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用于檢測透明基底的內(nèi)部瑕疵的光學(xué)裝置及方法與流程

文檔序號:12466248閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種用于檢測透明基底內(nèi)部瑕疵的光學(xué)裝置,其特征在于,包括:

用于在預(yù)定低分辨率下檢測所述基底的第一檢測單元,包括第一感光元件以及位于所述基底和所述第一感光元件之間的第一鏡頭,其中所述第一感光元件和所述第一鏡頭放置成:使得物面相對于所述基底傾斜設(shè)置,

用于在預(yù)定高分辨率下檢測所述基底的第二檢測單元,包括第二感光元件以及位于所述基底和所述第二感光元件之間的第二鏡頭,以及

處理器,用于將所述第一檢測單元檢測到的瑕疵的一部分確定為有待所述第二檢測單元檢測的瑕疵,以及用于根據(jù)所述第二檢測單元對所述基底所成的像確定瑕疵的類型。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述第一感光元件的感光面相對于所述基底傾斜放置,所述第一鏡頭的主平面平行于所述第一感光元件的感光面。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述第二檢測單元的放大倍率高于所述第一檢測單元的放大倍率,所述第二感光元件的構(gòu)成與所述第一感光元件的構(gòu)成相同。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述第二感光元件的像素尺寸小于所述第一感光元件的像素尺寸,所述第二鏡頭的構(gòu)成與所述第一鏡頭的構(gòu)成相同。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述第二感光元件和所述第二鏡頭放置成:使得物面相對于所述基底傾斜設(shè)置。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述第一和第二感光元件包括CCD傳感器或CMOS傳感器。

7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述處理器根據(jù)所述第一檢測單元對瑕疵所成的像的銳度最佳時、所述瑕疵成像在所述第一感光元件 上的像素位置確定所述瑕疵在基底厚度方向上的位置,從而確定所述瑕疵是否為有待所述第二檢測單元檢測的瑕疵。

8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述處理器獲取所述第一檢測單元對一個瑕疵成像的序列,所述序列至少包括三個先后時刻的像,其中,中間時刻的像的銳度值高于其余兩個時刻的像的銳度值,所述處理器將所述中間時刻的像確定為:第一檢測單元對所述一個瑕疵所成的銳度最佳的像。

9.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述處理器還根據(jù)所述第一檢測單元對所述瑕疵成像的形貌、確定所述瑕疵是否為有待所述第二檢測單元檢測的瑕疵。

10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其特征在于,所述基底是玻璃。

11.一種用于檢測透明基底的內(nèi)部瑕疵的方法,包括:

a.將感光元件和鏡頭放置成:使得物面相對于所述基底傾斜設(shè)置,

b.在預(yù)定低分辨率下檢測所述基底,

c.將在所述預(yù)定低分辨率下檢測到的瑕疵的一部分確定為有待在預(yù)定高分辨率下檢測的瑕疵,以及

d.根據(jù)所述預(yù)定高分辨率下對所述基底所成的像確定瑕疵的類型。

12.如權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述步驟c包括:根據(jù)所述第一檢測單元對瑕疵成像銳度最佳時、所述瑕疵成像在所述感光元件上的像素位置確定所述瑕疵在基底厚度方向上的位置,從而確定所述瑕疵是否為有待在預(yù)定高分辨率下檢測的瑕疵。

13.如權(quán)利要求12所述的方法,其特征在于,在所述步驟c中,獲取所述第一檢測單元對一個瑕疵成像的序列,所述序列至少包括三個先后時刻的像,其中,中間時刻的像的銳度值高于其余兩個時刻的像的銳度值,將所述中間時刻的像確定為:第一檢測單元對所述一個瑕疵所成的銳度最佳的像。

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