本實用新型涉及一種測量裝置，尤其涉及一種用于測量軸頸下沉值的橋規(guī)。

背景技術(shù)：

核電站汽輪機是常規(guī)島重要設(shè)備，需要定期進行檢修。

在汽輪機的檢修工作中，需要檢查汽輪機各個部件的使用狀況，其中包括軸瓦的磨損及軸瓦墊鐵和墊片厚度變化。通常，軸瓦的磨損及軸瓦墊鐵和墊片厚度變化很難通過肉眼觀察出來，即使可以觀測出來但是觀測結(jié)果并不準(zhǔn)確。

因此，有必要設(shè)計一種專用工具，以能夠直觀且準(zhǔn)確反映出軸瓦的磨損及軸瓦墊鐵和墊片厚度變化情況。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型要解決的技術(shù)問題在于，提供一種用于測量軸頸下沉值的橋規(guī)。

本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：提供一種用于測量軸頸下沉值的橋規(guī)，包括相對稱且以預(yù)定夾角相連接的兩個支腳，位于兩個所述支腳的夾角內(nèi)側(cè)、設(shè)置在兩個所述支腳連接處的凸出部；所述凸出部的端面為平面。

優(yōu)選地，所述預(yù)定夾角為鈍角。

優(yōu)選地，兩個所述支腳的長度方向位于同一直線。

優(yōu)選地，所述橋規(guī)還包括連接在所述支腳遠離另一所述支腳的自由端上的支座；所述支座遠離所述支腳的底面為與所述凸出部端面平行的平面。

優(yōu)選地，兩個所述支腳上的所述支座位于同一平面。

優(yōu)選地，所述支腳包括主體段、自所述主體段一端彎折延伸的第一連接段，所述支座與所述連接段相垂直連接。

優(yōu)選地，所述主體段的另一端彎折延伸形成與另一所述支腳連接的第二連接段；兩個所述支腳的第二連接段相接形成橋規(guī)的中間部，所述凸出部設(shè)置在所述中間部上。

優(yōu)選地，所述中間部上設(shè)有通孔。

優(yōu)選地，所述支腳和凸出部為一體結(jié)構(gòu)。

本實用新型的有益效果：用于測量軸頸下沉值，能直觀的反映出軸瓦的磨損及軸瓦墊鐵和墊片厚度變化的情況；操作簡單。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中：

圖1是本實用新型一實施例的橋規(guī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1所示橋規(guī)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為了對本實用新型的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖詳細說明本實用新型的具體實施方式。

如圖1、2所示，本實用新型一實施例的用于測量軸頸下沉值的橋規(guī)，包括相對稱設(shè)置的兩個支腳10、凸出部20；兩個支腳10以預(yù)定夾角相連接形成一體，支腳10用于支撐在下軸承座中分面上。凸出部20位于兩個支腳10的夾角內(nèi)側(cè)，設(shè)置在兩個支腳10連接處。凸出部20的端面為平面，用于支撐在軸頸上。軸頸包括發(fā)電機、汽動機等設(shè)備的軸頸。

其中，預(yù)定夾角為鈍角。

支腳10呈長條狀。兩個支腳10的長度方向位于同一直線，使得兩個支腳10支撐在下軸承座中分面上時，兩個支撐點的連線為一直線。

凸出部20可一體形成在兩個支腳10之間，從而支腳10和凸出部20為一體結(jié)構(gòu)。凸出部20的端面的粗糙度為不大于1.6μm，以不影響軸頸下沉值的測量。

進一步地，橋規(guī)還包括連接在支腳10遠離另一支腳10的自由端上的支座30；支座30遠離支腳10的底面為與凸出部20端面平行的平面。

每一個支腳10上均設(shè)置一個支座30，并且兩個支腳10上的支座30位于同一平面。支腳10通過支座30的底面平穩(wěn)抵接在下軸承座中分面上。

支座30的底面的粗糙度不大于1.6μm。支座30的外周形狀不限定，如可以是矩形等多邊形，也可以是圓形等。

具體地，支腳10可包括主體段11、自主體段11一端彎折延伸的第一連接段12，支座30與第一連接段12相垂直連接。

主體段11的另一端彎折延伸形成與另一支腳10連接的第二連接段13；兩個支腳10的第二連接段13相接形成橋規(guī)的中間部，凸出部20設(shè)置在中間部上。

另外，中間部上可設(shè)有通孔40，可用于橋規(guī)的懸掛存放、定位等。

本實用新型的橋規(guī)的整體材料一致，并且以至少能夠在0-50℃下工作，長時間使用、存放無變形情況的材料制成。

本實用新型的橋規(guī)測量時，將兩個支腳10通過支座30放在下軸承座中分面上，用塞尺測量軸頸與凸出部20之間的間隙，獲得軸頸的下沉值，用以監(jiān)視軸瓦的磨損及軸瓦墊鐵和墊片厚度變化的情況。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。