本發(fā)明有關(guān)于光學(xué)膜片、顯示面板模塊及相關(guān)的制造方法；尤其涉及堿化偏光板的光學(xué)膜片、顯示面板模塊及相關(guān)的制造方法。

背景技術(shù)：

偏光板的構(gòu)成與制程日新月異，其差異性會(huì)影響之后所涂布感壓黏著層的性能，因此相同黏著劑使用在不同偏光板會(huì)表現(xiàn)出不同的黏著力，例如含有架橋劑的黏著劑與堿化偏光板搭配，然后貼附在液晶顯示面板上后，會(huì)產(chǎn)生感壓黏著層的經(jīng)時(shí)黏著力亢進(jìn)及重工性差等問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提出一種光學(xué)膜片及顯示面板模塊，應(yīng)用于堿化偏光板，可提升重工性，另外還提出一種相關(guān)的光學(xué)膜片及顯示面板模塊的制造方法。

本發(fā)明提出一種光學(xué)膜片，包括偏光板及黏著層，其中偏光板包括偏光膜及分別位于兩側(cè)的第一保護(hù)膜和第二保護(hù)膜，在第一保護(hù)膜內(nèi)，金屬離子的含量為1～5ppm；黏著層形成于第一保護(hù)膜的一表面上，由包含一架橋劑的黏著劑所形成。

本發(fā)明另外提出一種顯示面板模塊，包括顯示面板基板及前述的光學(xué)膜片，其中光學(xué)膜片的黏著層與顯示面板基板接合。

本發(fā)明另外提出一種光學(xué)膜片制造方法，包括下列步驟：提供保護(hù)膜，其中保護(hù)膜具有第一表面及與第一表面相對(duì)的第二表面；堿化處理保護(hù)膜；電暈放電處理保護(hù)膜的第一表面，其中電暈單位能量為60j/m²以上；以及在保護(hù)膜的第一表面上貼合黏著層，其中黏著層是由黏著劑所形成。

本發(fā)明另外提出一種顯示面板模塊制造方法，包括下列步驟：提供顯示面板基板；以及將前述的光學(xué)膜片制造方法所制成的光學(xué)膜片貼合至顯示面板基板，其中光學(xué)膜片的黏著層與顯示面板基板接合。

綜上所述，本發(fā)明通過(guò)進(jìn)一步處理將與含有架橋劑的黏著層接觸的保護(hù)膜表面，不需改變黏著層的配方即可以更簡(jiǎn)單的方式調(diào)整黏著層貼合于基板后的經(jīng)時(shí)黏著力，提升重工性，并因減少制程的損失可降低顯示面板模塊偏光板的制造成本。

附圖說(shuō)明

圖1為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光學(xué)膜片結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2為應(yīng)用于本發(fā)明的電暈示意圖。

圖3為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板模塊的示意圖。

圖4為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板模塊的制造方法流程圖。

【符號(hào)說(shuō)明】

1：光學(xué)膜片

2：顯示面板模塊

10：偏光板

11：偏光膜

12：保護(hù)膜

13：接著層

20：離型膜

30：黏著層

50：基板

121、301：第一表面

122、302：第二表面

200：電暈設(shè)備

220：電暈滾輪

230：傳輸滾輪

250：電暈器

410～460：步驟

具體實(shí)施方式

體現(xiàn)本案特征與優(yōu)點(diǎn)的一些典型實(shí)施例將在后段的說(shuō)明中詳細(xì)敘述。應(yīng)理解的是本案能夠在不同的樣態(tài)上具有各種的變化，其皆不脫離本案的范圍，且其中的說(shuō)明及圖式在本質(zhì)上是當(dāng)作說(shuō)明之用，而非用以限制本案。

圖1為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的光學(xué)膜片結(jié)構(gòu)的示意圖，本發(fā)明的光學(xué)膜片1包括偏光板10及涂布在偏光板10表面的黏著層30，在黏著層30另一側(cè)覆蓋有離型膜20，而偏光板10包括偏光膜11以及貼附在兩側(cè)的保護(hù)膜12。

在一實(shí)施例中，其中一側(cè)或兩側(cè)的保護(hù)膜12可為單一或復(fù)數(shù)膜層。在一實(shí)施例中，其中一側(cè)或兩側(cè)的保護(hù)膜12可為具有功能性的保護(hù)膜，例如補(bǔ)償膜。在一實(shí)施例中，光學(xué)膜片1尚可包含其他單一或復(fù)數(shù)層保護(hù)性或功能性光學(xué)膜層，例如可為對(duì)光學(xué)的增益、配向、補(bǔ)償、轉(zhuǎn)向、直交、擴(kuò)散、保護(hù)、防黏、耐刮、抗眩、反射抑制、高折射率等有所幫助的層，可例如為具有控制視角補(bǔ)償或雙折射(birefraction)等特性的配向液晶層、易接合處理層、硬涂層、抗反射層、防黏層、擴(kuò)散層、防眩層等各種表面處理層。

離型膜20的材質(zhì)可為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,pet)、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酸酯、聚酯樹(shù)脂、烯烴樹(shù)脂、乙酸纖維素樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、聚乙烯(polyethylene，pe)、聚丙烯(polypropylene，pp)、環(huán)烯烴樹(shù)脂或上述的組合。

黏著層30由黏著劑所形成，在一實(shí)施例中，可為一感壓黏著劑(pressuresensitiveadhesive，psa)，黏著劑的組成主要包括但不限于：(a)主劑、(b)架橋劑及(c)硅烷偶合劑，下面將對(duì)各組成進(jìn)行說(shuō)明。

(a)主劑：

主劑包含至少一種(甲基)丙烯酸酯，在后文中，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的任一種，其余出現(xiàn)的「(甲基)」含意亦可以此類(lèi)推。(甲基)丙烯酸酯例如可選擇自：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯等的直鏈狀(甲基)丙烯酸烷酯；或是例如可選擇自：(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯等的支鏈狀(甲基)丙烯酸烷酯；或是例如可選擇自：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等有烷氧基取代的(甲基)丙烯酸烷酯。另外，(甲基)丙烯酸酯可含有芳基，例如(甲基)丙烯酸芐酯等；或者(甲基)丙烯酸酯可含有芳氧基，例如(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、環(huán)氧乙烷改質(zhì)的壬基酚的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙酯等。完成固化干燥后的交聯(lián)(甲基)丙烯酸酯為黏著層的主要成分及架構(gòu)。

在一實(shí)施例中，主劑可以包含以下配方比例：丙烯酸丁酯(ba)40～90重量份、丙烯酸甲酯(ma)10～40重量份、丙烯酸(aa)1重量份以下、丙烯酸2-羥基乙酯(hea)5重量份以下、丙烯酸2-甲氧基乙酯(mea)5重量份以下、丙烯酸2-苯氧基乙酯(pea)4～10重量份。在一實(shí)施例中，主劑的平均分子量介于120～170萬(wàn)之間，mw/mn介于3.5～5之間。

(b)架橋劑：

架橋劑可幫助主劑內(nèi)的(甲基)丙烯酸酯單體產(chǎn)生交聯(lián)，形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，提高黏著層的強(qiáng)度，架橋劑的分子內(nèi)具有至少兩個(gè)官能基，能與主劑內(nèi)的(甲基)丙烯酸酯單體的極性官能基反應(yīng)，其種類(lèi)有環(huán)氧系架橋劑、異氰酸酯系架橋劑、亞胺系架橋劑、金屬螯合系架橋劑、氮丙啶系架橋劑，可選擇其中一種或混和多種架橋劑，架橋劑的總量為0.05～10重量份或是黏著劑的0.05～10重量％，架橋劑的比例如果過(guò)低，雖能增加部分黏著力，但形成的黏著層內(nèi)聚力不足，高溫測(cè)試時(shí)會(huì)產(chǎn)生發(fā)泡現(xiàn)象。

環(huán)氧系架橋劑例如可選擇自：雙酚a型的環(huán)氧樹(shù)脂、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、n,n-二縮水甘油基苯胺、n,n,n’,n’-四縮水甘油基-間-二甲苯二胺、1,3-雙(n,n-二縮水甘油基胺基甲基)環(huán)己烷等。

異氰酸酯系架橋劑分子內(nèi)至少有兩個(gè)異氰酸酯基(-nco)，例如可選擇自：甲苯二異氰酸酯、二異氰酸六亞甲酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。另外，使用這些異氰酸酯化合物與甘油或三羥甲基丙烷等多元醇反應(yīng)而成的加成物、或?qū)惽杷狨セ衔镏瞥啥畚?、三聚物等亦可成為架橋劑?/p>

亞胺系架橋劑例如可選擇自：二乙烯三胺、三乙烯四胺。

金屬螯合系架橋劑例如可選擇自：乙?；蛞阴；宜嵋阴ヅc鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、鋇、鉻及鋯等的多價(jià)金屬配位而成的化合物等。

氮丙啶系架橋劑例如可選擇自：二苯基甲烷-4,4’-雙(1-氮丙啶甲酰胺)、甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶甲酰胺)、三伸乙基三聚氰胺、間苯二甲?；p-1-(2-甲基氮丙啶)、參-1-氮丙啶基氧化膦、六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶甲酰胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯等。

(c)硅烷偶合劑：

黏著層30一面黏有偏光板10，一面將與顯示面板的基板密接，為了提高黏著層與基板(尤其是玻璃基板)的密著性，因此會(huì)加入硅烷偶合劑，可選擇下列一種或混和多種硅烷偶合劑，硅烷偶合劑的總量為0.01～10重量份。硅烷偶合劑例如可選擇自：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷等的含聚合性不飽和基(如烯鍵)的硅烷化合物；或是例如可選擇自：3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷等的具有環(huán)氧基構(gòu)造的硅烷化合物；或是例如可選擇自：3-胺基丙基三甲氧基硅烷、3-胺基丙基三乙氧基硅烷、n-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基硅烷、n-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基硅烷等的含胺基的硅烷化合物；或是例如可選擇自：3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等的含鹵素取代基的硅烷化合物；其他例如：3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷等。

黏著劑的組成還可以根據(jù)實(shí)際的產(chǎn)品需求，添加其他適當(dāng)?shù)奶砑觿缈轨o電劑等等。

黏著層30是攪拌混合上述黏著劑后，在靜置脫泡后涂布在離型膜20的經(jīng)脫模處理的表面上，涂布的方法例如包括棒涂布法、刮刀涂布法、輥涂布法、板片涂布法、壓模涂布法、凹版涂布法等，最后進(jìn)行干燥步驟，干燥后的黏著劑便形成黏著層30，利用施加壓力便可黏合在保護(hù)膜之上。

偏光膜11可采用已知的金屬偏光膜、碘系偏光膜、染料系偏光膜、聚乙烯偏光膜等。在一實(shí)施例中，偏光膜11的材料例如是包含可為吸附配向的二色性色素的聚乙烯醇(polyvinylalcohol，pva)薄膜或由液晶材料摻附具吸收染料分子所形成。

保護(hù)膜12的材料例如是包含三醋酸纖維素(triacetatecellulose，tac)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate，pmma)、聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯(polyethyleneterephthalate，pet)、聚丙稀(polypropylene，pp)、環(huán)烯烴聚合物(cycloolefinpolymer，cop)、聚碳酸酯(polycarbonate，pc)或上述的任意組合所組成的一族群。此外，亦可進(jìn)一步對(duì)上述保護(hù)層實(shí)行表面處理，例如，抗眩光處理、抗反射處理、硬涂處理、帶電防止處理或抗污處理等。

保護(hù)膜12具有相對(duì)的第一表面121和第二表面122，其中第一表面121與黏著層30接觸，第二表面122與偏光膜11之間可包含一接著層13，且接著層13是由一水性接著劑制得的一透明接著層，其中接著劑的材料包含聚乙烯醇粉。

為了提升保護(hù)膜12與接著層13之間的密著力，在進(jìn)行保護(hù)膜12與偏光膜11貼合之前，會(huì)先以堿液處理保護(hù)膜12，堿液包含金屬離子及氫氧根，金屬離子是正一價(jià)金屬離子(例如為堿金族的金屬離子)或正二價(jià)金屬離子(例如為堿土族的金屬離子)，在一些實(shí)施例中，金屬離子為鉀離子或鈉離子，堿液便為氫氧化鉀水溶液或氫氧化鈉水溶液，但不限于此。

在一些實(shí)施例中，堿液的濃度為1～8n，較佳的濃度為1n～6n，最佳的濃度為3n～5n。堿化處理可以于40℃以上進(jìn)行，實(shí)際會(huì)按照不同膜材的狀況作調(diào)整，在一些實(shí)施例中，較佳的處理溫度為50℃～60℃之間。在一些實(shí)施例中，堿化處理可以進(jìn)行5～40秒，更佳的堿化處理時(shí)間可進(jìn)行10～30秒。然后以純水清洗保護(hù)膜12的表面，移除大部分的堿液，在一些實(shí)施例中，清洗時(shí)間大約是5秒，最后以烘箱干燥。經(jīng)過(guò)堿化流程后，保護(hù)膜12的表面粗糙度增加，可提升接著層13對(duì)保護(hù)膜12的密著力，特定保護(hù)膜12的表面羧酸基轉(zhuǎn)變?yōu)榱u基，有利于使用水性接著劑進(jìn)行保護(hù)膜12與偏光膜11的接合。

但是堿化后的保護(hù)膜12的第一表面121即使經(jīng)過(guò)水洗仍會(huì)殘留堿性物質(zhì)，例如氫氧化鉀或氫氧化鈉，這些殘留的氫氧根(oh^-)會(huì)在后續(xù)制程與黏著層30中的架橋劑反應(yīng)，以異氰酸酯系架橋劑為例，產(chǎn)生如下反應(yīng)：

架橋劑原本要與(1)主劑中共聚物的羥基(-oh)以及(2)硅烷化合物水解后生成硅醇類(lèi)中的羥基反應(yīng)，但是架橋劑被氫氧根耗去后，不但減少了黏著層30的交聯(lián)程度而影響內(nèi)聚力，并且主劑和硅烷偶合劑中的部分羥基未參與架橋劑的反應(yīng)，使得黏著層30中殘留過(guò)多的羥基，當(dāng)黏著層30接合在面板的基板(尤其是玻璃基板)之后，這些多余的羥基持續(xù)與基板表面上的羥基形成氫鍵或是在加熱脫水后形成共價(jià)鍵，造成經(jīng)時(shí)黏著力亢進(jìn)，使得黏著層30不再具備重工性。

在保護(hù)膜12與偏光膜11貼合之后，本發(fā)明還進(jìn)一步利用電暈(corona)對(duì)偏光板中后續(xù)與黏著層30貼合的表面，即保護(hù)膜的第一表面121，進(jìn)行至少一次電暈放電處理，以降低堿化后保護(hù)膜12的第一表面121上殘留的堿性物質(zhì)含量，這樣可以避免保護(hù)膜12上殘留的氫氧根先與架橋劑反應(yīng)，便能改善經(jīng)時(shí)黏著力亢進(jìn)問(wèn)題。圖2為應(yīng)用于本發(fā)明的電暈示意圖，其中電暈設(shè)備200包括電暈滾輪220、數(shù)個(gè)傳輸滾輪230、電暈器250。偏光板10可由電暈滾輪220及數(shù)個(gè)傳輸滾輪230傳輸，在傳輸過(guò)程中，電暈器250針對(duì)保護(hù)膜12的第一表面121進(jìn)行電暈放電處理。表1表示以電暈放電處理偏光板10的保護(hù)膜第一表面121之后再貼合黏著層30的測(cè)試結(jié)果。表1中實(shí)施例及比較例中的黏著劑配方采用的架橋劑包含異氰酸酯系化合物，其余的材料可選自前述發(fā)明說(shuō)明書(shū)揭露的材料，將黏著劑配方置入一容器中，以攪拌器轉(zhuǎn)速250rpm定速攪拌15分鐘，隨后靜置使其脫泡，將脫泡后黏著劑涂布于離型膜20上，放入烘箱進(jìn)行干燥，干燥后取出，以制得黏著層30；偏光板10的保護(hù)膜12則是以氫氧化鉀水溶液進(jìn)行堿化，偏光膜11與保護(hù)膜12貼合形成偏光板10之后以至少一次電暈放電處理偏光板10的表面，接著貼合上述黏著層30與偏光板10，在溫度23℃且相對(duì)濕度65％的條件下固化7日后，進(jìn)行測(cè)試，各測(cè)試項(xiàng)目在表后說(shuō)明。

[表1]

其中，電暈單位能量的計(jì)算方法為：

初期黏著力測(cè)試方法：將黏著層貼附于偏光板，在溫度23℃及相對(duì)濕度65％環(huán)境熟成7天，然后將偏光板裁切成300mm*25mm，通過(guò)黏著層貼合于玻璃基板，加壓脫泡后靜置一天，以拉力機(jī)300mm/min測(cè)試黏著力，此時(shí)測(cè)得的黏著力稱(chēng)之為“初期黏著力”。

經(jīng)時(shí)黏著力測(cè)試方法：依上述方式將貼合于玻璃基板的樣品，放置于溫度23℃及相對(duì)濕度65％環(huán)境30天后，以拉力機(jī)300mm/min進(jìn)行玻璃黏著力量測(cè)，此時(shí)測(cè)得的黏著力稱(chēng)之為“經(jīng)時(shí)黏著力”。

鉀離子含量測(cè)試方法：將保護(hù)膜微波消化后，以感應(yīng)耦合電漿放射光譜儀(icp-oes)分析鉀離子含量，鉀離子含量與殘余氫氧根含量成正相關(guān)。

信賴(lài)(耐久可靠)性測(cè)試方法：

1.耐熱試驗(yàn)：在溫度80℃的干燥條件下保存500小時(shí)后取出進(jìn)行外觀檢查。

2.耐濕熱測(cè)試：在溫度60℃及相對(duì)濕度90％下保存500小時(shí)后取出進(jìn)行外觀檢查。

3.耐冷熱沖擊試驗(yàn)：自80℃的加熱狀態(tài)降溫至-30℃，接著升溫至80℃以此作為一次循環(huán)(0.5小時(shí))，使之重復(fù)200次循環(huán)后取出進(jìn)行外觀檢查。

信賴(lài)性測(cè)試外觀檢查判定標(biāo)準(zhǔn)：x表示發(fā)生嚴(yán)重外觀變化(如發(fā)泡、浮起、剝離)；△表示發(fā)生輕微外觀變化(如發(fā)泡、浮起、剝離)；○表示沒(méi)有發(fā)生外觀變化(如發(fā)泡、浮起、剝離)。

由表1可看出各實(shí)施例與比較例的初期黏著力數(shù)值相近，但是經(jīng)過(guò)電暈單位能量60j/m²以上的放電處理后，金屬離子的含量在1～5ppm之間，對(duì)于玻璃的經(jīng)時(shí)黏著力可介于1～5n/25mm，更佳為2～4n/25mm，使本發(fā)明制得的偏光板可以達(dá)到更好的可重工功效。

圖3顯示利用本發(fā)明構(gòu)想所形成的顯示面板模塊，顯示面板模塊2由本發(fā)明制得的偏光板10與黏著層30可在撕除離型膜20后貼合在液晶面板的基板50之上。若貼合黏著層30于上述基板50時(shí)有貼合不良的情況，則可撕除后進(jìn)行重工。以本發(fā)明實(shí)施例制成的偏光板10在需要重工時(shí)較好撕除，撕除后在液晶面板的基板50的殘膠較少，而對(duì)液晶面板的基板50的傷害較少。

因本發(fā)明的保護(hù)膜12經(jīng)過(guò)前述的堿化處理后，再以電暈放電處理將與黏著層30接觸的第一表面121，清除殘留在第一表面121上的部分堿性物質(zhì)，接著與黏著層30的第一表面301密接，最后利用黏著層30的第二表面302將偏光板10貼合在基板50上，使黏著層30的第二表面302與基板50密接，便形成顯示面板模塊2。在一實(shí)施例中，基板50可為液晶顯示面板的玻璃基板或是觸控面板模塊，其中液晶面板的基板50可為一彩色濾光片基板或一薄膜晶體管基板，但不限于此。所形成的顯示面板模塊2具有重工性，可避免不當(dāng)?shù)馁N合過(guò)程損害偏光板10或基板50。

圖4為本發(fā)明的顯示面板模塊的制造方法流程圖，在步驟410中，提供一保護(hù)膜，保護(hù)膜具有相對(duì)的第一表面及第二表面；接著在步驟420中，以堿液處理保護(hù)膜，堿液包含金屬離子及氫氧根，金屬離子是正一價(jià)金屬離子或正二價(jià)金屬離子，在一些實(shí)施例中，金屬離子為鉀離子或鈉離子，但不限于此；然后在步驟430中，貼合保護(hù)膜與偏光膜，例如以接著層進(jìn)行貼合，接著層可以是由水性接著劑制得的透明接著層；之后在步驟440中，至少一次電暈放電處理保護(hù)膜的第一表面，清除殘留在第一表面上的部分堿性物質(zhì)，其中電暈單位能量為60j/m²以上；然后在步驟450中，在保護(hù)膜的第一表面上貼合黏著層，而形成黏著層的黏著劑可包含異氰酸酯系架橋劑，到此步驟便完成本發(fā)明的光學(xué)膜片。在步驟460中，將步驟450制得的光學(xué)膜片貼合至基板，使光學(xué)膜片的黏著層與基板接合，在一實(shí)施例中，基板可為液晶顯示面板的玻璃基板或是觸控面板模塊，其中液晶顯示面板的基板可為彩色濾光片基板或薄膜晶體管基板，完成貼合動(dòng)作后，最后便形成本發(fā)明的顯示面板模塊。

綜上所述，本發(fā)明通過(guò)進(jìn)一步處理將與含有架橋劑的黏著層接觸的保護(hù)膜表面，不需改變黏著層的配方即可以更簡(jiǎn)單的方式調(diào)整黏著層貼合于基板后的經(jīng)時(shí)黏著力，提升重工性，并因減少制程的損失可降低顯示面板模塊偏光板的制造成本。