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一種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法

文檔序號:5266605閱讀:373來源:國知局
專利名稱:一種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于納米材料的,特別涉及ー種采用激光燒蝕金屬鎳靶材合成的NiO納米立方體顆粒中的鎳雜質(zhì)的去除方法。
背景技術(shù)
NiO是近P型半導(dǎo)體,具有穩(wěn)定帶寬,不同形貌的NiO納米顆粒的比表面積、量子尺寸效應(yīng)存在差異,NiO納米顆粒表現(xiàn)出優(yōu)良的催化性能和電學(xué)性能等方面的優(yōu)點。NiO納米立方體顆粒是由具有面心立方結(jié)構(gòu)的氧化鎳形成的ー種具有規(guī)則立方體形貌的納米材料。由于NiO納米立方體顆粒裸露的外表面具有較高活性,大大拓展了 NiO納米立方體顆粒材料的應(yīng)用范圍,使其在催化、新型鋰電電極材料等諸多科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域顯示出巨大的潛在應(yīng)用價值。NiO納米立方體顆粒材料作為ー種新型納米材料,其制備、性能與應(yīng)用的研究已成為材料科學(xué)領(lǐng)域的研究熱點。目前,美國Yong Che小組2007年首次利用飛秒激光燒蝕密封腔體中的純金屬鎳靶材在產(chǎn)物中觀察到了 NiO納米立方體顆粒,但是這種エ藝方法制備出的產(chǎn)物主要由多種尺寸的鎳顆粒組成,NiO納米立方體顆粒僅僅是伴隨鎳顆粒而產(chǎn)生的副產(chǎn)物,參見 Liu et al, appliedphysics letters, 2007,90:044103。另外,就是利用毫秒脈沖激光燒蝕空氣中或水中的金屬鎳靶材,能高效率地制備出宏量的Ni 0納米立方體,但這種エ藝方法制備出的產(chǎn)物也包含了多種尺寸的鎳顆粒。如何將NiO納米立方體顆粒從產(chǎn)物中分離出來是NiO納米立方體顆粒制備和實際利用中的ー個突出問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的,是要解決將NiO納米立方體顆粒從混合產(chǎn)物中分離出來,提供一種低成本、高效率地的提純方法。本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下ー種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法,采用三步法去除其中的雜質(zhì),步驟如下( 1)去除粒徑較大鎳顆粒將激光法合成的包含NiO納米立方體產(chǎn)物的混合物加入到質(zhì)量比為10-20倍的去離子水中,常溫下攪拌5分鐘,利用孔徑尺寸介于0. 250mm-0. 125mm之間,即60-120目之間的過濾網(wǎng)過濾,去除產(chǎn)物中粒徑較大鎳顆粒,得到初次純化產(chǎn)物;( 2 )去除粒徑較小鎳顆粒將步驟(1)得到的一次純化產(chǎn)物加入質(zhì)量比為2-4倍的去離子水中,在常溫下,利用攪拌器低速攪拌,同時在容器中放置磁鐵吸附溶液中的粒徑較小鎳顆粒,攪拌5分鐘后,取出磁鐵,人工刮去磁鐵上吸附的物質(zhì);然后再次將磁鐵放置在容器中,繼續(xù)攪拌5分鐘,取出磁鐵,再刮去磁鐵上吸附物質(zhì);如此往復(fù)三次;(3)低溫干燥去除水分
將步驟(2)容器中剰余液體取出,低溫干燥24小時去除水分,獲得高純度NiO納米立方體顆粒。提純后NiO含量為99%。本發(fā)明首次解決了激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純問題,效果顯著此方法エ藝簡單,設(shè)備要求低,產(chǎn)品純度高,提供了一種高純度NiO納米立方體顆粒的提純方法。因激光法制備NiO納米立方體吋,使用高純度的金屬鎳靶材,產(chǎn)物中僅僅包含鎳顆粒以及NiO納米立方體顆粒,上述的NiO納米立方體提純方法,在提純過程中不產(chǎn)生有毒廢棄廢液,且不同尺寸金屬鎳顆粒可以回收再利用。利用本方法提純的NiO納米立方體顆粒完全能夠滿足相關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用,尤其是催化、電極材料等領(lǐng)域的應(yīng)用。
具體實施例方式實施例10. 250mm (即標(biāo)準(zhǔn)目數(shù)60)將5g激光法合成的包含NiO納米立方體產(chǎn)物的混合物與50g去離子水混合,常溫下攪拌5分鐘,利用孔徑尺寸介于0. 250mm (即標(biāo)準(zhǔn)目數(shù)60)的過濾網(wǎng)過濾,去除產(chǎn)物中粒徑較大鎳顆粒。再將得到的一次純化產(chǎn)物加入質(zhì)量比為2倍的去離子水中,在常溫下,低速攪拌,同時在容器中放置磁鐵吸附溶液中的粒徑較小鎳顆粒,5分鐘后,取出磁鐵,人工刮去磁鐵上吸附的物質(zhì);然后再次將磁鐵放置在容器中,繼續(xù)攪拌5分鐘,取出磁鐵,再刮去磁鐵上吸附物質(zhì);如此往復(fù)三次。再將容器中剰余液體取出,低溫干燥24小時去除水分,獲得高純度NiO納米立方體顆粒。實施例1提純的NiO納米立方體含量檢測結(jié)果如下提純前Ni80%, NiO 20% ;提純后Ni1%,NiO 99%。產(chǎn)品回收率為96.5%。實施例2將IOg激光法合成的包含NiO納米立方體產(chǎn)物的混合物與200g去離子水混合,在常溫下攪拌5分鐘,利用孔徑尺寸介于0. 125mm (即標(biāo)準(zhǔn)目數(shù)120)的過濾網(wǎng)過濾,去除產(chǎn)物中粒徑較大鎳顆粒。再將得到的一次純化產(chǎn)物加入質(zhì)量比為4倍的去離子水中,在常溫下,低速攪拌,同時在容器中放置磁鐵吸附溶液中的粒徑較小鎳顆粒,5分鐘后,取出磁鐵,人工刮去磁鐵上吸附的物質(zhì);然后再次將磁鐵放置在容器中,繼續(xù)攪拌5分鐘,取出磁鐵,再刮去磁鐵上吸附物質(zhì);如此往復(fù)三次。再將容器中剰余液體取出,低溫干燥24小時去除水分,獲得高純度NiO納米立方體顆粒。實施例2提純的NiO納米立方體檢測結(jié)果如下提純前Ni30%, NiO 70% ;提純后Ni1%,NiO 99%。產(chǎn)品回收率為97.5%。通過以上兩個實施例的理化分析,此方法可以達(dá)到提純NiO納米立方體的要求,質(zhì)量穩(wěn)定,操作環(huán)境安全,提純エ藝環(huán)保,回收率高。
權(quán)利要求
1.一種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法,采用三步法去除其中的雜質(zhì),步驟如下 (1)去除粒徑較大鎳顆粒 將激光法合成的包含NiO納米立方體產(chǎn)物的混合物加入到質(zhì)量比為10-20倍的去離子水中,常溫下攪拌5分鐘,利用孔徑尺寸介于O. 250mm-0. 125mm之間,即60-120目之間的過濾網(wǎng)過濾,去除產(chǎn)物中粒徑較大鎳顆粒,得到初次純化產(chǎn)物; (2)去除粒徑較小鎳顆粒 將步驟(I)得到的一次純化產(chǎn)物加入質(zhì)量比為2-4倍的去離子水中,在常溫下,利用攪拌器低速攪拌,同時在容器中放置磁鐵吸附溶液中的粒徑較小鎳顆粒,攪拌5分鐘后,取出磁鐵,人工刮去磁鐵上吸附的物質(zhì);然后再次將磁鐵放置在容器中,繼續(xù)攪拌5分鐘,取出磁鐵,再刮去磁鐵上吸附物質(zhì);如此往復(fù)三次; (3)低溫干燥去除水分 將步驟(2)容器中剩余液體取出,低溫干燥24小時去除水分,獲得高純度NiO納米立方體顆粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的一種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法,其特征在于,提純后NiO含量為99%。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種激光法合成的NiO納米立方體顆粒的提純方法,首次解決了現(xiàn)有激光法制備的NiO納米立方體顆?;旌衔镏?,不同尺寸鎳顆粒的分離與提純問題。首先,利用微孔過濾法去除合成產(chǎn)物中粒徑較大的鎳顆粒;再利用攪拌器攪拌的同時利用鐵吸附去除NiO納米立方體顆粒中粒徑較小的鎳顆粒;再低溫干燥,去除水分,獲得高純度NiO納米立方體顆粒,產(chǎn)品回收率為97.5%。本發(fā)明工藝簡單,設(shè)備要求低,產(chǎn)品純度高,不產(chǎn)生有毒廢液,且不同尺寸金屬鎳顆??梢曰厥赵倮?。利用本發(fā)明提純的NiO納米立方體顆粒能夠滿足例如催化、電極材料等領(lǐng)域的應(yīng)用。
文檔編號B82Y30/00GK103030182SQ201210575689
公開日2013年4月10日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者田飛, 曹宏梅, 林奎, 郭世珍, 趙靜, 孫景 申請人:田飛, 曹宏梅, 林奎, 郭世珍, 趙靜, 孫景
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