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一種拉曼增強基底的制備方法

文檔序號:9545352閱讀:425來源:國知局
一種拉曼增強基底的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于材料化學技術(shù)以及檢測分析領(lǐng)域,涉及一種具有拉曼增強效果的基底的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]拉曼散射光譜由于其對分子和化學鍵振動峰的特異性,成為一個功能強大的分子檢測技術(shù)。由于拉曼散射非常小的散射橫截面,拉曼散射是一個很弱的過程,而不利于微量物質(zhì)的定性分析。能否使散射增強是拉曼散射光譜探測技術(shù)實用化的關(guān)鍵。1974年Fleischman觀察到附著于粗糙金屬納結(jié)構(gòu)表面分子的拉曼散射光譜強度可以大幅度提高,被稱為表面增強拉曼散射(Surface-enhanced Raman Scattering,簡稱SERS)。表面增強拉曼散射(SERS)是一種具有表面選擇性的增強效應(yīng),可以將吸附在材料表面的分子的拉曼信號放大幾個數(shù)量級,在分析、環(huán)境和催化等領(lǐng)域中可以達到超靈敏的檢測。
[0003]表面拉曼增強基底一般使用銀、金、銅等貴金屬作為粗糙的金屬表面。
[0004]目前關(guān)于表面拉曼增強基底制備方法的文獻報道已經(jīng)很多,這些方法主要包括金屬納米粒子的自組裝,反應(yīng)離子刻蝕(RIE),電子束刻蝕(EBL)以及納米球刻蝕等。但目前的方法都存在多種缺點。納米粒子自組長重復(fù)性較差,RIE和EBL成本較高,且制備困難。對于實用化的拉曼增強基底而言,基底的可重復(fù)性,檢測的靈敏性以及制備的成本都是需要考慮的因素。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供一種拉曼增強基底的制備方法,具有良好的靈敏度,且制備工藝簡單,重復(fù)性好,可大面積制備。
[0006]—種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,包含以下步驟:
(1)利用磁控濺射在玻璃基底制備一定厚度鋅納米薄膜;
(2)配制一定濃度硝酸銀-十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)混合溶液;
(3)將步驟(1)所制備的鋅納米薄膜玻璃片置入步驟(2)所述的混合溶液中一定時間,取出;
(4)將取出的基底用酒精和去離子水沖洗多次,洗凈CTAB。
[0007]步驟(1)中,所述鋅納米薄膜厚度為50_100nm。
[0008]步驟(2)中,所述的混合溶液,硝酸銀濃度與CTAB濃度為2:1,其中硝酸銀為
0.01M-0.1Mo
[0009]步驟(3)中,所述一定時間為10s_60s。
[0010]步驟(4)中,所述的沖洗多次,至少交替用酒精和去離子水清洗10次。
[0011]本發(fā)明利用簡單的置換反應(yīng),在鋅納米薄膜表面形成有一定分散的銀納米顆粒,通過反應(yīng)時間、反應(yīng)濃度、鋅納米薄膜厚度可以方便的控制銀納米顆粒的尺寸與分布,具有很好的拉曼增強性能,工藝簡單,易控制,重復(fù)性好,具有商用價值。
【附圖說明】
[0012]圖1為實施例1所制備納米Ag基底的SEM圖。
[0013]圖2為實施例1-4所制備納米Ag基底對甘油的拉曼增強性能圖。
【具體實施方式】
[0014]實施例1:
利用磁控濺射在玻璃基底制備50nm厚鋅納米薄膜,配置0.01M硝酸銀和0.005M CTAB混合溶液,將制備的納米鋅基地置入所配制的混合溶液60s,取出,用酒精和去離子水清洗10次。圖1為所制備的基底SEM圖。
[0015]實施例2:
利用磁控濺射在玻璃基底制備lOOnm厚鋅納米薄膜,配置0.03M硝酸銀和0.015M CTAB混合溶液,將制備的納米鋅基地置入所配制的混合溶液30s,取出,用酒精和去離子水清洗10次。
[0016]實施例3:
利用磁控濺射在玻璃基底制備80nm厚鋅納米薄膜,配置0.05M硝酸銀和0.025M CTAB混合溶液,將制備的納米鋅基地置入所配制的混合溶液20s,取出,用酒精和去離子水清洗10次。
[0017]實施例4:
利用磁控濺射在玻璃基底制備80nm厚鋅納米薄膜,配置0.1M硝酸銀和0.05M CTAB混合溶液,將制備的納米鋅基地置入所配制的混合溶液10s,取出,用酒精和去離子水清洗10次。
[0018]將上述各實施例制備的拉曼增強基底用于10 6M的甘油溶液的拉曼信號測試,測試結(jié)果如圖2所示,結(jié)果表明所制備的基地對甘油拉曼信號具有非常明顯的增強效果。
【主權(quán)項】
1.一種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,包含以下步驟: (1)利用磁控濺射在玻璃基底制備一定厚度鋅納米薄膜; (2)配制一定濃度硝酸銀-十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)混合溶液; (3)將步驟(1)所制備的鋅納米薄膜玻璃片置入步驟(2)所述的混合溶液中一定時間,取出; (4)將取出的基底用酒精和去離子水沖洗多次,洗凈CTAB。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述鋅納米薄膜厚度為50-100nm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述的混合溶液,硝酸銀濃度與CTAB濃度為2:1,其中硝酸銀為0.01M-0.1M。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述一定時間為10s_60s。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拉曼增強基底的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述的沖洗多次,至少交替用酒精和去離子水清洗10次。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種拉曼增強基底的制備方法,利用磁控濺射在玻璃基底制備一定厚度鋅納米薄膜;配制一定濃度硝酸銀-十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)混合溶液;將所制備的鋅納米薄膜玻璃片置入混合溶液中一定時間,取出;將取出的基底用酒精和去離子水沖洗多次,洗凈CTAB。本發(fā)明工藝簡單,易控制,重復(fù)性好,具有商用價值。
【IPC分類】G01N21/65
【公開號】CN105300956
【申請?zhí)枴緾N201510686767
【發(fā)明人】何丹農(nóng), 尹桂林, 盧靜
【申請人】上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年10月22日
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