本實(shí)用新型涉及一種復(fù)合材料,具體涉及一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料。屬于表面處理技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
通信系統(tǒng)領(lǐng)域常用的結(jié)構(gòu)和設(shè)備有整機(jī)、模塊、電子設(shè)備構(gòu)件和基板等等。這些結(jié)構(gòu)和設(shè)備有時需要應(yīng)用在復(fù)雜的外界環(huán)境中,或者需要與其他結(jié)構(gòu)或設(shè)備進(jìn)行焊接操作,又或者需要應(yīng)用到自身的某些電學(xué)性能。因此,如何保證這些通信結(jié)構(gòu)或設(shè)備能夠應(yīng)用在復(fù)雜外界環(huán)境中、具有良好的焊接性能和電學(xué)性能從而保證良好的工作可靠性變得至關(guān)重要。
將鋁作為基材,通過特定的制備工藝得到鋁基復(fù)合材料,進(jìn)而改善鋁基材的自身缺陷,不失為一種改良方案。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是為克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案:
一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層和鋅鍍層,錫鍍層的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域,鋅鍍層包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域,另一部分鍍覆于錫鍍層和填充后的暴露區(qū)域表面;所述鋅鍍層的表面涂覆封閉劑層。
優(yōu)選的,任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。
優(yōu)選的,所述錫鍍層的厚度為7~15μm。
優(yōu)選的,所述鋅鍍層高于錫鍍層的厚度為8~12μm。
優(yōu)選的,所述封閉劑層的厚度為3~8μm。
優(yōu)選的,所述封閉劑層中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂4~5份,聚二甲基硅氧烷2~3份,聚季銨鹽-7 5~12份,甲基脯氨酸2~3份,甲基異噻唑啉酮2~3份,水80~90份。
本實(shí)用新型的有益效果:
本實(shí)用新型的鋁基復(fù)合材料是在鋁基材表面依次鍍覆錫鍍層和鋅鍍層,最后在鋅鍍層表面涂覆封閉劑層,形成一層致密的保護(hù)薄膜,膜層結(jié)合力強(qiáng)。錫鍍層在鋁基材的表面呈條狀分布,鋅鍍層與錫鍍層呈現(xiàn)一種“T”字形的鑲嵌式位置關(guān)系,這種交錯鍍覆方法增強(qiáng)了所得鋁基復(fù)合材料的耐高溫性和耐腐蝕性,并且,具有很好的可焊性,特別適用于通信領(lǐng)域的結(jié)構(gòu)與設(shè)備。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的縱剖面結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為錫鍍層的橫剖面結(jié)構(gòu)示意圖;
其中,1為鋁基材,2為錫鍍層,3為鋅鍍層,4為封閉劑層,5為暴露區(qū)域。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的闡述,應(yīng)該說明的是,下述說明僅是為了解釋本實(shí)用新型,并不對其內(nèi)容進(jìn)行限定。
實(shí)施例1:
如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材1,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層2和鋅鍍層3,錫鍍層2的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域,鋅鍍層3包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域5,另一部分鍍覆于錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面;鋅鍍層3的表面涂覆封閉劑層4。任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。錫鍍層2的厚度為7μm。鋅鍍層3高于錫鍍層2的厚度為8μm。封閉劑層4的厚度為3μm。其中,封閉劑層4中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂4份,聚二甲基硅氧烷2份,聚季銨鹽-7 5份,甲基脯氨酸2份,甲基異噻唑啉酮2份,水80份。
上述的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料的制備工藝,包括步驟:
(1)鋁基材1的預(yù)處理,即將其表面清洗干凈,然后再用電導(dǎo)率為0.1μS/cm的超純水清洗;在預(yù)處理后的鋁基材1表面橫向、等距、平行地電鍍錫,形成條狀分布的錫鍍層2;
(2)在錫鍍層2表面電鍍鋅,形成鋅鍍層3,保證填充暴露區(qū)域5,并在錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面形成水平鍍層;
(3)在鋅鍍層3表面采用噴涂法均勻涂覆封閉劑。
實(shí)施例2:
如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材1,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層2和鋅鍍層3,錫鍍層2的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域5,鋅鍍層3包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域5,另一部分鍍覆于錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面;鋅鍍層3的表面涂覆封閉劑層4。任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。錫鍍層2的厚度為15μm。鋅鍍層3高于錫鍍層的厚度為12μm。封閉劑層4的厚度為8μm。其中,封閉劑層4中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂5份,聚二甲基硅氧烷3份,聚季銨鹽-7 12份,甲基脯氨酸3份,甲基異噻唑啉酮3份,水90份。
上述的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料的制備工藝,包括步驟:
(1)鋁基材1的預(yù)處理,即將其表面清洗干凈,然后再用電導(dǎo)率為0.1μS/cm的超純水清洗;在預(yù)處理后的鋁基材1表面橫向、等距、平行地電鍍錫,形成條狀分布的錫鍍層2;
(2)在錫鍍層2表面電鍍鋅,形成鋅鍍層3,保證填充暴露區(qū)域5,并在錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面形成水平鍍層;
(3)在鋅鍍層3表面采用噴涂法均勻涂覆封閉劑。
實(shí)施例3:
如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材1,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層2和鋅鍍層3,錫鍍層2的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域5,鋅鍍層3包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域5,另一部分鍍覆于錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面;鋅鍍層3的表面涂覆封閉劑層4。任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。錫鍍層2的厚度為7μm。鋅鍍層3高于錫鍍層2的厚度為12μm。封閉劑層4的厚度為3μm。其中,封閉劑層4中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂5份,聚二甲基硅氧烷2份,聚季銨鹽-712份,甲基脯氨酸2份,甲基異噻唑啉酮3份,水80份。
上述的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料的制備工藝,包括步驟:
(1)鋁基材1的預(yù)處理,即將其表面清洗干凈,然后再用電導(dǎo)率為0.1μS/cm的超純水清洗;在預(yù)處理后的鋁基材1表面橫向、等距、平行地電鍍錫,形成條狀分布的錫鍍層2;
(2)在錫鍍層2表面電鍍鋅,形成鋅鍍層3,保證填充暴露區(qū)域5,并在錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面形成水平鍍層;
(3)在鋅鍍層3表面采用噴涂法均勻涂覆封閉劑。
實(shí)施例4:
如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材1,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層2和鋅鍍層3,錫鍍層2的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域5,鋅鍍層3包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域5,另一部分鍍覆于錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面;鋅鍍層3的表面涂覆封閉劑層4。任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。錫鍍層2的厚度為15μm。鋅鍍層3高于錫鍍層2的厚度為8μm。封閉劑層4的厚度為8μm。其中,封閉劑層4中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂4份,聚二甲基硅氧烷3份,聚季銨鹽-75份,甲基脯氨酸3份,甲基異噻唑啉酮2份,水90份。
上述的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料的制備工藝,包括步驟:
(1)鋁基材1的預(yù)處理,即將其表面清洗干凈,然后再用電導(dǎo)率為0.1μS/cm的超純水清洗;在預(yù)處理后的鋁基材1表面橫向、等距、平行地電鍍錫,形成條狀分布的錫鍍層2;
(2)在錫鍍層2表面電鍍鋅,形成鋅鍍層3,保證填充暴露區(qū)域5,并在錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面形成水平鍍層;
(3)在鋅鍍層3表面采用噴涂法均勻涂覆封閉劑。
實(shí)施例5:
如圖1和圖2所示,本實(shí)用新型的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料,包括鋁基材1,以及依次鍍覆于其表面的錫鍍層2和鋅鍍層3,錫鍍層2的縱截面為等距排列的若干個正方形,相鄰的兩個正方形之間形成暴露區(qū)域5,鋅鍍層3包括兩部分,一部分填充于暴露區(qū)域5,另一部分鍍覆于錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面;鋅鍍層3的表面涂覆封閉劑層4。任意兩個相鄰正方形中心之間的距離等于正方形邊長的2倍。錫鍍層2的厚度為10μm。鋅鍍層3高于錫鍍層2的厚度為9μm。封閉劑層4的厚度為6μm。其中,封閉劑層4中的封閉劑是由以下重量份的組分混合配制而成:丙烯酸樹脂4.5份,聚二甲基硅氧烷2.5份,聚季銨鹽-7 8份,甲基脯氨酸3份,甲基異噻唑啉酮2份,水85份。
上述的一種耐腐蝕鋁基復(fù)合材料的制備工藝,包括步驟:
(1)鋁基材1的預(yù)處理,即將其表面清洗干凈,然后再用電導(dǎo)率為0.1μS/cm的超純水清洗;在預(yù)處理后的鋁基材1表面橫向、等距、平行地電鍍錫,形成條狀分布的錫鍍層2;
(2)在錫鍍層2表面電鍍鋅,形成鋅鍍層3,保證填充暴露區(qū)域5,并在錫鍍層2和填充后的暴露區(qū)域5表面形成水平鍍層;
(3)在鋅鍍層3表面采用噴涂法均勻涂覆封閉劑。
上述雖然結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行了描述,但并非對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制,在本實(shí)用新型的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動即可做出的各種修改或變形仍在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以內(nèi)。