述透鏡支架和所述軛蓋中的另一個(gè)延伸，并用來限制所述透鏡支架在尋 道方向上的可移動(dòng)范圍；以及鎖止條，其設(shè)置在所述透鏡支架和所述軛蓋中的所述另一個(gè)上，并 用來至少限制所述止動(dòng)件部在聚焦方向上的可移動(dòng)范圍。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中所述軛蓋包括能夠從 所述底座部件的所述凸出部安裝和拆卸的結(jié)構(gòu)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中所述軛蓋包括寬度等于所述底座部件的所述凸出部的厚度的間隙部；以及所述凸出部配合 到所述間隙部中的結(jié)構(gòu)。
9、 一種光學(xué)頭，該光學(xué)頭包括-激光光源；物鏡，其用于將從所述激光光源發(fā)出的激光束聚焦到光盤的記錄表 面上；光探測(cè)器，其用于接收從所述光盤反射的光；以及 根據(jù)權(quán)利要求1到8中任意一項(xiàng)所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
10、 一種光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置，該光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置包括 主軸機(jī)構(gòu)，其用于使光盤旋轉(zhuǎn)； 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)頭；以及控制器，其用于控制所述光學(xué)頭。 .
全文摘要
本發(fā)明提供了物鏡驅(qū)動(dòng)裝置和使用它的光學(xué)頭及光學(xué)記錄和再現(xiàn)裝置。該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置有軛底座；設(shè)置在軛底座上的透鏡支架；設(shè)置在透鏡支架的上部中心的物鏡；在切線方向上設(shè)置在透鏡支架兩側(cè)的永磁體；在尋道方向上布置在透鏡支架的兩側(cè)的配線；配線底座，其由樹脂制成并被設(shè)置在從透鏡支架看去靠近永磁體的區(qū)域中；以及由樹脂制成的軛蓋。軛蓋的上表面高于永磁體和軛底座的凸出部的上表面。配線底座還包括在切線方向上延伸以部分地覆蓋配線的配線蓋部。配線蓋部呈接近配線的另一端時(shí)變細(xì)的錐形。
文檔編號(hào)G11B7/09GK101123097SQ20071014026
公開日2008年2月13日 申請(qǐng)日期2007年8月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月8日
發(fā)明者鈴木啟史 申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社