專利名稱：：非硫化的Ni基氫化裂解催化劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及氬化裂解催化劑。
背景技術(shù)：
：低溫費(fèi)歇爾-托羅普希法(LTFT)包括在其主要產(chǎn)物中的顯著體積的重質(zhì)烴，總體稱為蠟。通常，這些蠟(其基本不含硫)通過氫化裂解反應(yīng)加氫轉(zhuǎn)化成餾出物。如JScherzer和AJGruia在"HydrocrackingScienceandTechnology"(MarcelDekker,1996)中所指出的，通常使用的工業(yè)氫化裂解催化劑為基于在無定形二氧化硅-氧化鋁體系上的NiW、MMo和CoMo的催化劑。所有這些催化劑需要連續(xù)的添加含硫樣品以維持它們的性能。與在強(qiáng)酸性的沸石載體上發(fā)現(xiàn)的結(jié)果(Calemma等人，StudiesinSurfaceScienceandCatalyst,136(2001)302)相反，使用無定形二氧化硅-氧化鋁作為基體可產(chǎn)生對餾出物的較高的選擇性，這是其較低的酸性強(qiáng)度的結(jié)杲。通過使用這樣的氫化裂解工藝，以無硫原料開始和以無硫產(chǎn)物結(jié)束的優(yōu)點(diǎn)將丟失，并且同時(shí)，H2S將出現(xiàn)在尾氣中。但是，最重要地，它將在開發(fā)非硫化的非貴金屬催化劑的工藝經(jīng)濟(jì)方面高度地有利。Ciapetta和Hunter在IndustrialEngineeringandChemistry,45(1953)147中報(bào)道了關(guān)于用于正己烷和正辛烷的氫化裂解的非硫化的Ni/SiOrAl203催化劑的使用。但是，眾所周知在技術(shù)文獻(xiàn)中(例如參見Lugstein等人，AppliedCatalysisA:Geneal，152(1997)93),負(fù)載的Ni催化劑顯示出高的氫解作巧活性，導(dǎo)致產(chǎn)生曱烷(在多數(shù)情況下不期望的低值產(chǎn)物)。這種觀察適用于負(fù)載在所有常用載體如二氧化硅、氧化鋁、二氧化硅-氧化鋁、沸石、和甚至堿性載體(例如，氧化鎂)上的Ni。而且，曱烷的形成不得不被最小化，因?yàn)槠溆绊懺跉怏w循環(huán)模式下運(yùn)行的氫化裂解器中的氫分壓。由于商業(yè)原因，在有價(jià)值的含碳種類的轉(zhuǎn)化中，也希望在較少價(jià)值的產(chǎn)品(即曱烷)的生產(chǎn)中將氫的消耗最小化。從上面可總結(jié)出，存在一種對低氫解作用活性的非硫化的非貴金屬F-T蠟氫化裂解催化劑的需要。
發(fā)明內(nèi)容令人驚訝地，發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)了用于低氫解活性和長壽命(避免由于金屬燒結(jié)等引起的脫氫/氫化活性的損失)的活性和選擇性非硫化Ni基催化劑的可用配方，而現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)主要與在沸石或者非沸石酸性載體上的非硫化的貴金屬或者硫化的MW、CoMo或NiMo有關(guān)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種氫化裂解催化劑，該催化劑為非硫化的且具有至少1質(zhì)量％的Ni含量和至少20質(zhì)量％的二氧化硅含量。所述催化劑可具有至少3質(zhì)量％的Ni含量。所述催化劑可具有至少4.5質(zhì)量％的Ni含量。所述催化劑可具有高達(dá)50質(zhì)量％的Ni含量。在一些實(shí)施方式中，所述Ni含量為5質(zhì)量％12質(zhì)量°/。，典型地為6質(zhì)量％10質(zhì)量％。所述催化劑可具有至少40質(zhì)量％的二氧化硅。所述催化劑可包括超過60質(zhì)量％的二氧化硅，和甚至約80質(zhì)量％的二氧化硅，或者甚至高達(dá)99質(zhì)量％的二氧化硅。所述二氧化硅可以二氧化硅-氧化鋁形式存在。所述催化劑可包含Sn。所述催化劑可包含比Sn更多的M。典型地，所述催化劑可包含Ni和Sn,其中所述Ni:Sn摩爾比超過1:1。所述Ni:Sn摩爾比可超過2:l、3:1、或甚至更高。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述Ni:Sn摩爾比為6:1。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了一種用于在非硫化的含Ni催化劑存在下減少氫化裂解烴時(shí)曱烷形成的方法。所述催化劑可含有Sn。所述二氧化硅可以二氧化硅-氧化鋁形式存在。所述方法可將對曱烷的選擇性減小至低于0.13質(zhì)量％，典型地減小至0.011質(zhì)量°/?；蚋?，和甚至減小至0.008質(zhì)量％或更少。所述方法可包括含有一定量的Sn使得所述Ni:Sn摩爾比超過1:1。所述方法可包括含有一定量的Sn使得所述M:Sn摩爾比超過5:1。所述方法可包括使用具有超過3質(zhì)量％的Ni,典型地超過4.5質(zhì)量％的Ni，優(yōu)選地超過5質(zhì)量°/。的Ni的催化劑。所述方法可包括使用二氧化硅-氧化鋁作為所述催化劑的載體。根據(jù)本發(fā)明的進(jìn)一步方面，提供了一種用于烴的氫化裂解的工藝，所述工藝包括在氫化裂解溫度和壓力下運(yùn)行的反應(yīng)器中，將所述烴(例如在370。C+范圍內(nèi)沸騰的石蠟烴，也稱為蠟、或者得自F-T的初級(jí)蠟)暴露于上述催化劑。所述工藝也可用于低沸點(diǎn)烴(如石腦油或者從F-T過程中獲得的中間餾分)的加氫轉(zhuǎn)化。所述工藝可在200-450。C的溫度范圍內(nèi)、5-250巴的壓力、和0.1-10小時(shí)—1的重時(shí)空速(WHSV)范圍下進(jìn)行。所述鎳-錫(NiSn)催化劑也可用在用于原油餾分、生物質(zhì)、和通常任何可得到的烴材料來源的氫化裂解的工藝中。通過使用非硫化的Ni基氫化裂解催化劑可將曱烷的形成降低至低于1質(zhì)量％,典型地低于0.1質(zhì)量％。在催化劑中使用Sn時(shí)，所述曱烷的形成可降低至低于0.03質(zhì)量％，優(yōu)選低于0.01質(zhì)量％。所述二氧化硅可以二氧化硅-氧化鋁形式存在。通過選擇率乘以轉(zhuǎn)化分?jǐn)?shù)來計(jì)算所述曱烷形成、或者曱烷產(chǎn)率。具體實(shí)施例方式使用具有40質(zhì)量。/。的二氧化硅含量的工業(yè)硅化的氧化鋁(silicatedalumina),合成了一系列的M基催化劑。3和4.5。/。Ni/硅化的氧化鋁樣品通過濕法浸漬而制備，所述濕法浸漬使用合適濃度的硝酸鎳的水溶液以得到期望的金屬載荷。將這些樣品作為用于正十六烷的氫化裂解的催化劑來進(jìn)行測試，其中正十六烷用作模型化合物。通過這些催化劑(其為非硫化的)而獲得的產(chǎn)物分布顯得對稱，且接近于JWeitkamp和SEmst在"GuidelinesforMasteringthePropertiesofMolecularSieves",PlenumPress,1990，第343頁中定義的理想的氳化裂解。在較重質(zhì)的烴(如F-T蠟)的氫化裂解中，理想的氫化裂解意味著期望的餾出物選擇性將在其理論最大值處。因此，獲得的結(jié)果是積極的指示，即非硫化的M是在氫化裂解催化劑中起到脫氬/氫化功能的適合的金屬。但是，也觀察到產(chǎn)生的甲烷的量是明顯的。在1968-1970年期間，許多涉及負(fù)栽的疏化的鎳-錫氫化裂解催化劑的專利被授權(quán)給ChevronResearchCompony(美國專利3,399,132(1968)、3,542,696(1970)、和3,598,724(1971))。如在這些專利中所指出的，向鎳催化劑中加入錫的目的是增加催化劑的活性。但是，錫對氫解作用的影響從未被注意過，因?yàn)榱蚧耆藲浣庾饔?。發(fā)明人制備了一系列用于氫化裂解的含Sn的Ni基催化劑。NiSn/珪化的氧化鋁樣品通過使用Ni:Sn摩爾比-3:l共浸漬Sn化合物而制備。該負(fù)載的NiSn催化劑隨后被測試用于正十四烷的氫化裂解。沒有Sn的催化劑(即，7。/。M/硅化的氧化鋁)產(chǎn)生了高度對稱的氬化裂解產(chǎn)物分布以及明顯量的曱烷(約20摩爾％)。但是，令人驚訝地發(fā)現(xiàn)，Sn加到硅化的氧化鋁負(fù)載的Ni基氬化裂解催化劑導(dǎo)致了催化劑的氫解作用活性的幾乎全部消除(這些結(jié)果顯示于實(shí)施例2中的圖2中)。先前在關(guān)于非硫化的鎳基氫化裂解催化劑的專利或者公開文獻(xiàn)中未做這樣的觀察。因此，從上述實(shí)驗(yàn)中顯示出，通過向Ni基氬化裂解催化劑中加入錫，我們已經(jīng)能夠克服氫解作用的問題。但是，發(fā)現(xiàn)與Ni或者NiSn/硅化的氧化鋁催化劑有關(guān)的問題是隨著運(yùn)行時(shí)間(TOS)的催化劑的穩(wěn)定性，即，金屬功能的損失和向輕質(zhì)產(chǎn)物的偏移。當(dāng)初始運(yùn)行時(shí)，獲得幾乎理想的氫化裂解，連續(xù)運(yùn)行數(shù)天后，觀察到向輕質(zhì)產(chǎn)物的偏移。這些觀察在實(shí)施例3中被證明。從負(fù)載于參考載體如二氧化硅、氧化鋁和二氧化硅-氧化鋁上的氧化鎳的對比程序升溫還原研究，得出結(jié)論在硅化的氧化鋁負(fù)載的鎳催化劑前體中，氧化鎳優(yōu)選地與氧化鋁相相結(jié)合。由于金屬功能的損失可以是這種結(jié)合的結(jié)果，我們將注意力集中于商業(yè)二氧化硅-氧化鋁樣品，該商業(yè)二氧化硅-氧化鋁樣品在二氧化硅-氧化鋁相中只能具有低含量的氧化鋁(通常用作粘結(jié)劑)、高的二氧化硅含量而且高的四面體鋁含量以具有高的質(zhì)子酸性。由于這些催化劑的性質(zhì)不能從廠商得到，催化測試反應(yīng)(l-己醇的脫氫)被用于確定二氧化硅-氧化鋁擠出物的酸活性。為此，將反應(yīng)溫度維持較低(200。C)以使存在于二氧化硅-氧化鋁擠出物中的氧化鋁相對于脫水活性的貢獻(xiàn)最小化，并因此主要觀察二氧化硅-氧化鉛(和其四面體鋁含量)的催化活性。為更好地理解上述內(nèi)容，應(yīng)該參考實(shí)施例4中的表1，其給出了采用不同工業(yè)產(chǎn)品獲得的脫水結(jié)果。遵循上述研究，使用商業(yè)二氧化硅-氧化鋁還制備了另一個(gè)系列的用于氫化裂解的含Sn的Ni基催化劑，該商業(yè)二氧化硅-氧化鋁含有50質(zhì)量％的二氧化硅(在表1中記為SA2)并顯示出高的酸催化活性(例如，醇脫水為己烯)。Ni含量從6到10質(zhì)量％變化和使用6:1的Ni:Sn摩爾比例。這些催化劑在小試規(guī)模的反應(yīng)器中測試高達(dá)600小時(shí)，再次使用正十四烷作為模型化合物。從得到的結(jié)果中，可以容易地確定Sn的添加幾乎完全消除了氫解作用的程度(對甲烷的0.008質(zhì)量％的選擇性)。用于抑制在氫化裂解反應(yīng)中的曱烷形成的Sn的加入的有益效果也從這些實(shí)施例中清楚地顯見(參見實(shí)施例5中的表3和4的結(jié)果)。但是，由于包含Sn,裂解產(chǎn)物的摩爾分布向輕質(zhì)產(chǎn)物偏移并且不得不加入更多的Ni以在酸功能和金屬功能之間獲得更好的平衡并且因此獲得理想的氫化裂解。并且，只能對于各個(gè)催化劑體系決定在Ni。/。和Ni:Sn之比方面的氫化裂解催化劑的最優(yōu)化。而且，盡管使用了用硅化的氧化鋁作為載體制備的催化劑，但是在300小時(shí)的運(yùn)行時(shí)間后偏移已是清楚顯著的，NiSn/二氧化硅-氧化鋁催化劑在相同的運(yùn)行條件下是穩(wěn)定的并隨著TOS產(chǎn)生類似的轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)物分布。還發(fā)現(xiàn)使用這些具有增加的金屬載荷的催化劑，在產(chǎn)物分布中也有向更高碳數(shù)的輕微偏移。這些結(jié)果清楚地顯示對于這種特殊的二氧化硅-氧化鋁需要更高的金屬載荷以獲得金屬功能和酸功能之間的適當(dāng)?shù)钠胶狻＿€再次驚訝地發(fā)現(xiàn)，通過Ni/二氧化硅-氧化鋁的曱烷形成顯著地少于通過M/硅化的氧化鋁而獲得的曱烷形成。因此，可得到結(jié)論，載體/酸性組分的二氧化硅含量越高，對曱烷的選擇性越低。這些對比結(jié)果和出乎意外的結(jié)果列于實(shí)施例5的表5中。實(shí)施例13和4.5%的Ni/硅化的氧化鋁如下制備使用合適濃度的六水合硝酸鎳(99%純度，Aldrich)的水溶液，以獲得所述的金屬載荷百分?jǐn)?shù)(考慮到灼燒的損失=13.8質(zhì)量％)。使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器在50毫巴和55。C下除去溶劑。隨后在120。C下干燥過夜和在30(TC下煅燒2小時(shí)。在反應(yīng)器中裝入樣品后，在大氣壓下使用氫氣在400。C下進(jìn)行原位還原16小時(shí)。隨后，將樣品作為用于正十六烷(n-C,6)的氫化裂解的催化劑而進(jìn)行測試，其中，正十六烷被用作模型化合物。對于3。/。Ni/硅化的氧化鋁，反應(yīng)條件為350°C、55巴、WHSV=2.3小時(shí)"以及H2/n-C,6摩爾比約為10,以及對于4.5。/。Ni/硅化的氧化鋁，反應(yīng)條件為345。C、55巴、WHSV=2.5小時(shí)"以及H2/n-C,6摩爾比約為9。通過這些催化劑(非硫的)，在約41%轉(zhuǎn)化率時(shí)所獲得的產(chǎn)物分布顯得對稱，且因此接近理想的氫化裂解。實(shí)施例2NiSn/硅化的氧化鋁樣品通過使用Ni:Sn摩爾比-3:l的錫化合物的共浸漬而制備。該樣品通過將13.5g的Ni(N03)2-6H20和3.5g的SnCl2.2H20(Aldrich)溶于150ml的95%乙醇中制備。向該溶液中加入40g的硅化的氧化鋁載體并且使該混合物在室溫下靜置1小時(shí)。溶劑除去和干燥步驟如實(shí)施例1中所述的進(jìn)行，隨后在60(TC下煅燒3小時(shí)。在45(TC下還原16小時(shí)后，該負(fù)載的NiSn催化劑隨后測試用于在340°C、50巴、WHSV=1.5小時(shí)"以及H2/n-C,4摩爾比約為10的反應(yīng)條件下在31質(zhì)量°/。轉(zhuǎn)化率時(shí)的正十四烷(n-Cw)的氫化裂解。通過Ni和NiSn/硅化的氧化鋁而獲得的產(chǎn)物分布示于圖2中，其清楚地表明了在鎳基氫化裂解催化劑中加入錫對于抑制氫解的有益效果。實(shí)施例3使用在實(shí)施例2中描述的相同工藝，還制備了硅化的氧化鋁負(fù)載的NiSn催化劑，其含有5質(zhì)量％的Ni和1.7質(zhì)量°/。的Sn。將催化劑前體在35(TC下煅燒2小時(shí)，在350。C還原4小時(shí)，催化反應(yīng)在343。C、50巴、WHSV=1.8小時(shí)-1以及H2/n-C,4摩爾比約為10下進(jìn)行。在16和514小時(shí)的運(yùn)行期間下而獲得的產(chǎn)物分布顯示于圖3中。由于金屬功能的損失，隨著TOS的增加而向輕質(zhì)產(chǎn)物的偏移是清楚顯見的。實(shí)施例4表l.使用1-己醇脫水用于商業(yè)二氧化硅-氧化鋁的質(zhì)子酸性的評(píng)價(jià)反應(yīng)條件200。C、WHSV-3.0小時(shí)"和TOS:1.0小時(shí)<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>吏用文獻(xiàn)方法(JHeveling,CpNiColaidesandMSScurrel,AppliedCatalysisA:General,173(1998)1)制備的純的二氧化硅-氧化鋁2商業(yè)二氧化硅-氧化鋁樣品。實(shí)施例5(a)第二系列的NiSn催化劑使用高酸性SA2二氧化硅-氧化鋁作為載體而制備，其具有50質(zhì)量°/。的二氧化硅含量。Ni含量從6到10質(zhì)量％變化且使用6:1摩爾比的Ni:Sn。所有樣品在350。C下煅燒，并且將10ml用10ml碳化硅稀釋的催化劑前體加入反應(yīng)器中。還原反應(yīng)使用20Wh的氫氣流速在350。C下在大氣壓下進(jìn)行16小時(shí)。表2顯示催化劑的基本特性。表2.NiSn/二氧化硅-氧化鋁催化劑的特性<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>實(shí)施例5(b)描述于實(shí)施例5(a)中的催化劑被用于在表3中所列出的反應(yīng)條件下的正十四烷的氬化裂解。所得到的轉(zhuǎn)化率百分?jǐn)?shù)和曱烷的選擇性百分?jǐn)?shù)也在同一表中給出。曱烷選擇性從7。/。Ni/二氧化硅-氧化鋁樣品時(shí)的約0.13質(zhì)量％下降到含Sn催化劑時(shí)的0.008質(zhì)量％(見表3和4)。用于抑制在氫化裂解反應(yīng)中的甲烷形成的錫的加入的有益效果也在這些實(shí)施例中清楚地顯見。<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>'反應(yīng)在小試規(guī)模的反應(yīng)器中，使用10ml的用10ml碳化硅稀釋的催化劑進(jìn)行。實(shí)施例5(c)對于10%Ni、3.4%Sn/二氧化硅-氧化鋁催化劑，作為TOS的函數(shù)的轉(zhuǎn)化率百分?jǐn)?shù)和對曱烷的選擇性百分?jǐn)?shù)列于表4中。反應(yīng)條件為323。C、50巴且H2/n-C,4摩爾比約為10。結(jié)果顯示了催化劑隨TOS變化的穩(wěn)定性能以及極低水平的曱烷形成。表4.對于10%Ni、3.4%Sn/二氧化硅-氧化鋁催化劑的作為運(yùn)行時(shí)間的函數(shù)的轉(zhuǎn)化率百分?jǐn)?shù)和曱烷的選擇性百分?jǐn)?shù)<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>實(shí)施例5(d)通過描述于實(shí)施例5(c)中的催化劑，在不同運(yùn)行時(shí)間下獲得的產(chǎn)物分布示于圖4中。反應(yīng)條件如在表3中給出。結(jié)果顯示，用該催化劑在不同運(yùn)行時(shí)間下獲得類似的產(chǎn)物分布并且沒有明顯地向輕質(zhì)產(chǎn)物的偏移。實(shí)施例5(e)圖5顯示通過具有不同金屬載荷(描述于表3中)的催化劑而獲得的產(chǎn)物分布?？梢钥吹?，隨著金屬載荷的增加，向更高碳數(shù)(C6-Cn)的偏移增加。實(shí)施例6在這個(gè)實(shí)施例中，比較在使用僅含鎳和兩種不同載體的催化劑而進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)中觀察到的對曱烷的選擇性百分?jǐn)?shù)。結(jié)果清楚地顯示即使在Ni/二氧化硅-氧化鋁催化劑中使用較高的鎳載荷，也得到低得多的對曱烷的選擇性。從而證明了用于使甲烷形成程度最小化的氳化裂解催化劑中的高二氧化硅含量和低氧化鋁含量的有益效果。表5.氧化鋁含量對曱烷選擇性的影響<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>權(quán)利要求1.一種用于在非硫化的含Ni催化劑存在下減少氫化裂解烴時(shí)甲烷形成的方法，該催化劑具有至少1質(zhì)量％的Ni含量和至少20質(zhì)量％的二氧化硅含量，所述二氧化硅以二氧化硅-氧化鋁的形式存在。2.權(quán)利要求1的方法，其中將所述曱烷形成減少至低于1質(zhì)量％。3.權(quán)利要求2的方法，其中將所述曱烷形成減少至低于0.1質(zhì)量％。4.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其具有至少3質(zhì)量％的Ni含量。5.權(quán)利要求4的方法，其具有至少4.5質(zhì)量％的Ni含量。6.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其具有至少40質(zhì)量％的二氧化硅。7.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其中所述催化劑含有Sn。8.權(quán)利要求7的方法，其中將所述甲烷形成減少至低于0.01質(zhì)量％。9.權(quán)利要求7的方法，其中Ni:Sn摩爾比超過1:1。10.前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，該方法包括使用二氧化硅-氧化鋁作為所述催化劑的載體。11.一種用于烴的氫化裂解的工藝，所述工藝包括在氫化裂解溫度和壓力下運(yùn)行的反應(yīng)器中，將所述烴暴露于非硫化的含Ni催化劑，該催化劑具有至少1質(zhì)量％的Ni含量和至少20質(zhì)量％的二氧化硅含量，且所述二氧化硅以二氧化硅-氧化鋁形式存在。12.權(quán)利要求11的工藝，其中所述烴為在370。C+范圍內(nèi)沸騰的石蠟烴。13.權(quán)利要求ll的工藝，其中所述烴為較低沸點(diǎn)的石蠟烴。14.權(quán)利要求11到13中任一項(xiàng)的工藝，該工藝在200450。C的溫度、5250巴的壓力和WHSV=0.1-10小時(shí)"下運(yùn)行。15.權(quán)利要求11到14中任一項(xiàng)的工藝，其具有至少3質(zhì)量％的Ni含量。16.權(quán)利要求15的工藝，其具有至少4.5質(zhì)量％的Ni含量。17.權(quán)利要求11到16中任一項(xiàng)的工藝，其具有至少40質(zhì)量％的二氧化硅。18.權(quán)利要求11到17中任一項(xiàng)的工藝，其中所述二氧化硅以二氧化硅-氧化鋁形式存在。19.權(quán)利要求11到18中任一項(xiàng)的工藝，其中所述催化劑含有Sn。20.權(quán)利要求19的工藝，其中Ni:Sn摩爾比超過1:1。21.權(quán)利要求11到20中任一項(xiàng)的工藝，該工藝包括使用二氧化硅-氧化鋁作為所述催化劑的載體。22.—種用在當(dāng)氫化裂解烴時(shí)減少曱烷形成的方法中的催化劑，所述催化劑為非硫化的且含有Ni和二氧化硅，其中所述Ni含量為至少1質(zhì)量％,所述二氧化硅含量為至少20質(zhì)量％,且所述二氧化硅以二氧化硅-氧化鋁形式存在。23.權(quán)利要求22的催化劑，其具有至少3質(zhì)量。/。的Ni含量。24.權(quán)利要求23的催化劑，其具有至少4.5質(zhì)量。/。的Ni含量。25.權(quán)利要求22到24中任一項(xiàng)的催化劑，其具有至少40質(zhì)量％的二氧化硅。26.權(quán)利要求22到25中任一項(xiàng)的催化劑，該催化劑含有Sn。27.權(quán)利要求26的催化劑，其中Ni:Sn摩爾比超過1:1。28.權(quán)利要求22到27中任一項(xiàng)的催化劑，該方法包括使用二氧化硅-氧化鋁作為所述催化劑的載體。29.—種如權(quán)利要求1所述的用于在非硫化的含Ni催化劑存在下減少氫化裂解烴時(shí)曱烷形成的方法，基本如在此描述和說明的。30.—種如權(quán)利要求11所述的用于烴氫化裂解的工藝，基本如在此描述和說明的。31.—種用在如權(quán)利要求22所述的當(dāng)氫化裂解烴時(shí)減少曱烷形成的方法中的催化劑，基本如在此描述和說明的。32.—種新方法、一種新工藝、或一種新催化劑，基本如在此描述的。全文摘要本發(fā)明提供一種用于減少氫化裂解烴時(shí)甲烷形成的方法，和一種用于烴的氫化裂解的工藝，所述方法和工藝?yán)梅橇蚧臍浠呀獯呋瘎?，其具有Ni和Sn，其中Ni含量為至少1質(zhì)量％和二氧化硅含量為至少20質(zhì)量％，所述二氧化硅以二氧化硅-氧化鋁形式存在。文檔編號(hào)C10G47/02GK101370912SQ200680052694公開日2009年2月18日申請日期2006年12月1日優(yōu)先權(quán)日2005年12月12日發(fā)明者克里斯塔基斯·P·尼古萊德斯,吉納維夫·喬爾斯特,羅伯特·德哈恩申請人:Sasol技術(shù)股份有限公司