專利名稱：透鏡驅動裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及本發(fā)明是關于用于光盤播放器寫入和讀出信息的透鏡驅動裝置的，更具體地，是關于采用平面線圈的透鏡驅動裝置的配置的。
2．相關技術描述有一種已知的透鏡驅動裝置，它在光軸方向(在聚焦方向)上驅動目標透鏡，把光線會聚成光盤表面的一個光束，用于讀取以光學形式記錄在光盤上的信息。該透鏡驅動裝置也在垂直于透鏡光軸方向上驅動目標透鏡，以允許讀光束跟隨信息軌道。
希望構成透鏡驅動裝置的可移動部分尺寸小重量輕。如

圖1A所示，給出的是一種線圈線軸類型5，其中聚焦線圈3和尋跡線圈4纏繞在有一個目標透鏡1構建在其上的線軸2上。有人建議在線圈線軸型5的對應位置上如圖1B所示，采用印制線圈類型8(例如，日本公開專利No.Hei8-203103)。對于印制線圈類型8，在其上構建有目標透鏡1的支架6的兩側用粘合劑或類似物質固定有平面線圈板7，線圈板7是被模制的，并蝕刻上聚焦線圈3和尋跡線圈4。
然而，對于日本專利Kokai No.8-203103推薦的線圈板7，如圖1C所示，聚焦線圈3通過在磁鐵9的N極和S極之間設置而在聚焦方向上產(chǎn)生驅動力(用箭頭F表示)。兩個尋跡線圈4位于磁鐵9的N極而兩個尋跡線圈4位于磁鐵9的S極。另外，每個尋跡線圈4大約只有四分之一在磁鐵9的磁場內(在尋跡圖中，在以箭頭T表示的方向上)。因而，由四部分構成的尋跡線圈4在尋跡方向上產(chǎn)生驅動力。由此，印制線圈類型8的線圈板7需要被調整，以便在尋跡方向上實質性地擴展從磁鐵9的外形開始的邊緣部分。另外，磁鐵9用于尋跡線圈4的有效磁場被減小，而線圈板7被做成大于磁鐵9的外形。
發(fā)明目標和概要本發(fā)明是從上述問題的角度開發(fā)的。本發(fā)明的一個目標是提供一個有效利用磁鐵的磁通量的透鏡驅動裝置并提供更小尺寸的線圈板。
本發(fā)明的另一個目標是提供減少了線圈數(shù)量的透鏡驅動裝置，從而提供尺寸小、成本低的線圈板。
為解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的第一方面的透鏡驅動裝置包含一個可在聚焦和尋跡方向移動的透鏡支架、安裝在透鏡支架上的聚焦和尋跡驅動線圈。該設備還包含用于給聚焦和尋跡線圈分配磁通的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置其特征在于每個聚焦和尋跡驅動線圈都包括一對平面線圈，在垂直于抖動方向的平面上形成，線圈軸平行于抖動方向并在實質上垂直于聚焦和尋跡方向。該透鏡驅動裝置其特征也在于，磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量以互為相反的方向分配到平面線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。該透鏡驅動裝置其特征更進一步在于平面線圈對兒的每個虛線關于平行于抖動方向并包括光軸的一個平面對稱。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第二方面的透鏡驅動裝置是上述透鏡驅動裝置，其特征在于磁通分配裝置包括對于平面線圈互為相反方向的磁鐵，該磁鐵相對于兩個區(qū)域的每一個具有不同的磁極。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第三方面的透鏡驅動裝置是根據(jù)第一特性的透鏡驅動裝置。該透鏡驅動裝置其特征在于磁通分配裝置安裝在平面線圈的相反方向并具有垂直于抖動方向的磁極表面，并且在以虛線為界的兩個區(qū)域上有不同的磁極。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第四方面的透鏡驅動裝置是上述透鏡驅動裝置中的任何一個。該透鏡驅動裝置其特征在于構成聚焦驅動線圈的平面線圈對兒的每一個被饋以同向驅動電流，另一方面，構成尋跡驅動線圈的平面線圈對兒的每一個被饋以反向驅動電流。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第五方面的透鏡驅動裝置是上述根據(jù)本發(fā)明的第一方面到第三方面的透鏡驅動裝置中的任何一個。該透鏡驅動裝置其特征在于構成聚焦驅動線圈的平面線圈對兒的每一個被饋以反向驅動電流，另一方面，構成尋跡驅動線圈的平面線圈對兒的每一個被饋以同向驅動電流。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第六方面的透鏡驅動裝置是上述透鏡驅動裝置中的任何一個。該透鏡驅動裝置其特征在于構成聚焦驅動線圈的平面線圈對兒和構成尋跡驅動線圈的平面線圈對兒在同一平面內形成，沿抖動方向一個放在另一個上面。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第七方面的透鏡驅動裝置是上述透鏡驅動裝置中的任何一個。該透鏡驅動裝置其特征在于構成聚焦驅動線圈的平面線圈對兒的每一個都產(chǎn)生驅動力以獲得合成聚焦驅動力，另一方面，構成尋跡驅動線圈的平面線圈對兒的每一個都產(chǎn)生驅動力以獲得合成尋跡驅動力。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第八方面的透鏡驅動裝置包含一個透鏡支架，該支架有一個用于安裝在聚焦方向擴展的軸桿的軸承孔，使支架能沿軸滑動、繞軸轉動。該透鏡驅動裝置也包含安裝在透鏡支架上的聚焦和尋跡驅動線圈，和用于把磁通量分配給聚焦和尋跡驅動線圈的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置其特征在于，每個聚焦和尋跡驅動線圈都包含一對兒有垂直于聚焦方向的光軸的平面線圈。該透鏡驅動裝置其特征也在于，磁通分配裝置把磁通量以互為相反的方向分配到線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。該透鏡驅動裝置其特征更進一步在于線圈對兒的每個虛線關于包括光軸的一個平面對稱。
上述透鏡驅動裝置包含一個可以在聚焦和尋跡方向上移動的透鏡支架，和安裝在透鏡支架上的聚焦和尋跡驅動線圈。該設備也包含用于把磁通量分配給聚焦和尋跡驅動線圈的磁通分配裝置。每個聚焦和尋跡驅動線圈都包括一對兒平面線圈，在垂直于抖動方向的平面上形成，線圈軸平行于抖動方向并在實質上垂直于聚焦和尋跡方向。磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量以互為相反的方向分配到平面線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。平面線圈對兒的每個虛線關于平行于抖動方向并包括光軸的一個平面對稱。因此，對構成聚焦驅動線圈的平面線圈對兒的每一個饋以同向驅動電流將導致透鏡支架沿聚焦方向被驅動。另一方面，對構成尋跡驅動線圈的平面線圈對兒的每一個饋以反向驅動電流將導致透鏡支架沿尋跡方向被驅動。
為解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的第九方面的透鏡驅動裝置包含一個可以在聚焦和尋跡方向上移動的透鏡支架。該設備也包含安裝在透鏡支架上的、用于在聚焦方向和尋跡方向上產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的聚焦和尋跡驅動線圈，和用于把磁通量分配給驅動線圈的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置其特征在于每個驅動線圈包含一對兒關于包括光軸并垂直于尋跡方向的平面對稱的線圈。該設備的特征也在于磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量以互為相反的方向分配到平面線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。該設備的特征進一步在于線圈對兒中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第十方面的透鏡驅動裝置是根據(jù)本發(fā)明第九方面的透鏡驅動裝置。該設備的特征在于線圈對兒在垂直于抖動方向的同一平面內。
根據(jù)本發(fā)明的第十一方面的透鏡驅動裝置是根據(jù)本發(fā)明第九方面的透鏡驅動裝置。該設備的特征在于線圈對兒是在同一塊印制板上制成，它平行于與抖動方向垂直的平面。
根據(jù)本發(fā)明的第十二方面的透鏡驅動裝置是根據(jù)本發(fā)明第九到第十一方面的透鏡驅動裝置中的任意一個。該設備的特征在于磁通分配裝置包括與驅動線圈反向的磁極表面，磁極表面對應于兩個區(qū)域有不同的磁極。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十三方面的透鏡驅動裝置包含一個可以在聚焦和尋跡方向上移動的透鏡支架。該設備也包含安裝在透鏡支架上的、用于在聚焦方向和尋跡方向上產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的聚焦和尋跡驅動線圈，和用于把磁通量分配給驅動線圈的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置的特征在于，驅動線圈包含第一線圈和第二線圈，每個線圈都處于垂直于抖動方向的第一平面內，并關于包括光軸并垂直于尋跡方向的平面對稱。這里，第三線圈和第四線圈處于平行于第一平面的第二平面內，并關于包括光軸并垂直于尋跡方向的平面對稱。第一和第二線圈組成的一組與第三和第四線圈組成的一組的每一個都關于光軸對稱。上述磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量以互為相反的方向分配到平面線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。而且，第一和第二線圈中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。對于第三和第四線圈，與第一和第二線圈中饋以和電流的一個相對的那個線圈被饋以差電流，與另一個饋以差電流的線圈相對的那個則被饋以和電流。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第十四方面的透鏡驅動裝置是上述透鏡驅動裝置，其特征在于第一線圈和第二線圈在同一印制板上制成，并平行于與抖動方向垂直的一個平面。另一方面，第三線圈和第四線圈在同一印制板上制成，并平行于與抖動方向垂直的一個平面。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第十五方面的透鏡驅動裝置是上述根據(jù)本發(fā)明第九到第十四方面的透鏡驅動裝置中的任何一個。該透鏡驅動裝置其特征在于虛線相對于聚焦和尋跡方向均傾斜45度。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第十六方面的透鏡驅動裝置包含一個透鏡支架，該支架有一個用于安裝在聚焦方向擴展的軸桿的軸承孔，使支架能沿軸滑動、繞軸轉動。該透鏡驅動裝置也包含安裝在透鏡支架上的用于在聚焦方向和尋跡方向產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的聚焦和尋跡驅動線圈，和用于把磁通量分配給聚焦和尋跡驅動線圈的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置其特征在于每個驅動線圈包含對稱于包括軸桿的一個平面、線圈軸垂直于聚焦方向的一個線圈對兒。該透鏡驅動裝置的特征進一步在于線圈對兒中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。
根據(jù)本發(fā)明的第九到第十六方面的透鏡驅動裝置包含一個可在聚焦和尋跡方向上移動的透鏡支架。該設備也包含安裝在透鏡支架上的用于在聚焦方向和尋跡方向產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的驅動線圈，和用于把磁通量分配給驅動線圈的磁通分配裝置。該透鏡驅動裝置被配置成每個驅動線圈包含關于包括光軸并垂直于尋跡方向的一個平面對稱的一個線圈對兒。該設備也被配置成磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量以互為相反的方向分配到平面線圈的被與聚焦和尋跡方向都相關的斜虛線分成的兩個區(qū)域。該設備被進一步配置成線圈對兒中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。因此，與先前的技術設備相比，減少線圈的數(shù)量是可能的，因而可以實現(xiàn)成本和尺寸的減少。
附圖簡述這些特點和本發(fā)明的其他目標和優(yōu)點，將在下面參照附圖的描述中變得更清楚，其中圖1A到圖1C根據(jù)先前技術的透鏡驅動裝置的一個例子，給出了平面線圈與磁鐵之間的關系，圖2A和圖2B是描述了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的透鏡驅動裝置150的外觀，圖3是原理性透視圖，描述了其中的諸如V形磁鐵11與V形驅動線圈80之間的相對關系，這些構成了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置150，圖4A和圖4B是描述了構成根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置150的V形驅動線圈80的配置的原理圖，圖5A和圖5B是描述了聚焦驅動線圈的線路圖，該聚焦驅動線圈構成了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置的V形驅動線圈，圖6A和圖6B是描述了尋跡驅動線圈的線路圖，該驅動線圈構成了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置的V形驅動線圈，圖7A到圖7C是描述如何驅動平面線圈的解釋性視圖，圖8A到圖8C是描述在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置中的聚焦方向上的驅動力的解釋性視圖，圖9A到圖9C是描述在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置中的尋跡方向上的驅動力的解釋性視圖，圖10A到圖10D是描述聚焦線圈和尋跡線圈之間傾斜關系和在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置中的驅動力的解釋性視圖，圖11A和圖11B是描述V形磁鐵和反向V形磁鐵的不同結構的視圖，
圖12A和圖12B是描述了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的平面圖和正視圖，圖13A到圖13C是描述了根據(jù)本發(fā)明第三實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的視圖，圖14是描述了根據(jù)本發(fā)明第四實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的視圖，圖15A和圖15B是描述了根據(jù)本發(fā)明第五實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的平面圖和正視圖，圖16A和圖16B是描述了用于根據(jù)本發(fā)明第五實施例的透鏡驅動裝置中的V形驅動線圈的視圖，圖17是描述了其中的諸如V形磁鐵和V形驅動線圈的位置關系的原理性透視圖，圖18是描述了V形驅動線圈的驅動方式的解釋性視圖，圖19A到圖19E是描述了如何驅動平面線圈的解釋性視圖，圖20A和圖20B是描述了用于允許V形驅動線圈和反向V形驅動線圈的合成驅動力定位于聚焦方向的操作的解釋性視圖，圖21A和圖21B是描述了用于允許V形驅動線圈和反向V形驅動線圈的合成驅動力定位于尋跡方向的操作的解釋性視圖，圖22是描述了用于允許V形驅動線圈和反向V形驅動線圈的合成驅動力定位于左上方60度方向的操作的解釋性視圖，圖23到圖25是描述了圖22中驅動力的矢量的視圖，圖26到圖29是描述了驅動線圈A和B之間的傾斜度與驅動力之間關系的視圖，
圖30A和圖30B是描述了根據(jù)本發(fā)明第六實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的平面圖和正視圖，圖31A到圖31C是描述了根據(jù)本發(fā)明第七實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的視圖，圖32是描述了根據(jù)本發(fā)明第八實施例的透鏡驅動裝置的主要部分的外觀的視圖。
優(yōu)選實施例的詳細描述圖2A和圖2B是描述了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的透鏡驅動裝置150的主要部分的外觀。另外，圖3是原理性透視圖，描述了V形磁鐵11與V形驅動線圈80之間、反向V形磁鐵12與反向V形驅動線圈90之間的位置關系，其中的每一個構成了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的透鏡驅動裝置150。附帶地，圖2A是描述了透鏡驅動裝置150的頂視圖，而圖2B是描述了透鏡驅動裝置150的側視圖。
根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的透鏡驅動裝置150有一對L形軛13，用一些螺釘14固定于平面?zhèn)鲃悠脚_10上。對于L形軛13，其一與V形磁鐵11固定在一起，另一與反向V形磁鐵12固定在一起，彼此間隔一個預留磁隙相背地放置，磁鐵是用于產(chǎn)生磁場的。在V形磁鐵11與反向V形磁鐵12之間放置一可移動部件100，部件100由用螺釘14固定在傳動平臺10上的支撐座20的四個支撐金屬絲21來支撐。
例如，V形磁鐵11是一個三路分離的多級磁鐵，一個直角三角形磁鐵的N極表面和兩個直角三角形磁鐵的S極表面形成一個方形磁極表面。V形磁鐵11的N極表面位于V形字母的中心，S極表面位于N極的左、右兩側。亦即，V形磁鐵11的磁極被其傾斜度與聚焦和尋跡方向相關的虛線(后面將詳述)分開。而且，在傾斜方向上，即在與焦距和尋跡方向垂直的方向上調整V形磁鐵11，產(chǎn)生彼此相反的磁通。另外，反向V形磁鐵12是一個三路分離的多級磁鐵，一個直角三角形磁鐵的S極表面和兩個直角三角形磁鐵的N極表面形成一個方形磁極表面。反向V形磁鐵12的S極表面位于V形字母的中心，N極表面位于S極的左、右兩側。
可移動部分100包含一個透鏡支架30，一般為方形，其上放置一個目標透鏡31?？梢苿硬糠?00也包含用粘合劑或類似物固定到透鏡支架30側面的V形驅動線圈80，它在抖動的方向上(用箭頭J表示)正對著V形磁鐵11。可移動部分100進一步包含用粘合劑或類似物固定到透鏡支架30側面的反向V形驅動線圈90或V形驅動線圈80，它在抖動的方向上被旋轉180度正對著反向V形磁鐵12放置。此外，調整四個支撐金屬絲21來支撐在尋跡方向上從透鏡支架30伸出的四個支架部分32a、32b(用箭頭T表示)。可移動部分100因此在聚焦(用箭頭F表示)和尋跡方向上是可移動的。
支撐金屬絲21是由導電條狀或片狀彈性材料制造。它的一端被卷曲并放大，形成拉動部分22a，支撐金屬絲21的一部分在制造支撐平臺的時候利用外插成形方法或類似方法一體化制造。支撐金屬絲21的另一端同樣被卷曲并放大，形成連接部分22b，用粘合劑或類似物把它固定在透鏡支架30上的四個支撐部分32a、32b。
根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的透鏡驅動裝置150的特征是前面所提到的V形驅動線圈80的配置。這里，V形驅動線圈80的配置參照圖4A和4B進行概述。附帶地，圖4A是描述V形驅動線圈80的原理性平面視圖，4B是描述V形驅動線圈80的原理性側視圖。
舉例來說，如圖4B所示，V形驅動線圈80有一個聚焦驅動線圈40和一個尋跡驅動線圈60，其中的一個放置在另一個上面，中間內插一個絕緣板57或類似物，彼此使用跳線J1-J4連接。如圖4A所示，聚焦驅動線圈40提供了聚焦線圈43，兩個在前面，兩個在反面，通過模制和蝕刻銅箔在聚焦板41的兩面形成相同的模式，或者是由諸如環(huán)氧玻璃制造的一個雙面敷銅印制板制成。類似地，尋跡驅動線圈60提供了在尋跡板61或雙面敷銅印制板上制成的四個尋跡線圈63。而且，反向V形驅動線圈90是旋轉了180度的V形驅動線圈80。因而，可以理解，通過順序描述構成驅動線圈80的聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60，可以說明V形驅動線圈80和反向V形驅動線圈90的配置。
首先，下面將參照圖5A和圖5B，說明構成V形驅動線圈80的聚焦驅動線圈40的配置。附帶地，圖5A包括一個描述聚焦驅動線圈40的前側的平面視圖(頂層視圖)和一個描述聚焦驅動線圈40的另一側的透視圖(底層視圖)，而圖5B是描述聚焦驅動線圈40的剖視圖。
如圖5A和圖5B所示，聚焦驅動線圈40是一個如下制成的平面線圈。即，第一聚焦線圈43a和第四聚焦線圈43d在聚焦板41的前面的銅箔上被制成在實質上相同的橢圓形，聚焦板平行于抖動方向并關于包括光軸的一個平面對稱(用直線C表示)。第二聚焦線圈43b和第三聚焦線圈43c，都同樣有上述形狀，在背面與上述線圈同樣位置處制成。第一聚焦線圈43a和第二聚焦線圈43b處于光軸右側，彼此通過通孔44、45連接。第三聚焦線圈43c和第四聚焦線圈43d處于光軸左側，彼此通過通孔48、49連接。因而，聚焦線圈對兒43a、43b、43c和43d，放置于右側和左側的構成線圈的每一對兒都由外部導線51串行連接。
附帶地，以雙圈表示的上述通孔44、45、48和49，可通過向透過前面和反面銅箔的孔內注入銀漿，然后烘干銀漿制成?？商娲?，前面和反面銅箔可通過對穿過前面和反面銅箔的孔的內表面電鍍銅箔實現(xiàn)彼此連接。
有橢圓形狀并構成聚焦驅動線圈40的聚焦線圈43跨過V形磁鐵11的N極與S極，其較長的兩側以三路分離的方式被磁化。因此，第一聚焦線圈43a和第二聚焦線圈43b通過繞光軸順時針旋轉約45度制成。另一方面，第三聚焦線圈43c和第四聚焦線圈43d通過繞光軸逆時針旋轉約45度制成。通過這樣配置，聚焦驅動線圈40能夠在光軸的上下兩側產(chǎn)生相等的聚焦驅動力，這將在后面描述。
下一步，解釋聚焦驅動線圈40的布線方法。放置在聚焦板41前側的第一聚焦線圈43a，其一端與放置在聚焦板41前側外緣的聚焦終端“A”42相連。與聚焦終端“A”42相連的第一聚焦線圈43a以螺旋形從外到內順時針形成，另一端被連接到用于第一聚焦線圈的通孔44。用于第一聚焦線圈的通孔44電氣連接到用于反面第二聚焦線圈的第二聚焦線圈43b。用于反面第二聚焦線圈的第二聚焦線圈43b以螺旋形從內到外順時針形成并連接到用于第二聚焦線圈的通孔45。用于第二聚焦線圈的通孔45連接到通過前側銅箔的聚焦終端“B”46。因此，第一聚焦線圈43a和第二聚焦線圈43b在聚焦終端“A”42和聚焦終端“B”46之間通過用于第一和第二聚焦線圈的通孔44、45進行串行連接。
另一方面，聚焦板41前面的聚焦終端“C”47通過銅箔連接到用于第三聚焦線圈的通孔48。用于第三聚焦線圈的通孔48連接到反面的第三聚焦線圈43c。第三聚焦線圈43c以螺旋形從外到內順時針形成并連接到用于第四聚焦線圈的通孔49。用于第四聚焦線圈的通孔49連接到前面的第四聚焦線圈43d。第四聚焦線圈43d以螺旋形從內到外順時針形成并連接到聚焦板41前面的聚焦終端“D”50。因此，第三聚焦線圈43c和第四聚焦線圈43d在聚焦終端“C”47和聚焦終端“D”50之間通過用于第三和第四聚焦線圈的通孔48、49進行串行連接。聚焦終端“B”46和聚焦終端“C”47之間的外部連線51允許四個聚焦線圈43a-43d在聚焦終端“A”42和聚焦終端“D”50之間進行串行連接，從而形成聚焦線圈40。該聚焦線圈40在垂直于抖動方向的平面內制成，并形成一個線圈軸平行于抖動方向的平面線圈對兒。因而，聚焦線圈40放置在V形磁鐵11的對面，而且，一個聚焦驅動電流被加在聚焦終端“A”42和聚焦終端“D”50之間，因而在聚焦方向上產(chǎn)生一個驅動力。
而且，如圖5A所示，除兩個聚焦線圈43和四個聚焦終端“A”42、“B”50、“C”46、“D”47外，還在聚焦板41的前面提供了四個尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55。每一個都有方形銅箔部分的四個尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55被用于與尋跡板61和四個尋跡線圈63a-63d建立連接，這將在后面描述。分別在尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55的每一銅箔的中心周圍有成形的連接孔52a、53a、54a、55a。
如圖5B所示，這些尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55被用于如下的聚焦板41到尋跡板61之間的連接。即，跳線J1-J4被分別焊接到尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55的銅箔部分。然后，每一個跳線J1-J4通過連接孔52a、53a、54a、55a連接到尋跡板61上。
下一步，將參照圖5A、5B、6A和6B，解釋尋跡驅動線圈60的配置。附帶地，圖6A包括一個描述尋跡驅動線圈60反面的平面視圖(頂層視圖)和一個描述尋跡驅動線圈60前面的透視平面視圖(底層視圖)。圖6B是描述尋跡驅動線圈60的剖視圖。
如圖6A和圖6B所示，尋跡驅動線圈60是用如下方式形成的平面線圈。即，第二尋跡線圈63b和第四尋跡線圈63d在尋跡板61的反面銅箔上以實質上相同的橢圓形狀制成，尋跡板平行于抖動方向并關于包括光軸的一個平面對稱(用直線C表示)。第一尋跡線圈63a和第三尋跡線圈63c，都同樣有上述形狀，在正面與上述線圈相同位置的銅箔處制成。第一尋跡線圈63a和第二尋跡線圈63b處于光軸右側，彼此通過通孔64、65連接。第三尋跡線圈63c和第四尋跡線圈63d處于光軸左側，彼此通過通孔68、69連接。因而，尋跡線圈對兒63a-63d放置于右側和左側的構成線圈的每一對兒都由外部導線56串行連接。
有橢圓形狀并構成尋跡驅動線圈60的尋跡線圈63跨過V形磁鐵11的N極與S極，其較長的兩側以三路分離的方式被磁化。因此，第一尋跡線圈63a和第二尋跡線圈63b通過繞光軸順時針旋轉約45度制成。另一方面，第三聚焦線圈63c和第四聚焦線圈63d通過繞光軸逆時針旋轉約45度制成。通過這樣配置，尋跡驅動線圈60能夠在光軸的左右兩側產(chǎn)生相等的尋跡驅動力，這將在后面描述。
在尋跡板61的前面提供了四個中繼終端62、66、67、70，每一個都在對應于在上述聚焦板41上形成的尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55的位置上有方形銅箔部分。另外，在每一銅箔的中心有成形的連接孔62a、66a、67a、70a。焊接在聚焦板41上的尋跡終端“E”52、“F”53、“G”54、“H”55的銅箔部分的跳線J1-J4通過連接孔52a、53a、54a、55a和尋跡板61上的連接孔62a、66a、67a、70a連接，然后分別焊接到中繼終端62、66、67、70的銅箔部份上。因此聚焦板41和尋跡板61連接到一起。
下一步，解釋尋跡驅動線圈60的布線方法。尋跡板61上的中繼終端62通過跳線J1連接到聚焦板41的尋跡終端“E”52。與尋跡板61正面的中繼終端62相連的第一尋跡線圈63a以螺旋形從外到內順時針形成。第一尋跡線圈63a通過用于第一尋跡線圈的通孔64連接到反面的第二尋跡線圈63b。第二尋跡線圈63b以螺旋形從內到外逆時針形成并通過用于第二尋跡線圈的通孔65連接到中繼終端66。中繼終端66通過跳線J2連接到聚焦板41上的尋跡終端“F”53。即，第一尋跡線圈63a和第二尋跡線圈63b通過兩個通孔64、65和跳線J1、J2串行連接到聚焦板41上的尋跡終端“E”52和尋跡終端“F”53。
另一方面，尋跡板61上的中繼終端67通過跳線J3連接到聚焦板41上的尋跡終端“G”54。連接到尋跡板61正面的中繼終端67的第三尋跡線圈63c以螺旋形從外到內逆時針形成。然后，第三尋跡線圈63c通過通孔68連接到反面的第四尋跡線圈63d。第四尋跡線圈63d以螺旋形從內到外逆時針形成并通過用于第四尋跡線圈的通孔69連接到中繼終端70。中繼終端70通過跳線J4連接到聚焦板41上的尋跡終端“H”55。
即，第三尋跡線圈63c和第四尋跡線圈63d通過兩個通孔68、69和跳線J3、J4串行連接到聚焦板41上的尋跡終端“G”54和尋跡終端“H”55。因而，外部連線56連接尋跡終端“F”53和尋跡終端“G”54，從而形成有四個在尋跡終端“E”52和中繼終端70之間串行連接的尋跡線圈63a-63d的尋跡驅動線圈60。該尋跡驅動線圈60在垂直于抖動方向的一個平面上形成，還形成一個線圈軸平行于抖動方向的平面線圈對兒。因此，尋跡驅動線圈60被放置在V形磁鐵11的對面，并把尋跡驅動電流加到尋跡終端“E”52和中繼終端70之間，從而在尋跡方向產(chǎn)生驅動力。
如上所述，包含聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60的V形驅動線圈80被固定到透鏡支架30的一側。另外，反向V形驅動線圈90或旋轉了180度的V形驅動線圈80被固定到透鏡支架30的另一側。然后，V形驅動線圈80和反向V形驅動線圈90的聚焦驅動線圈40彼此串行連接。另一方面，V形驅動線圈80和反向V形驅動線圈90的尋跡驅動線圈60彼此串行連接。
下一步，將參照圖7A到圖7C解釋如何驅動平面線圈。附帶地，圖7A到圖7C是描述放置到V形磁鐵11對面的驅動線圈的原理性解釋圖。圖7A是描述一種情況，其中，舉例來說，應用一對兒方形驅動線圈58a、58b。圖7B是描述一種情況，其中，舉例來說，應用一對兒圓形驅動線圈59a、59b的平面圖。圖7C是給出總驅動力的矢量圖。附帶地，圓形內有一個點的表示圖中磁通從反面到正面通過，而圓形內有一個十字的表示圖中磁通從正面到反面通過。另外，驅動線圈58a、58b內的箭頭表示流過驅動線圈58a、58b的電流方向，而圖中的空箭頭表示驅動線圈58a、58b的驅動力分力。
如上所述，V形磁鐵11或磁通分配裝置是一個三路分離的多級磁鐵，它成形為方形并包含直角三角形磁鐵的N極表面和兩個直角三角形磁鐵的S極表面。V形磁鐵11的N極表面位于V形字母的中心，S極表面位于N極的左、右兩側。因而，位于中心的N極表面與位于左、右兩側的S極表面的邊界線(指虛直線L)是分別順時針和逆時針繞光軸旋轉45度而成。而且，如圖7A所示，調整驅動線圈58a、58b以允許它們的對角線放置于方形的上述虛直線L上。這意味著用于從V形磁鐵11的N極表面接收磁通量的驅動線圈58a、58b的區(qū)域S1等于V形磁鐵11的S極表面接收磁通量的驅動線圈58a、58b的另一區(qū)域S2。因而，在虛直線L分開的區(qū)域S1、S2，在抖動方向上為驅動線圈58a、58b提供互為相反的磁通。另外，方形驅動線圈58a、58b對兒關于光軸對稱放置。
例如，利用N極表面為位于右側的驅動線圈58a的區(qū)域S1提供從圖中反面到正面的磁通。在箭頭所示方向上為驅動線圈58a饋入的電流將在A部分和B部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向左的驅動分力。而且，利用S極表面為驅動線圈58a的另一區(qū)域S2提供從圖中正面到反面的磁通。因而，在箭頭所示方向上為驅動線圈58a饋入的電流將在驅動線圈58a的C部分和D部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向左的驅動分力。因此，如圖7C所示，驅動線圈58a允許在A、C部分產(chǎn)生的垂直向上的驅動分力和B、D部分產(chǎn)生的水平向左的驅動分力在左上方45度處合成為驅動合力。即，在虛直線L的左面垂直的方向上產(chǎn)生了一個驅動力。
另外，驅動線圈58b的區(qū)域S1位于N極表面的左側。因而，對驅動線圈58b饋以與位于右側的驅動線圈58a中的電流同向的電流，將在A部分和D部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向右的驅動分力。另外，驅動線圈58b的另一區(qū)域S2位于S極表面。因而，將在B部分和C部分分別產(chǎn)生水平向右和垂直向上的驅動分力。因此，如圖7C所示，左側的驅動線圈58b允許A、C部分產(chǎn)生的垂直向上的驅動分力和B、D部分產(chǎn)生的水平向右的驅動分力相加，合成為指向右上方45度驅動合力。因此，如圖7C所示，一左一右一對方形驅動線圈58a、58b的驅動力合成為垂直向上或聚焦方向的驅動合力(由陰影箭頭表示)。
另外，如圖7B所示，環(huán)形驅動線圈59a,59b的中心線位于虛直線L上。因而，用于從V形磁鐵11的N極表面接收磁通量的驅動線圈59a、59b的區(qū)域S3與用于從V形磁鐵11的S極表面接收磁通量的驅動線圈59a、59b的另一區(qū)域S4相等。
驅動線圈59a、59b從E、F部分輻射狀地產(chǎn)生驅動力，然而，虛直線L周圍的驅動分力大小相等方向相反，因而被抵消。舉例來說，如上述位于右側的驅動線圈59a產(chǎn)生一個左上方45度的驅動力，而位于左側的驅動線圈59b產(chǎn)生一個右上方45度的驅動力。因而，如圖7C所示，一左一右一對環(huán)形驅動線圈59a、59b的驅動力合成為垂直向上或聚焦方向的驅動合力。
如上所述，驅動線圈58a、58b以使區(qū)域S1,S2面積相等的形式放置在V形磁鐵11的虛直線L上。另外，區(qū)域S1和另一區(qū)域S2被供給方向相反的磁通，驅動線圈58a、58b從而在聚焦方向上被準確地驅動。而且，當被饋入方向相反的電流時，驅動線圈對兒58a,58b能夠獲得尋跡方向上的驅動力。即，驅動線圈58a、58b并不限定于特定的形狀。但是，這意味著如果驅動線圈58a、58b彼此關于虛直線L對稱且兩區(qū)域S1、S2的面積相等，左右兩側的驅動線圈58a、58b產(chǎn)生的驅動分力相加就能獲得準確的聚焦或尋跡驅動力。
下一步，參照圖8A到8C，解釋聚焦驅動線圈40的操作。圖8A到8C是描述原理性給出的聚焦驅動線圈40與V形磁鐵11間及聚焦驅動線圈40與反向V形磁鐵12間位置關系的解釋性操作視圖。這里只表示出聚焦驅動線圈40的前面的第一聚焦線圈42a和第四聚焦線圈42d。圖8A是描述構成V形驅動線圈80的聚焦驅動線圈40與V形磁鐵11間位置關系的平面視圖。圖8B是描述構成反向V形驅動線圈90的聚焦驅動線圈40(或旋轉180度的聚焦驅動線圈40)與反向V形磁鐵12間位置關系的平面視圖。圖8C是描述聚焦驅動線圈40產(chǎn)生的聚焦驅動力的矢量圖。
如圖8A所示，聚焦驅動線圈40的兩個聚焦線圈43a、43d(一對兒平面線圈)位于V形磁鐵11或磁通分配裝置的對面。聚焦線圈43a、43d以這樣的形式，即聚焦線圈43的每一長邊都跨過N極與S極表面進行放置。即，聚焦線圈43a、43d以使聚焦驅動線圈區(qū)域S1和另一區(qū)域S2的面積關于V形磁鐵11的兩條虛直線L相等的形式放置?？紤]這樣一種情況，即，在如圖所示方向上饋入一個驅動電流且在如圖所示從V形磁鐵11到第一驅動線圈43a方向上分配磁通。在這種情況下，第一聚焦線圈43a的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力(用空箭頭表示)。另外，第四聚焦線圈43d被饋以與第一聚焦線圈43a的電流同向的電流。這樣，第四聚焦線圈43d的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸左下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。因此，如圖8C所示，兩個聚焦線圈43a、43d的驅動力在聚焦方向上合成，產(chǎn)生一個相對光軸向下的聚焦驅動合力(用陰影箭頭表示)。
另外，如圖8B所示，旋轉180度的聚焦驅動線圈40被放置在反向V形磁鐵12的對面?？紤]這樣一種情況，即，在如圖所示方向上饋入一個驅動電流且在如圖所示從反向V形磁鐵12到第一驅動線圈43a方向上分配磁通。在這種情況下，第一聚焦線圈43a的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。另外，第四聚焦線圈43d被饋以與第一聚焦線圈43a的電流同向的電流。這樣，第四聚焦線圈43d的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸左下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。因此，像上面一樣，如圖8C所示，兩個聚焦線圈43a、43d的驅動力合成，產(chǎn)生一個相對光軸向下的聚焦驅動和力。另外，在如圖所示的相反方向上饋入聚焦驅動線圈40一個驅動電流，將在聚焦驅動線圈40上產(chǎn)生一個相對光軸向上的聚焦驅動力。
下一步，參照圖9A到9C，解釋尋跡驅動線圈60的操作。像圖8A到8C一樣，圖9A到9C是描述原理性給出的尋跡驅動線圈60與V形磁鐵11間及尋跡驅動線圈60與反向V形磁鐵12間位置關系的解釋性操作視圖。這里只表示出尋跡驅動線圈60的前面的第一尋跡線圈63a和第三尋跡線圈63c。圖9A是描述構成V形驅動線圈80的尋跡驅動線圈60與V形磁鐵11間位置關系的平面視圖。圖9B是描述構成反向V形驅動線圈90的尋跡驅動線圈60(或旋轉180度的尋跡驅動線圈60)與反向V形磁鐵12間位置關系的平面視圖。圖9C是描述尋跡驅動線圈60產(chǎn)生的尋跡驅動力的矢量圖。
如圖9A所示，尋跡驅動線圈60的兩個尋跡線圈63a、63c(一對兒平面線圈)位于V形磁鐵11或磁通分配裝置的對面。尋跡線圈63a、63c以這樣的形式，即尋跡線圈63的每一長邊都跨過N極與S極表面進行放置。即，尋跡線圈63a、63c以使得尋跡驅動線圈60的區(qū)域S1和另一區(qū)域S2的面積關于V形磁鐵11的兩條虛直線L相等的形式放置。
考慮這樣一種情況，即，在如圖所示方向上饋入一個驅動電流且在如圖所示的從V形磁鐵11到第一驅動線圈63a的方向上分配磁通。在這種情況下，第一尋跡線圈63a的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力(空箭頭所示)。另外，第三尋跡線圈63c被饋以與第一尋跡線圈63a電流方向相同的驅動電流。這樣，第三尋跡線圈63c的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右上方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。因此，如圖9C所示，兩個尋跡線圈63a、63c的驅動力在尋跡方向上合成，產(chǎn)生一個相對光軸向右的尋跡驅動合力(陰影箭頭所示)。
另外，如圖9B所示，旋轉180度的尋跡驅動線圈60被放置在反向V形磁鐵12的對面?？紤]這樣一種情況，即，在如圖所示方向上饋入一個驅動電流，且在如圖所示從反向V形磁鐵12到第一驅動線圈63a方向上分配磁通。在這種情況下，第一尋跡線圈63a的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。另外，第三尋跡線圈63c被饋以與第一尋跡線圈63a電流方向相同的驅動電流。這樣，第三尋跡線圈63c的兩個區(qū)域S1、S2各自在相對于光軸右上方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。因此，象上面一樣，如圖9C所示，兩個尋跡線圈63a、63c的驅動力被合成，在相對光軸產(chǎn)生一個向右的尋跡驅動合力。
如上所述，尋跡驅動線圈60的兩個尋跡線圈63a、63c在平行于抖動的方向上放置在關于包括光軸的一個平面對稱的虛直線L上。因而，尋跡驅動線圈60的重心(Gc)實際上位于尋跡板61的中心。另外，兩個尋跡線圈63a、63c的重心實際上位于各自的中心?？紤]這樣一種情況，即，第一尋跡線圈63a在相對于光軸下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力，并且第三尋跡線圈63c在上方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。在這種情況下，如圖9A所示，尋跡驅動線圈60在順時針方向上(用箭頭G表示)繞尋跡板61的重心(Gc)產(chǎn)生一個旋轉驅動力。
另外，對于位于反向V形磁鐵12對面的尋跡驅動線圈60。第一尋跡線圈63a在相對于光軸下方45度方向產(chǎn)生一個驅動力，另一方面，第三尋跡線圈63c在上方45度方向產(chǎn)生一個驅動力。然而，由于第一、第三尋跡線圈63a、63c每一個的位置都相對于圖9A所示的位置旋轉了180度，因此，如圖9B所示，在逆時針方向上產(chǎn)生一個旋轉驅動力(用箭頭H表示)。
如上所述，反向V形驅動線圈90是旋轉了180度的V形驅動線圈80。V形驅動線圈80被固定到定位于抖動方向的透鏡支架30的一側，而反向V形驅動線圈90被固定到定位于抖動方向的透鏡支架30的另一側。例如，考慮這樣一種情況，即，V形驅動線圈80在順時針方向上產(chǎn)生一個旋轉驅動力，而反向V形驅動線圈90在逆時針方向上產(chǎn)生一個旋轉驅動力。在這種情況下，兩個驅動力彼此抵消，因而，在移動部件100上沒有產(chǎn)生旋轉力。即，本發(fā)明的透鏡驅動裝置150包括反向V形驅動線圈90或旋轉了180度的V形驅動線圈80和用來消除V形驅動線圈80產(chǎn)生的旋轉驅動力的反向V形磁鐵12。
如上所述，用于透鏡驅動裝置150的V形驅動線圈80或本發(fā)明的第一實施例包含疊放在垂直于抖動方向的平面上的聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60。這里，實質上成對兒制造的橢圓形平面線圈，一般每一個都以45度角放置在印刷電路板上，并關于光軸對稱放置。這些線圈對兒被疊放來提供用于形成聚焦驅動線圈40的四個聚焦線圈43。另一方面，尋跡驅動線圈60由四個尋跡線圈63組成，這四個尋跡線圈與聚焦驅動線圈40相同的方式制成、放置并疊放。因而V形驅動線圈80實際上可以被制成與放置在反面的V形磁鐵11相同的尺寸。這樣V形磁鐵11的磁通被有效地分配到構成V形驅動線圈80的聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60。
附帶地，構成用于本發(fā)明的透鏡驅動裝置150的V形驅動線圈80的聚焦線圈43、尋跡線圈63和三路分離多極磁鐵的虛直線L相對于光軸傾斜45度。然而，傾斜角并不限定于本實施例的情況。例如，圖10A描述了傾斜角大于45度的聚焦驅動線圈43，因而提供了比傾斜45度(如圖10B所示)的情況更大的聚焦驅動力。另外，圖10C描述了傾斜角小于45度的尋跡線圈63，因而提供了比傾斜45度(如圖10D所示)的情況更大的尋跡驅動力。即，當傾斜角與聚焦線圈43相同時，尋跡線圈63將提供更小的尋跡驅動力。另一方面，當傾斜角與尋跡線圈63相同時，聚焦線圈43將提供更小的尋跡驅動力。因而，出于對聚焦和尋跡驅動電流的考慮或類似的考慮，聚焦線圈43和尋跡線圈63被調整到相對于光軸的最佳角度。
另外，用于本發(fā)明的透鏡驅動裝置150的V形磁鐵11或反向V形磁鐵12可能包含如圖11A和11B所示的四路分離多極磁鐵。附帶地，圖11A描述了包含兩對兒兩路分離的多極磁鐵的V形磁鐵15，每對兒都由直角三角形磁鐵的S極和N極表面構成方形，不同的磁極毗鄰放置。圖11B是旋轉了180度的V形磁鐵15。對于V形磁鐵15，聚焦驅動線圈40或尋跡驅動線圈60的走線不同，用以改變流過聚焦線圈43或尋跡線圈的電流方向。這使得聚焦驅動力和尋跡驅動力的產(chǎn)生成為可能，這與上述參照圖8A-8C和圖9A-9C的情況相同。
下一步，參照圖12A和圖12B解釋根據(jù)本發(fā)明第三實施例的透鏡驅動裝置200的配置。附帶地，圖12A是描述透鏡驅動裝置200的下視圖，圖12B是描述透鏡驅動裝置200的側視圖。根據(jù)本發(fā)明第二實施例的透鏡驅動裝置200包含一對兒用一些螺釘14固定于平面?zhèn)鲃悠脚_10上的L形軛13。L形軛13彼此緊靠背向放置，其上固定有V形磁鐵11和反向V形磁鐵12，用于產(chǎn)生磁場?？梢苿硬糠?10的一個開口部分35被插入，用以產(chǎn)生V形磁鐵11和反向V形磁鐵12之間的預留磁隙，可移動部分110由支撐平臺20上的四個支撐金屬絲21支撐，支撐平臺20用螺釘14固定在傳動平臺10上。
可移動部分110包含一個在中心周圍具有方形開口部分35并在它的上面放置了目標透鏡36的透鏡支架37?？梢苿硬糠?10也包含用粘合劑或類似物在抖動方向上固定到開口部分35的內側的一面的V形驅動線圈80。可移動部分110進一步包含固定到另一面的反向V形驅動線圈90。開口部分35內的V形驅動線圈80位于V形磁鐵11的對面，而開口部分35內的反向V形驅動線圈90位于反向V形磁鐵12的對面。另外，調整支撐平臺20的四個支撐金屬絲21來支撐在此方向上從透鏡支架37上伸出的四個支撐部分38a、38b?？梢苿硬糠?10因此在聚焦和尋跡方向上可移動。其他方面與根據(jù)第一實施例的透鏡驅動裝置150的情況相同，因而不再詳述。
下一步，參照圖13A到圖13C解釋根據(jù)本發(fā)明第三實施例的透鏡驅動裝置210的配置。附帶地，圖13A是描述構成透鏡驅動裝置210的可移動部分120透視圖。圖13B是描述其上固定有構成透鏡驅動裝置210的V形磁鐵128的軛基126的透視圖，而圖13C是描述透鏡驅動裝置210的下視圖。圖13A到圖13C給出的透鏡驅動裝置210被選定為滑軸形式，構成這樣的透鏡驅動裝置210的可移動部分120實際上被制成圓柱形。可移動部分120的透鏡支架121一般在其中心有一個軸承孔122，目標透鏡123相對軸承孔122朝著抖動方向(用箭頭J表示)偏移放置。另外，用粘合劑或類似物，聚焦驅動線圈124指向尋跡方向被固定到透鏡支架121的一側，而尋跡驅動線圈125指向尋跡方向被固定到另一側。
而且，構成透鏡驅動裝置210的傳動平臺126在尋跡方向上一左一右有一對兒每一個都為字母L形的軛127。一對兒彎曲的V形磁鐵128、128’用粘合劑或類似物在尋跡方向上固定到軛127的內側。支撐軸129通過壓配或焊接的方式固定到V形磁鐵128、128’對兒的實際中心位置。通過透鏡支架121上的軸承孔122和傳動平臺126上的軸129的結合，可移動部分120可轉動和上下移動。另外，間隔一個磁隙的聚焦驅動線圈124和尋跡驅動線圈125分別放置在V形磁鐵128、128’的對面。
如上所述，根據(jù)第一和第二實施例的透鏡驅動裝置150和200允許可移動部分100和120分別產(chǎn)生旋轉驅動力。因此，該設備由包含聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60的V形驅動線圈80和反向V形驅動線圈90或旋轉了180度的V形驅動線圈80構成。然而，根據(jù)第三實施例的透鏡驅動裝置210采用的是軸滑動形式，因而上述旋轉驅動力不在可移動部分120產(chǎn)生。因此，調節(jié)透鏡驅動裝置210，使得聚焦驅動線圈124放置在V形磁鐵128、128’中的一個的對面，聚焦驅動線圈124只包含例如V形驅動線圈80的聚焦驅動線圈40。也通過調節(jié)透鏡驅動裝置210，使得尋跡驅動線圈125放置在V形磁鐵128、128’中的另一個的對面，尋跡驅動線圈125只包含例如V形驅動線圈80的尋跡驅動線圈60。
舉例來說，如圖13C所示，假定平面X包括構成透鏡驅動裝置210的支撐軸129并平行于尋跡方向。那么，構成聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈125成對兒制成的平面線圈關于上述X對稱放置。因而，正如參照圖8A-8C和9A-9C所述，當在聚焦方向上產(chǎn)生驅動力時，導致可移動部分120上下滑動。另一方面，當在尋跡方向上產(chǎn)生驅動力時，導致可移動部分120繞支撐軸129順時針或逆時針旋轉。如上所述，根據(jù)第三實施例的透鏡驅動裝置210可以有更少的驅動線圈數(shù)并減少了可移動部分120的重量。
現(xiàn)在，如圖14所示的透鏡驅動裝置220可被理解為本發(fā)明的第四實施例。圖14所示的透鏡驅動裝置220有包含聚焦驅動線圈124和尋跡驅動線圈125的驅動線圈130，驅動線圈130被彼此疊放地固定在可移動部分120的一側。另外，軛127被放置在傳動平臺的一側，而彎曲的V形磁鐵128被放置在軛127的內側。驅動線圈130可以由上述V形驅動線圈80構成。如此構成的透鏡驅動裝置220使得進一步減少部件數(shù)量、尺寸、和重量成為可能。
附帶地，第三實施例的透鏡驅動裝置210包含聚焦驅動線圈124和尋跡驅動線圈125。但是，很顯然，通過采用V形驅動線圈80和V形磁鐵11、反向V形驅動線圈90和反向V形磁鐵12構成透鏡驅動裝置210可以得到同樣效果，上述配置在根據(jù)第一和第二實施例的透鏡驅動裝置150和200中采用。
根據(jù)本發(fā)明上述實施例的透鏡驅動裝置150包含聚焦驅動線圈40和尋跡驅動線圈60，它們垂直于抖動方向疊放在構成透鏡驅動裝置150的V形驅動線圈80上。聚焦驅動線圈40實際上有一對兒實質上以45度角放置在印刷電路板上并關于一條直線對稱的橢圓形平面線圈。尋跡驅動線圈60由四個尋跡驅動線圈63構成，它們以與聚焦驅動線圈40相同的方式成形、放置和疊放。因此，以實際上與放置在對面的V形磁鐵11的外形相同的尺寸制造V形驅動線圈80是可能的。這也使得充分利用磁通量和提供更小尺寸的V形驅動線圈80成為可能。
圖15A和15B是描述根據(jù)本發(fā)明第四實施例的透鏡驅動裝置150’的主要部分的外形的視圖。透鏡驅動裝置150’的配置將參照圖15A和15B加以解釋。附帶地，圖15A是透鏡驅動裝置150’的下視圖，而圖15B是透鏡驅動裝置150’的側視圖。
根據(jù)本發(fā)明第四實施例的透鏡驅動裝置150’有與圖2A和2B所示的第一實施例相同的配置。與第一實施例相同的部件以相同的參考符號給出并不再重復解釋。如圖2A和2B，透鏡驅動裝置150’有放置在由V形磁鐵11和反向V形磁鐵12規(guī)定的磁隙內的可移動部分100。
可移動部分100包含透鏡支架30、V形驅動線圈140、和反向V形驅動線圈190。這里，V形驅動線圈140被粘合劑或類似物在抖動方向上(用箭頭J表示)固定在透鏡支架30上V形磁鐵11對面的一側。反向V形驅動線圈190被粘合劑或類似物在抖動方向上固定在透鏡支架30上反向V形磁鐵12對面的一側。
根據(jù)本發(fā)明第四實施例的透鏡驅動裝置150’以配置和上述V形驅動線圈140的驅動方法為特征?，F(xiàn)在，將參照圖16A和16B解釋V形驅動線圈140的配置。附帶地，圖16A包括描述V形驅動線圈140的正面的視圖(上視圖)和描述V形驅動線圈140的反面的透視圖(下視圖)。圖16B是描述V形驅動線圈140的剖面視圖。
V形驅動線圈140是一對兒包含驅動線圈A143和驅動線圈B148的驅動線圈，并關于包括光軸并垂直于尋跡方向的一個平面對稱。例如，驅動線圈A和B通過在用環(huán)氧玻璃或類似物制造的雙面敷銅印刷電路板141上模制和蝕刻成同樣的橢圓形而制成。光軸代表通過目標透鏡31的光束的軌跡并在圖中用直線C表示。另外，驅動線圈A143和B148跨過V形磁鐵11的N極和S極表面放置，它的兩個長邊被分成三路來磁化。因此，驅動線圈A143的形成允許它的長軸實質上關于光軸向右傾斜45度。另一方面，驅動線圈B148的形成允許它的長軸實質上關于光軸向左傾斜45度。
如圖4B所示V形驅動線圈140有一個實際上橢圓形狀的第一驅動線圈A143a和第一驅動線圈B148a，它們關于印刷電路板141正面銅箔上的直線C對稱。第二驅動線圈A143b和第二驅動線圈B148b在反面銅箔上與上述線圈相同的位置以與其相同的形狀制成。然后，第一聚焦線圈143a和第二驅動線圈A143b通過通孔144、145彼此串行連接，形成驅動線圈A143。而且，第一驅動線圈B148a和第二驅動線圈B148b通過兩個通孔149、150彼此串行連接，因而形成驅動線圈B148。
附帶地，可通過向透過前面和反面銅箔的孔內注入銀漿，然后烘干，形成144、145、149、150?？商娲兀懊婧头疵驺~箔可通過對穿過前面和反面銅箔的孔的內表面電鍍銅箔實現(xiàn)彼此連接。圖中的雙圈表示通孔。
在印制板141正面的外邊緣部分制成的輸入端子A142被銅箔連接到第一通孔144。然后第一通孔144連接到反面形成的第二驅動線圈A143b。第二驅動線圈A143b以螺旋形從外到內逆時針形成，然后連接到第二通孔145。第二通孔145被連接到正面形成的第一驅動線圈A143a。第一驅動線圈A143a以螺旋形從內到外逆時針形成然后連接到輸出端子A146。因此，在輸入端子A142和輸出端子A146之間的兩個驅動線圈A143a、143b彼此串行連接。
在印制板141正面的外邊緣部分制成的輸入端子B147被銅箔連接到第三通孔149。然后第三通孔149連接到反面形成的第二驅動線圈B148b。第二驅動線圈B148b以螺旋形從外到內順時針形成，然后連接到第四通孔150。第四通孔150被連接到正面形成的第一驅動線圈B148a。第一驅動線圈B148a以螺旋形從內到外順時針形成然后連接到輸出端子B151。因此，在輸入端子B147和輸出端子B151之間的兩個驅動線圈B148a、148b彼此串行連接。
下一步，V形驅動線圈140和V形磁鐵1、反向V形驅動線圈190和反向V形磁鐵12之間的位置關系將參照圖17加以解釋。
V形驅動線圈140被固定到透鏡支架30的一側(第一側)，第一側垂直于抖動方向，彼此間隔一個預定磁隙放置在V形磁鐵11或磁通分配裝置的對面。構成V形驅動線圈140的驅動線圈A143(第一線圈)和驅動線圈B148(第二線圈)是在同一個印制板141上提供的平面線圈，平行于與抖動方向垂直的一個平面。磁通量通過V形磁鐵11被分配到驅動線圈A143和驅動線圈B148的驅動力產(chǎn)生部分。
另一方面，反向V形驅動線圈190是旋轉了180度的V形驅動線圈140，并被固定到透鏡支架30的另一側(第二側)，第二側垂直于抖動方向。構成反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143(第三線圈)和驅動線圈B148(第四線圈)彼此間隔一個預定磁隙放置在反向V形磁鐵12。因而，V形驅動線圈140的驅動線圈A143(第一線圈)和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148(第二線圈)通過透鏡支架30放置在彼此的對面。V形驅動線圈140的驅動線圈B148(第二線圈)和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143(第三線圈)也通過透鏡支架30放置在彼此的對面。而且，V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143彼此串行連接。另外，V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148彼此串行連接。
每個線圈的終端通過焊接到附加在透鏡支架30的四個支撐部分32a、32b的支撐金屬絲21的連接部分22b進行連接。另外，支撐金屬絲21的拉動部分22a用絞合線連接(沒有給出)。V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190被從外部驅動電路170饋以一個聚焦驅動電流或聚焦誤差補償信號和一個尋跡驅動電流或尋跡誤差補償信號的和電流，這將在后面描述?？商娲兀寗泳€圈140和190可被饋以聚焦驅動電流和尋跡驅動電流的差電流。考慮這樣一種情況，即，一個和電流饋入到V形驅動線圈140的第一線圈，而一個差電流饋入到第二線圈。在這種情況下，和電流饋入到第一線圈對面的第三線圈，而差電流饋入到第二線圈對面的第三線圈。
考慮這樣一種情況，即，上述驅動電流通過支撐金屬絲21饋入到V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190。在這種情況下，可移動部分100在磁隙內響應驅動電流在尋跡和聚焦方向上自由運動。
下一步，將參照圖18解釋V形驅動線圈140的驅動方法。
附帶地，圖18包括一個描述V形驅動線圈140的平面視圖(上視圖)和一個描述驅動電路170的視圖(下視圖)。反向V形驅動線圈90未在圖中給出。
驅動電路170在聚焦和尋跡誤差補償信號之間產(chǎn)生并輸出一個和或差信號，或在和差之間變化的直流電壓，并從聚焦和尋跡伺服電路供電(沒有給出)。
驅動電路170包含輸入緩沖器A172、B177，兩個加法器173、178，輸出緩沖器A174、B179，和一個反相器181。驅動終端A175與V形驅動線圈140的輸入終端A142相連接，驅動終端B180與V形驅動線圈140的輸入終端B147相連接。另外，驅動終端146和驅動終端B151連接到地電位。
饋入到聚焦終端171的聚焦誤差補償信號通過輸入緩沖器A172提供給反相器181和加法器173。加法器173將聚焦誤差補償信號和從輸入緩沖器B177輸出的尋跡誤差補償信號相加，通過輸出緩沖器A174和電阻R1從驅動終端A175輸出作為驅動信號A的合成信號。這意味著驅動信號A是聚焦誤差補償信號和尋跡誤差補償信號的和電流。
饋入到尋跡終端176的尋跡誤差補償信號通過輸入緩沖器B177饋入到加法器178。加法器178將尋跡誤差補償信號和其極性通過反相器181進行反向的聚焦誤差補償信號相加，通過輸出緩沖器B179和電阻R2從驅動終端B180輸出作為驅動信號B的合成信號。這意味著驅動信號B是聚焦誤差補償信號和尋跡誤差補償信號的差電流。
V形驅動線圈140的操作通過舉一種情況的例子來說明，即，+1V的聚焦誤差補償信號饋入到聚焦終端171，且0V的尋跡誤差補償信號饋入到尋跡終端176。
通過輸入緩沖器A172，聚焦誤差補償信號被饋入到反相器181和加法器173。由于尋跡誤差補償信號是0V，加法器173輸出聚焦誤差補償信號，即+1V，作為驅動信號A。雖然尋跡誤差補償信號是0V，由于上述反相器181已經(jīng)將尋跡誤差補償信號的極性反相到-1V且結果信號被饋入到加法器178，加法器178輸出-1V作為驅動信號B。
+1V的驅動信號A被饋入到輸入終端A142且輸出終端A146被連接到地電位。因而，V形驅動線圈140的驅動線圈A143允許從輸入終端A142到輸出終端A146的方向(如箭頭所示)上流過驅動電流。
另外，-1V的驅動信號B被饋入到輸入終端B147且輸出終端B151被連接到地電位。因而，V形驅動線圈140的驅動線圈B148允許從輸出終端B151到輸入終端B147的方向上流過驅動電流。這些驅動電流作為傾斜電流被饋入到聚焦或尋跡方向。
考慮這樣一種情況，即，如圖中括號內所示的-0.5V這樣的聚焦誤差補償信號被饋入到聚焦終端171，且0V的尋跡誤差補償信號被饋入到尋跡終端176。在這種情況下，驅動信號A是-0.5V，驅動信號B是+5V。因此，被饋入到驅動線圈A143和驅動線圈B148的驅動電流與上述例子在幅度上不同，在方向上相反。這意味著，對于V形驅動線圈140，驅動電路170決定了對應于聚焦和尋跡誤差補償信號的大小和極性的驅動電流的幅度和方向。
下一步，參照圖19A到19E解釋如何驅動平面線圈。附帶地，19A到19E是描述放置在V形磁鐵11對面的驅動線圈158a、158b的解釋性原理圖。圖19A是描述了，舉例來說，采用一對兒方形驅動線圈158a、158b這種情況的平面圖。圖19B是表示左側驅動線圈158b的驅動分力的矢量圖。圖19C是表示右側驅動線圈158a的驅動分力的矢量圖。圖19D是表示總驅動力的矢量圖。圖19E是描述了，舉例來說，采用一對兒圓形驅動線圈159a、159b的平面圖。
附帶地，圓形內有一個點的表示圖中磁通從反面到正面通過，而圓形內有一個十字的表示圖中磁通從正面到反面通過。另外，驅動線圈158a、158b、159a、159b內的箭頭表示流過驅動線圈158a、158b、159a、159b的電流方向，而圖中的空箭頭表示驅動線圈158a、158b、159a、159b的驅動分力。
如上所述，V形磁鐵11或磁通分配裝置是一個三路分離的多級磁鐵，它通過一個直角三角形磁鐵和兩個直角三角形磁鐵成形為方形。磁鐵的兩個磁極都被磁化。V形磁鐵11的N極表面位于V形字母的中心，S極表面位于N極的左、右兩側。因而，位于中心的N極表面與位于左、右兩側的S極表面的邊界線(指虛線L)是分別順時針和逆時針繞光軸旋轉45度而成。而且，如圖19A所示，調整驅動線圈158a、158b以允許它們的對角線放置于上述方形的虛直線L上。這意味著用于從V形磁鐵11的N極表面接收磁通量的驅動線圈158a、158b的區(qū)域S1等于V形磁鐵11的S極表面接收磁通量的驅動線圈158a、158b的另一區(qū)域S2。因而，在虛線L分開的區(qū)域S1、S2，在抖動方向上為驅動線圈158a、158b提供互為相反的磁通。另外，方形驅動線圈對兒158a、158b關于光軸對稱放置。
例如，利用N極表面為位于右側的驅動線圈158a的區(qū)域S1提供從圖中反面到正面的磁通。在箭頭所示方向上為驅動線圈158a饋入的電流將在驅動線圈158a的A部分和B部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向左的驅動分力。而且，利用S極表面為驅動線圈158a的另一區(qū)域S2提供從圖中正面到反面的磁通。因而，在箭頭所示方向上為驅動線圈158a饋入的電流將在驅動線圈158a的C部分和D部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向左的驅動分力。因此，如圖19C所示，驅動線圈158a允許在A、C部分產(chǎn)生的垂直向上的驅動分力和B、D部分產(chǎn)生的水平向左的驅動分力在左上方45度處合成為驅動合力(圖中，有橫線的箭頭代表線圈驅動力)。即，在虛直線L的左面垂直的方向上產(chǎn)生了一個驅動力。
另外，驅動線圈158b的區(qū)域S1位于N極表面的左側。因而，對驅動線圈158b饋以與位于右側的驅動線圈158a中的電流同向的電流，將在A部分和D部分分別產(chǎn)生垂直向上和水平向右的驅動分力。另外，驅動線圈158b的另一區(qū)域S2位于S極表面。因而，將在B部分和C部分分別產(chǎn)生水平向右和垂直向上的驅動分力。因此，如圖19B所示，左側的驅動線圈158b允許A、C部分產(chǎn)生的垂直向上的驅動分力和B、D部分產(chǎn)生的水平向右的驅動分力相加，合成為指向右上方45度驅動合力。因此，如圖19D所示，一左一右一對方形驅動線圈158a、158b的驅動力合成為垂直向上或聚焦方向的驅動合力(由陰影箭頭表示)。
另外，如圖19E所示，環(huán)形驅動線圈159a,159b的中心線位于虛直線L上。因而，用于從V形磁鐵11的N極表面接收磁通量的驅動線圈159a、159b的區(qū)域S3與用于從V形磁鐵11的S極表面接收磁通量的驅動線圈159a、159b的另一區(qū)域S4相等。
驅動線圈159a、159b從E、F部分輻射狀地產(chǎn)生驅動力，然而，虛直線L周圍的驅動分力大小相等方向相反，因而被抵消。舉例來說，如上述位于右側的驅動線圈159a產(chǎn)生一個左上方45度的驅動力，而位于左側的驅動線圈159b產(chǎn)生一個右上方45度的驅動力。因而，如圖19D所示，一左一右一對環(huán)形驅動線圈159a、159b的驅動力合成為垂直向上或聚焦方向的驅動合力。
如上所述，驅動線圈158a、158b以使兩區(qū)域S1,S2面積相等的形式放置在V形磁鐵11的虛直線L上。另外，區(qū)域S1和另一區(qū)域S2被供給方向相反的磁通，驅動線圈158a、158b從而在聚焦方向上被準確地驅動。而且，當被饋入彼此方向相反的電流時，驅動線圈對兒158a,158b能夠獲得尋跡方向上的驅動力。即，驅動線圈158a、158b并不限定于特定的形狀。但是，這意味著如果驅動線圈158a、158b彼此關于虛直線L對稱且兩區(qū)域S1、S2的面積相等，左右兩側的驅動線圈158a、158b產(chǎn)生的驅動分力相加就能獲得準確的聚焦或尋跡驅動力。
下一步，參照圖20A、20B到22A、和22B，解釋聚焦驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的操作。附帶地，20A、20B到22A、和22B是當被驅動電路170驅動時，原理性描述彼此串行連接的聚焦驅動線圈140與反向V形驅動線圈190的解釋性操作視圖。圖20A和20B是描述全部驅動力指向聚焦方向這種情況(將在后面描述)的原理性操作圖。圖22A和22B是描述全部驅動力指向左上方60度角的情況的原理性操作圖。在圖20A、21A和22A中，上面的視圖描述了驅動電路170，中間的平面視圖描述了V形驅動線圈140，下面的平面視圖描述了反向V形驅動線圈190，而圖19B、20B、21B描述全部驅動力Cd。另外在20A、20B、21A、和21B中為使操作清楚，將把聚焦和尋跡誤差補償信號固定在0V或+/-1V來說明。
首先，參照圖20A和20B解釋V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190如何在尋跡的方向上獲得驅動力。
舉例來說，如圖20A上面的視圖所示，+1V作為聚焦誤差補償信號被饋入到聚焦終端171，而0V作為尋跡誤差補償信號被饋入到尋跡終端176。在這種情況下，+1V的驅動信號A從驅動終端A175輸出，而-1V的驅動信號B從驅動終端B180輸出。
如圖20A中間的視圖所示，驅動電路170的驅動終端A175連接到V形驅動線圈140的輸入終端A142，在V形磁鐵11的對面放置。另一方面，如圖20A下面的視圖所示，聚焦驅動線圈40的輸出終端A146連接到反向V形驅動線圈190輸入終端A142，在反向V形磁鐵12的對面放置。反向V形驅動線圈190輸出終端A146連接到地電位。因而，電流以圖中所示的方向(用驅動線圈A143內的箭頭表示)流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143。
另一方面，驅動終端B180連接到V形驅動線圈140的輸入終端B147。V形驅動線圈140的輸出終端B151連接到反向V形驅動線圈190的輸入終端B147，在反向V形磁鐵12的對面放置。反向V形驅動線圈190的輸出終端B151連接到地電位。因而，電流以圖中所示的方向(用驅動線圈B148內的箭頭表示)流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148。
構成V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148以這樣一種方式放置，即，其長邊跨過N極和S極表面，形成一對兒驅動力產(chǎn)生部分。驅動線圈A143和B148的驅動力產(chǎn)生部分允許驅動電流在相對于聚焦和尋跡方向的任意一個傾斜的方向上流過。因而，V形磁鐵11和反向V形磁鐵12為驅動力產(chǎn)生部分在抖動方向上提供互為反向的磁通量。即，考慮這樣一種情況，V形驅動線圈140的驅動線圈A143在如圖所示的方向上被饋以驅動電流，且通過V形磁鐵11在如圖所示的方向上分配磁通量。在這種情況下，在相對光軸左上方45度上(用空箭頭表示)產(chǎn)生驅動力A。另外，V形驅動線圈140的驅動線圈B148被饋以與流過驅動線圈A143中的電流反向的驅動電流，從而產(chǎn)生相對光軸左上方45度的驅動力B。因此，如圖20B所示，由V形驅動線圈140的驅動線圈A143和B148在聚焦方向上產(chǎn)生的驅動力合成為相對光軸向上的合成驅動力Cd(用陰影箭頭所示)。
另外，考慮這樣一種情況，V形驅動線圈190的驅動線圈A143在如圖所示的方向上被饋以驅動電流，且通過反向V形磁鐵12在如圖所示的方向上分配磁通量。在這種情況下，驅動線圈A143在相對光軸左上方45度產(chǎn)生驅動力A。另外，V形驅動線圈190的驅動線圈B148被饋以與流過驅動線圈A143中的電流反向的驅動電流，從而產(chǎn)生相對光軸右上方45度的驅動力B。
因此，如圖20B所示，由反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148在聚焦方向上產(chǎn)生的驅動力合成為相對光軸向上的合成驅動力Cd(用陰影箭頭表示)。
假定，由驅動線圈A143和B148產(chǎn)生的驅動力A、B比例于由驅動電路170提供的驅動信號A、B。在這種情況下，驅動力A、B都等于“1”。而且，驅動力A、B的每一個都在相對于光軸45度角上放置。這使得由驅動力A、B產(chǎn)生的總驅動力Cd等于驅動力A和B的21/2倍。
下一步，舉例來說，如圖20A的括號中給出的值所示，考慮-1V作為聚焦誤差補償信號且0V作為尋跡誤差補償信號被饋入到尋跡終端176的情況。在這種情況下，-1V的驅動信號A從驅動終端A175輸出，而+1V的驅動信號B從驅動終端B180輸出。這導致電流沿著與圖中給出的方向相反的方向流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143。這也導致電流沿著與圖中給出的方向相反的方向流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148。因此，它導致驅動力在圖中給出的V形驅動線圈140的驅動線圈A143和B148相反的方向上產(chǎn)生。它也導致驅動力在圖中給出的反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148相反的方向上產(chǎn)生。因此，如圖20B所示，驅動線圈A143和B148在聚焦方向上的驅動力被合成得到相對光軸向下的合成驅動力Cd(用括號表示)。
下一步，參照圖21A和21B解釋V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190如何在尋跡的方向上獲得驅動力。
舉例來說，如圖21A上面的視圖所示，考慮0V作為聚焦誤差補償信號被饋入到聚焦終端171，而+1V作為尋跡誤差補償信號被饋入到尋跡終端176的情況。在這種情況下，+1V的驅動信號A從驅動終端A175輸出，而+1V的驅動信號B從驅動終端B180輸出。
如參照圖20A和20B所述，一個電流在圖中所給的方向上流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148。由V形磁鐵11和反向V形磁鐵12在所給方向上分配的磁通量導致V形驅動線圈140的驅動線圈A143在相對光軸左上方45度角上產(chǎn)生一個驅動力A。
另外，V形驅動線圈140的驅動線圈B148被饋以與驅動線圈A143的電流反向的驅動電流。因而，在相對光軸左下方45度角上產(chǎn)生一個驅動力B。因此，驅動線圈A143和B148的指向尋跡方向的驅動力被合成，如圖20B所示得到相對光軸向左的合成驅動力Cd。
類似地，反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143在相對光軸左上方45度角上產(chǎn)生一個驅動力A。另一方面，驅動線圈B148在相對光軸左下方45度角上產(chǎn)生一個驅動力B。因此，反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148的指向尋跡方向的驅動力被合成，如圖20B所示得到相對光軸向左的合成驅動力Cd。而且，如上所述，這使得由驅動力A、B產(chǎn)生的總驅動力Cd等于驅動力A和B的21/2倍。
下一步，舉例來說，如圖21A的括號中給出的值所示，考慮0V作為聚焦誤差補償信號饋入到聚焦終端171且-1V作為尋跡誤差補償信號被饋入到尋跡終端176的情況。在這種情況下，-1V的驅動信號A從驅動終端A175輸出，而-1V的驅動信號B從驅動終端B180輸出。
因此，V形驅動線圈140的驅動線圈A143和B148在與圖中給出的方向相反的方向上產(chǎn)生驅動力。類似地，反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143和B148在與圖中給出的方向相反的方向上產(chǎn)生驅動力。因此，如圖21B所示，驅動線圈A143和B148在尋跡方向上的驅動力被合成得到相對光軸向右的合成驅動力Cd(用括號表示)。
如上所述，V形驅動線圈140的驅動線圈A143和B148相對直線或光軸對稱地形成。因而，V形驅動線圈140的重心(Gc)通常位于印制板141的中心。而且，驅動線圈A143和B148的重心(Gc)通常位于驅動線圈A143和B148的中心?？紤]這樣一種情況，即，V形驅動線圈140的驅動線圈A143在相對于光軸左上方45度產(chǎn)生驅動力，且驅動線圈B148在相對于光軸左下方45度產(chǎn)生驅動力。在這種情況下，如圖21A的中間視圖所示，V形驅動線圈140在逆時針方向上(用箭頭G表示)繞印制板141的重心(Gc)產(chǎn)生一個旋轉驅動力。
而且，如圖21A下面的視圖所示，對于反向V形驅動線圈190，驅動線圈A143在相對光軸向上45度角上產(chǎn)生驅動力，而驅動線圈B148在相對光軸向下45度角上產(chǎn)生驅動力。這導致反向V形驅動線圈190在順時針方向上(用箭頭H表示)繞印制板141的重心(Gc)產(chǎn)生一個旋轉驅動力。
舉例來說，考慮這樣一種情況，即，V形驅動線圈140在逆時針方向上產(chǎn)生驅動力，且反向V形驅動線圈190在逆時針方向上產(chǎn)生驅動力。因而，在這種情況下，旋轉驅動力相互抵消，這導致在可移動部分100上在順時針和逆時針方向上都不產(chǎn)生旋轉驅動力。即，本發(fā)明的透鏡驅動裝置150’包含反向V形驅動線圈190或旋轉了180度的V形驅動線圈140和反向V形磁鐵12用以抵消V形驅動線圈140產(chǎn)生的旋轉驅動力。
下一步，參照圖22和23到25，解釋V形驅動線圈140，舉例來說，在左上方60度偏移的操作。附帶地，舉例來說，圖22描述了基于有一個60度角的直角三角形的三角關系，饋以1.732V的聚焦誤差補償信號和+1V的尋跡誤差補償信號的情況。而且，圖23到25描述了聚焦驅動線圈40的矢量圖。圖23描述了驅動線圈A143的驅動力A；圖24描述了驅動線圈B148的驅動力B；圖15描述了總驅動力Cd。
如圖22上面的視圖所示，假定1.732V的聚焦誤差補償信號饋入聚焦終端171且+1V的尋跡誤差補償信號饋入尋跡終端176。在這種情況下，驅動終端A175輸出一個2.732V的驅動信號A而驅動終端B180輸出一個-0.732V的驅動信號B。
從驅動終端A175饋出的2.732V的驅動信號A導致電流以圖中給出的方向流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143。以圖中給出的方向從V形和反向V形磁鐵11、12分配出的磁通量導致驅動線圈A143在如圖23所示相對于光軸左上方45度產(chǎn)生驅動力A(2.732)。類似的，從驅動終端B180饋出的-0.732V的驅動信號B導致電流以圖中給出的方向流過V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148。以圖中給出的方向從V形和反向V形磁鐵11、12分配出的磁通量導致驅動線圈B148在如圖24所示相對于光軸右上方45度產(chǎn)生驅動力B(0.732)。
驅動力A(2.732)在X和Y軸方向上分解成一個向量(1.932)。類似的，驅動力B(0.732)在X和Y軸方向上分解成一個向量(0.518)。驅動力A和B在X和Y軸方向上的合成向量在X軸和Y軸上的分量分別是1.414和2.45，如圖25所示。
因而，所獲得的是合成驅動力Cd2.828。另外，合成驅動力Cd的角度Θ給出如下Θ=tan-1(x/y)=60°。
即，V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190分別產(chǎn)生了偏移到左上方60度的合成驅動力Cd。每一個合成驅動力是驅動力A和B的21/2倍。
如上所述，V形驅動線圈140在尋跡方向上產(chǎn)生的驅動力所導致的旋轉驅動力與反向V形驅動線圈190的旋轉驅動力抵消。但是，舉例來說，類似地，饋入到V形驅動線圈140的一個左上方60度的驅動電流導致產(chǎn)生一個旋轉驅動力。即，V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈A143在相對光軸左上方45度產(chǎn)生驅動力A(2.732)，而Y方向的驅動力Ay是1.932。而且，V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190的驅動線圈B148在相對光軸右上方45度產(chǎn)生驅動力B(0.732)，而Y方向的驅動力By是0.518。因而，V形驅動線圈140的驅動線圈A143和B148分別在Y軸方向產(chǎn)生不同幅度的驅動力Ay和By。因此，這導致產(chǎn)生的旋轉驅動力不是繞著印制板141的重心(Gc)而是繞著通過兩個驅動力Ay和By的比值確定的向量的中心(Vc)。
這意味著，驅動線圈A143的重心(Gc)與向量的中心(Vc)之間的距離(L1)與驅動線圈B148的重心(Gc)與向量的中心(Vc)之間的距離(L2)的比值等于兩個驅動力Ay和By比值的倒數(shù)。另外，V形驅動線圈140的向量的中心(Vc)相對光軸位于反向V形驅動線圈190的向量的中心(Vc)的對面。這導致旋轉驅動力彼此抵消，從而導致可移動部分100上沒有旋轉驅動力。
如上所述，用于根據(jù)本發(fā)明第四實施例的透鏡驅動裝置150’的V形驅動線圈140以如下方式制成。即一對兒通常為橢圓形的驅動線圈關于光軸對稱放置，驅動線圈包含驅動線圈A143和驅動線圈B148，每一個都以45度角放置在印制板141上。而且，線圈對兒放置在一個垂直于抖動方向的平面上。這使得V形驅動線圈140與放置在對面的V形磁鐵11的外形尺寸大致相同成為可能。這也使得把V形磁鐵11的磁通量有效分配給構成V形驅動線圈140的驅動線圈A143和驅動線圈B148成為可能。
附帶地，構成用于本發(fā)明透鏡驅動裝置150’的V形驅動線圈140的驅動線圈A143和驅動線圈B148相對光軸傾斜45度。但是，傾斜角并不限定于一個特定角度。
舉例來說，圖26描述了相對光軸傾斜45度或更多的驅動線圈A143和驅動線圈B148，在聚焦方向上提供了比傾斜45度(如圖27所示)的情況更大的驅動力。另外，圖28描述了相對光軸傾斜45度或更多的驅動線圈A143和驅動線圈B148，在尋跡方向上也提供了比傾斜45度(如圖29所示)的情況更大的驅動力。因而，驅動線圈A143和驅動線圈B148的傾斜角影響聚焦和尋跡方向上的驅動力，因此，通過對聚焦和尋跡驅動電流的考慮或類似的考慮來確定最佳傾斜角。
另外，如圖11A和11B所示，用于本發(fā)明透鏡驅動裝置150’的V形磁鐵11或反向V形磁鐵12可以被制成三路分離多極磁鐵。
當使用這樣的V形磁鐵15，驅動線圈A143和驅動線圈B148的連接被修改為改變流過驅動線圈A143或驅動線圈B148的電流的方向。這使得在聚焦和尋跡方向上產(chǎn)生與圖20A、2B、21A、和21B所描述的情況相同的驅動力成為可能。
下一步，圖30A和30B描述了根據(jù)本發(fā)明第六實施例的透鏡驅動裝置200’。附帶地，圖30A是描述了透鏡驅動裝置200’的頂視圖，而圖30B是描述了透鏡驅動裝置200’的側視圖。
根據(jù)本發(fā)明第六實施例的透鏡驅動裝置200’有與圖12A和12B所示的第二實施例的情況相同的配置，只是用V形驅動線圈140和反向V形驅動線圈190代替了線圈80、90。
附帶地，根據(jù)本發(fā)明第六實施例的透鏡驅動裝置200’以與根據(jù)第五實施例的透鏡驅動裝置150’相同的方式工作，因此不再詳述。
下一步，參照圖31A到31C解釋根據(jù)本發(fā)明第七實施例的透鏡驅動裝置210’的配置。附帶地，圖31A是描述了構成透鏡驅動裝置210’的可移動部分120的透視圖。圖31B是描述了其上固定有構成透鏡驅動裝置210’的V形磁鐵128、128’的軛基126的透視圖。圖31C是描述透鏡驅動裝置210’的平面視圖。
象圖13A到圖13C給出的透鏡驅動裝置一樣，圖31A到31C給出的透鏡驅動裝置210’被選定為滑軸形式，構成這樣的透鏡驅動裝置210’的可移動部分120通常被制成圓柱形?？梢苿硬糠?20的透鏡支架121一般在其中心有一個軸承孔122，目標透鏡123相對軸承孔122朝著抖動方向(用箭頭J表示)偏移放置。另外，用粘合劑或類似物，V驅動線圈124’沿尋跡方向被固定到透鏡支架121的一側，而反向V形驅動線圈125’沿尋跡方向被固定到另一側。如圖所示，包括線圈對兒的印制板被彎曲固定其上。線圈對兒以線圈軸垂直于聚焦方向的方式放置。
而且，構成透鏡驅動裝置210’的傳動平臺126在尋跡方向上一左一右有一對兒每一個都為字母L形的軛127。彎曲的V形磁鐵128用粘合劑或類似物在尋跡方向上固定到軛127的一個內側(在V驅動線圈124’的對面)。另一方面，彎曲的反向V形磁鐵128’用粘合劑或類似物在尋跡方向上固定到軛127的另一個內側(在V驅動線圈124’的對面)。而且，在聚焦方向上擴展的支撐軸129通過壓配或焊接的方式通常固定到V形磁鐵128和反向V形磁鐵128’的中心位置。調整透鏡支架121上的軸承孔122來裝配傳動平臺126上的軸129，因此，可移動部分120可轉動和上下移動。
假定透鏡驅動裝置210’包括構成透鏡驅動裝置210’的支撐軸130，和如圖31C所示平行于尋跡方向的X平面。在這種情況下構成V驅動線圈124’和反向V形驅動線圈125’的一對兒平面線圈一左一右關于X平面對稱放置。如參照圖20A、2B、和22所述，在聚焦方向產(chǎn)生驅動力時，可移動部分120上下滑動。另一方面，在尋跡方向產(chǎn)生驅動力時，可移動部分120繞著支撐軸129順時針或逆時針方向旋轉。
根據(jù)本發(fā)明第七實施例的透鏡驅動裝置210’被制成滑軸形式，因此，它的配置與根據(jù)第五和第六實施例的透鏡驅動裝置150’、200’不同。相應地，透鏡驅動裝置210’采用彎曲的V形磁鐵128和反向V形磁鐵128’。透鏡驅動裝置210’也有彎曲并固定在一般為圓柱形的透鏡支架121側面的V形驅動線圈124’和反向V形驅動線圈125’。因此，透鏡驅動裝置210’與根據(jù)第五和第六實施例的透鏡驅動裝置150’、200’的工作方式相同，不再深入解釋。
如上所述，根據(jù)第七實施例的透鏡驅動裝置210’需要更少的驅動線圈數(shù)并減輕了可移動部分120的重量。
下一步，如圖32所示，可以理解根據(jù)本發(fā)明第八實施例的透鏡驅動裝置220’。
如上所述，據(jù)第五和第六實施例的透鏡驅動裝置150’、200’導致可移動部分100、110產(chǎn)生一個旋轉驅動力。因此，透鏡驅動裝置150’、200’由V驅動線圈140和反向V形驅動線圈190或旋轉了180度的V驅動線圈140構成。但是，根據(jù)第七和第八實施例的透鏡驅動裝置220’采用滑軸形式，因此在可移動部分120不產(chǎn)生旋轉驅動力。
如圖32所示，根據(jù)第八實施例的透鏡驅動裝置220’因此有一個被固定到可移動部分120一側的V驅動線圈124’。透鏡驅動裝置220’也有被放置在傳動平臺126一側的軛127和被放置在其內側的彎曲的V形磁鐵128。即，僅通過V驅動線圈124’就可以在聚焦和尋跡方向上驅動透鏡驅動裝置220’，因而減少了部件數(shù)量、尺寸、和重量。
附帶地，在圖31A到31C、和32所示的軸滑動形式的實施例中，構成V形驅動線圈124’和反向V形驅動線圈125’的線圈對兒關于X平面對稱放置。本發(fā)明不僅限定于這種特定的形式。只要線圈對兒關于包括支撐軸129的平面對稱放置，任何形式都可采用。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的透鏡驅動裝置包括一個在聚焦和尋跡方向上可以移動的透鏡支架。此設備還包括安裝在透鏡支架上的驅動線圈，用于通過在聚焦和尋跡方向上疊加驅動力而獲得驅動合力，和磁通分配裝置，用于為驅動線圈分配磁通。每一個驅動線圈包含一對兒關于垂直于尋跡方向的一個平面對稱形成的一對兒線圈。磁通分配裝置沿抖動方向把磁通量互為反向地分配到每個線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域。線圈對兒的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。與現(xiàn)有設備相比，這可以減少線圈數(shù)，因此可降低生產(chǎn)成本，減減小設備尺寸。
雖然已經(jīng)給出并描述了本發(fā)明當前所選實施例，但可以理解本發(fā)明不僅限于此，且只要不背離附加權利要求中給出的本發(fā)明的范圍，技術嫻熟者可以進行各種變化和修改。
權利要求
1．一種透鏡驅動裝置，包括在聚焦和尋跡方向上被可移動地支撐的透鏡支架，安裝在上述透鏡支架上的聚焦和尋跡驅動線圈，用于給上述聚焦和尋跡驅動線圈分配磁通量的磁通分配裝置，其中上述聚焦和尋跡驅動線圈每一個都包括一對兒平面線圈，它們在垂直于抖動方向的平面內形成、且有一個平行于實際上與上述聚焦和尋跡方向垂直的抖動方向的線圈軸，上述磁通分配裝置在抖動方向上將磁通量互為反向地分配給上述平面線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域，每一個上述平面線圈對兒的上述虛線被配置為關于平行于抖動方向且包含光軸的一個平面對稱放置。
2.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是上述磁通分配裝置包括上述平面線圈對面的磁鐵，上述磁鐵在上述兩區(qū)域的每一個對面有不同的磁極。
3.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是上述磁通分配裝置放置在上述平面線圈對面并包括具有垂直于上述抖動方向的磁極表面的磁鐵，上述磁極表面在用上述虛線界定的區(qū)域上有不同的磁極。
4.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是構成上述聚焦驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒被饋以同向驅動電流，而構成上述尋跡驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒被饋以反向驅動電流。
5.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是構成上述聚焦驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒被饋以反向驅動電流，而構成上述尋跡驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒被饋以同向驅動電流。
6.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是構成上述聚焦驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒和構成上述尋跡驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒在同一平面內以相同形狀制成，沿抖動方向一個挨一個地放置。
7.根據(jù)權利要求1的透鏡驅動裝置，其特征是構成上述聚焦驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒都產(chǎn)生驅動力以獲得合成聚焦驅動力，而構成上述尋跡驅動線圈的上述每一個平面線圈對兒都產(chǎn)生驅動力以獲得合成尋跡驅動力。
8.一個透鏡驅動裝置包括具有一個用于裝配沿聚焦方向伸展的軸的軸承孔的透鏡支架，使得可以沿軸滑動、繞軸轉動，安裝在上述透鏡支架上的聚焦和尋跡驅動線圈，用于給上述聚焦和尋跡驅動線圈分配磁通量的磁通分配裝置，其中上述聚焦和尋跡驅動線圈每一個都包括一對兒其線圈軸垂直于聚焦方向的平面線圈，上述磁通分配裝置將磁通量互為反向地分配給上述線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域，每一個上述平面線圈對兒的上述虛線關于包含所述軸的一個平面對稱放置。
9.一個透鏡驅動裝置包括在聚焦和尋跡方向上被可移動地支撐的透鏡支架，安裝在上述透鏡支架上用于在聚焦和尋跡方向上產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的驅動線圈，用于給上述驅動線圈分配磁通量的磁通分配裝置，其中上述驅動線圈每一個都包括一對兒關于包括光軸并垂直于尋跡方向的一個平面對稱布置的線圈，上述磁通分配裝置沿抖動方向將磁通量互為反向地分配給上述線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域，上述線圈對兒的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。
10.根據(jù)權利要求9的透鏡驅動裝置，其特征是上述線圈對兒在垂直于抖動方向的同一平面內放置。
11.根據(jù)權利要求9的透鏡驅動裝置，其特征是上述線圈對兒是在平行于與抖動方向垂直的一個平面的同一印制板上制造的平面線圈。
12.根據(jù)權利要求9的透鏡驅動裝置，其特征是上述磁通分配裝置包括在上述驅動線圈對面的磁極表面，所述磁極表面對應上述兩個區(qū)域有不同的磁極。
13.一個透鏡驅動裝置包括在聚焦和尋跡方向上被可移動地支撐的透鏡支架，安裝在上述透鏡支架上用于在聚焦和尋跡方向上產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的驅動線圈，用于給上述驅動線圈分配磁通量的磁通分配裝置，其中上述驅動線圈包含第一驅動線圈和第二驅動線圈，每一個線圈都放置在垂直于抖動方向并關于包括光軸且垂直于尋跡方向的一個平面對稱的第一平面上，第三驅動線圈和第四驅動線圈，每一個都放置在平行于上述第一平面并關于包括光軸且垂直于尋跡方向的一個平面對稱的第二平面上，上述第一和第二線圈組與上述第三和第四線圈組的每一個都關于上述光軸對稱放置，上述磁通分配裝置沿抖動方向將磁通量互為反向地分配給上述線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域，上述第一和第二線圈中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流，關于上述第三和第四線圈，與上述第一和第二線圈中被饋以和電流的那個線圈相對的一個線圈被饋以上述差電流，而與另一個被饋以上述差電流的線圈相對的線圈被饋以和電流。
14.根據(jù)權利要求13的透鏡驅動裝置，其特征是上述第一和第二線圈在平行于與抖動方向垂直的一個平面的同一印制板上制成，而上述第三和第四線圈在平行于與抖動方向垂直的一個平面的同一印制板上制成。
15.根據(jù)權利要求9的透鏡驅動裝置，其特征是上述虛線相對于聚焦和尋跡方形都傾斜45度角。
16.一種透鏡驅動裝置，包括具有一個用于裝配到沿聚焦方向伸展的軸的軸承孔的透鏡支架，使得可以沿軸滑動、繞軸轉動，安裝在上述透鏡支架上用于在聚焦和尋跡方向上產(chǎn)生驅動力從而產(chǎn)生合成驅動力的驅動線圈，用于給上述驅動線圈分配磁通量的磁通分配裝置，其中上述驅動線圈每一個都包括一對兒線圈，它們關于包括上述軸、且具有一個垂直于聚焦方向的線圈軸的一個平面對稱放置，上述磁通分配裝置將磁通量互為反向地分配給上述線圈的被相對于聚焦和尋跡方向都傾斜的虛線分開的兩個區(qū)域，上述線圈對兒中的一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的和電流，而另一個被饋以聚焦和尋跡驅動電流的差電流。
全文摘要
透鏡驅動裝置,用螺釘把其上固定有V形磁鐵和反向V形磁鐵的一對L形軛彼此相對且相距一個預定磁隙地固定到傳動平臺上,一個可移動部分被放置在由該V形磁鐵和反向V形磁鐵定義的磁隙內。固定到可移動部分上的是一個包含聚焦和尋跡驅動線圈的V形驅動線圈和反向V形驅動線圈或旋轉了180度的V形線圈。V形線圈包含放置在透鏡支架一側的驅動線圈A和B,該可移動部分也被放置在由V形磁鐵和反向V形磁鐵規(guī)定的磁隙內。
文檔編號G11B7/09GK1303091SQ00129920
公開日2001年7月11日 申請日期2000年10月13日 優(yōu)先權日1999年10月15日
發(fā)明者鈴木純, 石井克美 申請人:先鋒株式會社