鍋爐和用于選擇性非催化還原的裝置的制造方法
【專利摘要】鍋爐(1)具有包圍內(nèi)部空間(3)的側(cè)管壁(2)和用于選擇性非催化還原的裝置(7)。用于選擇性非催化還原的裝置(7)具有：噴管(8)，其承載具有至少噴嘴(10)的軟管(9)；以及軟管驅(qū)動機構(gòu)(11)，其用于驅(qū)動噴管內(nèi)的軟管。噴管(8)從鍋爐(1)的側(cè)管壁(2)突出到內(nèi)部空間(3)中。
【專利說明】
鍋爐和用于選擇性非催化還原的裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及鍋爐和用于選擇性非催化還原的裝置。特別地，本發(fā)明涉及鍋爐，其連接到蒸汽渦輪和用于產(chǎn)生電功率的發(fā)電機上。鍋爐設(shè)有選擇性非催化還原，以從煙道氣中移除NOx。
【背景技術(shù)】
[0002]鍋爐包括管壁，管壁限定內(nèi)部空間;諸如煤、油、廢料的燃料供應(yīng)到內(nèi)部空間中，并且與諸如空氣或氧的氧化劑一起燃燒。在燃燒期間，產(chǎn)生煙道氣，煙道氣富含NOx，必須在煙道氣排到大氣中之前，將NOx的量降低到給定極限以下。
[0003]為了從煙道氣中移除NOx，可將諸如氨(作為液體溶液的NH3)或脲(作為液體溶液的CH4N2O)的反應(yīng)劑噴射到煙道氣中，并且煙道氣可傳送通過催化器，以便NOx轉(zhuǎn)化成N2和H20(選擇性催化還原，SCR);這個反應(yīng)在低溫下發(fā)生，例如介于250 °C-450 °C之間。
[0004]催化器昂貴且在運行期間可能受損，由于這個原因，已經(jīng)研究出一種方法，根據(jù)此方法，將氨或脲噴射到具有高溫的煙道氣中，例如在750°C-1300°C的范圍中，使得在不需要催化器的情況下，NOx轉(zhuǎn)化成NdPH2O (選擇性非催化還原，SNCR)。
[0005]W02012/059 184公開了一種用于廢料-能量應(yīng)用的鍋爐(S卩，廢料用作鍋爐中的燃料)。鍋爐在其頂壁處具有孔口，使得用于選擇性非催化還原的裝置通過這個孔口引入到內(nèi)部空間中。用于選擇性非催化還原的裝置具有管狀噴管和滑動到噴管中的軟管。軟管在其端部處具有噴嘴，該端部容納在內(nèi)部空間中。在運行期間，噴管懸掛在鍋爐的頂壁上，并且軟管從噴管延伸;反應(yīng)劑傳送通過軟管，并且通過噴嘴向上噴射。
[0006]W02012/059 184的鍋爐是較小的鍋爐，諸如使用廢料作為燃料的鍋爐;盡管如此，其中軟管承載懸掛在鍋爐的頂部的噴嘴的噴管應(yīng)用對于大型鍋爐來說是困難的，諸如使用煤作為燃料的鍋爐。例如，在大型鍋爐的情況下，傳送通過軟管的反應(yīng)劑可在到達噴嘴之前在軟管內(nèi)蒸發(fā);這妨礙噴射，其中反應(yīng)劑恰當?shù)貪B透且與煙道氣混合，并且因此，從煙道氣中移除的NOx少。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的一方面包括提供鍋爐和用于選擇性非催化還原的裝置，其中，反應(yīng)劑可噴射到鍋爐的內(nèi)部空間中，反應(yīng)劑在噴射之前蒸發(fā)的風險減小，或者至少反應(yīng)劑在噴射之前大量蒸發(fā)的風險減小。
[0008]通過提供根據(jù)所附權(quán)利要求的鍋爐和用于選擇性非催化還原的裝置來實現(xiàn)這些和另外的方面。
[0009]在有利實施例中，反應(yīng)劑可噴射到其中的區(qū)域可得到優(yōu)化。例如可通過調(diào)節(jié)噴管的水平位置和/或優(yōu)化和/或調(diào)節(jié)反應(yīng)劑噴射來實現(xiàn)這一點。
【附圖說明】
[0010]根據(jù)鍋爐的優(yōu)選但非排它性實施例的描述，另外特性和優(yōu)點將更加顯而易見，在附圖中以非限制性示例的方式示出實施例，其中:
圖1顯示根據(jù)本發(fā)明的示意性鍋爐；
圖2至4顯示噴管的不同實施例；
圖5至10顯示噴嘴的不同實施例；
圖11顯示曲線鍋爐的內(nèi)部空間內(nèi)的等溫曲線(在火焰上方)；
圖12顯示關(guān)于反應(yīng)劑的脈沖噴射的閥開度與時間的關(guān)系；
圖13和14顯示關(guān)于以不同的方式運行的不同噴嘴的蒸發(fā)區(qū)域；
圖15顯示連接在支承梁上的噴管；
圖16顯示連接到支承梁上的托架；
圖17顯示側(cè)向位置被調(diào)整的支承梁的實施例；
圖18至20顯示噴管側(cè)向位置被調(diào)整的、處于不同構(gòu)造的支承梁的實施例。
【具體實施方式】
[0011]參照附圖，這些顯示了鍋爐I，它包括包圍內(nèi)部空間3的側(cè)管壁2和頂壁4。通過噴燃器5對鍋爐供應(yīng)諸如煤的燃料和諸如空氣或氧的氧化劑。
[0012]鍋爐還具有用于選擇性非催化還原SNCR的裝置7;裝置7包括噴管8，噴管8承載軟管9，噴管8具有至少噴嘴10;如顯示的那樣，優(yōu)選地噴嘴處于軟管終端部分處，軟管終端部分容納在內(nèi)部空間3內(nèi)。裝置7進一步具有軟管驅(qū)動機構(gòu)11，以驅(qū)動噴管8內(nèi)的軟管。
[0013]圖顯示了2程(pass)鍋爐的示例，并且在這種情況下，裝置7與第一程相關(guān)聯(lián)，總之明確的是，鍋爐可為任何類型的鍋爐，并且裝置7可位于任何地方，在其中存在用于正確的選擇性非催化反應(yīng)的溫度的位置處。
[0014]有利地，噴管8從鍋爐的側(cè)管壁5突出到內(nèi)部空間3中。照這樣，與在噴管懸掛在鍋爐的頂壁4上的情況相比，容納在內(nèi)部空間3內(nèi)的軟管的長度更短，使得傳送通過軟管的反應(yīng)劑在運行期間不蒸發(fā)，或者至少在到達噴嘴10之前不經(jīng)歷較大程度的蒸發(fā)。優(yōu)選地噴管8基本水平地突出。
[0015]為了進一步阻礙反應(yīng)劑的蒸發(fā)，噴管8優(yōu)選地設(shè)有冷卻系統(tǒng)；圖2至4顯示具有不同冷卻系統(tǒng)的噴管8。
[0016]冷卻系統(tǒng)包括用于冷卻介質(zhì)(諸如空氣和/或另一種氣體和/或蒸汽和/或水)的一個或多個通道15。通道15優(yōu)選具有環(huán)形，并且位于噴管壁16和軟管9之間。例如，圖2顯示噴管8，其中軟管9從其開口端凸出；一個環(huán)形通道15限定在噴管8的壁16和軟管9之間。圖3顯示噴管8，它具有開口 19和從這個開口 19凸出的軟管9; 一個環(huán)形通道15限定在噴管8的壁16和軟管9之間。圖4顯示噴管8，其中軟管9從其開口端凸出；兩個環(huán)形通道15a、15b限定在噴管8的壁16和軟管9之間。
[0017]通往用于冷卻介質(zhì)的通道15、15a、15b中的入口20位于噴管8的在內(nèi)部空間3外部的部分處(圖2-4);相反，來自通道15、15a、15b的出口可位于噴管8的在內(nèi)部空間3內(nèi)部的部分處(圖2和3)，并且可由開口 19限定，并且/或者出口可位于噴管8的在內(nèi)部空間3外部的部分處(圖4)，并且可由專用開口 21限定。
[0018]另外，噴管8可具有外部隔離層22，以對噴管進行熱隔離，并且保護它免受煙道氣的影響。如果需要，根據(jù)冷卻系統(tǒng)的熱移除能力來實現(xiàn)外部隔離層22。
[0019]在冷卻介質(zhì)是空氣和/或另一種氣體的情況下:
-當空氣/其它氣體具有低壓力時(例如空氣/其它氣體通過送風機供應(yīng)到通道15、15a、15b中)，則典型地需要隔離層22;
-當空氣/其它氣體具有中等壓力時(例如空氣/其它氣體通過送風機供應(yīng)到通道15、15a、15b中)，典型地不需要隔離層22，因為空氣/其它氣體的壓力提高允許移除足夠的熱；
-當空氣/其它氣體具有高壓力時(例如空氣/其它氣體通過壓縮機供應(yīng)到通道15、15a、15b中)，則典型地不需要隔離層22。
[0020]當冷卻介質(zhì)是空氣/其它氣體時，它可排到鍋爐的內(nèi)部空間3中(S卩，噴管8可具有圖2或3中顯示的結(jié)構(gòu))；實際上，空氣可有利地允許燃料進一步反應(yīng)(S卩，它可像上部引入的燃燒空氣那樣起作用)。
[0021]在冷卻介質(zhì)是水的情況下，它可在中等壓力下供應(yīng)到通道15、15a、15b，典型地不需要任何外部隔離層22;在這種情況下，水可排到內(nèi)部空間3內(nèi)(像圖2和3中那樣)，或者排到內(nèi)部空間3外部(像圖4中那樣)。
[0022]在冷卻介質(zhì)是蒸汽的情況下:
-它可在低壓下供應(yīng)到通道15、15a、15b中，典型地不需要任何外部隔離層22;在這種情況下，蒸汽排到內(nèi)部空間3中(像圖2和3中顯示的噴管那樣)；
-它可在高壓下供應(yīng)到通道15、15a、15b，典型地不需要任何外部隔離層22;在這種情況下，蒸汽排到內(nèi)部空間3外部(像圖4中顯示的噴管那樣)。
[0023]當然，噴管的具體設(shè)計，外部隔離層的存在性和入口20和出口的位置，通道15、15a、15b的構(gòu)造，冷卻器件的類型和冷卻器件的壓力，可為任何組合，而且將取決于特定條件。
[0024]噴管8優(yōu)選地設(shè)有噴管定位系統(tǒng)，以調(diào)整軟管9在內(nèi)部空間3內(nèi)的位置。特別地，噴管定位系統(tǒng)布置成用于調(diào)整噴管在其縱向軸線25上的位置。
[0025]在一個實施例中，用于調(diào)整噴管在其縱向軸線上的位置的噴管定位系統(tǒng)包括噴管支承梁26和可在支承梁26上移動的托架27;噴管8連接到托架27上。
[0026]還提供鼓29來承載軟管9;鼓29優(yōu)選地不連接到托架27上;鼓29例如可連接到支承梁26或外部支承件上且由它們支承。
[0027]托架27進一步支承軟管驅(qū)動機構(gòu)11。軟管驅(qū)動機構(gòu)11具有相對的輪31(軟管9穿過相對的輪31)和用于驅(qū)動輪31的馬達32，使得在運行期間，輪31驅(qū)動軟管9，并且鼓29僅用來纏繞或松開軟管9。例如具有鏈條36和馬達37的驅(qū)動系統(tǒng)用來沿著支承梁26驅(qū)動托架27。在這方面，托架27在位置38處固定到鏈條36上。
[0028]另外，用于選擇性非催化還原的裝置還可具有側(cè)向驅(qū)動機構(gòu)，以調(diào)節(jié)噴管8的側(cè)向位置。
[0029]在一個實施例中，側(cè)向驅(qū)動機構(gòu)包括連接到支承梁26上的鉸接件40和鏈條41，鏈條41的端部連接到支承梁26和輪42上;至少一個輪42連接到馬達43上，以在箭頭S上控制和調(diào)節(jié)側(cè)向位置。
[0030]在備選實施例中，側(cè)向驅(qū)動機構(gòu)可包括平臺80，平臺80布置成接收托架27(例如平臺可具有適于接收托架27的軌道)。平臺80可旋轉(zhuǎn)地連接到支承梁26上(優(yōu)選地平臺80可旋轉(zhuǎn)地連接到支承梁26的一端上，并且支托在內(nèi)部空間3的外側(cè))ο在運行期間，托架27可在支承梁26上滑動，如箭頭F3指示的那樣，而且可被驅(qū)動到平臺80上方;一旦托架在平臺80上，平臺80就可如箭頭S指示的那樣旋轉(zhuǎn)，以便調(diào)整噴管8的側(cè)向位置。在一個實施例中，托架可在平臺80旋轉(zhuǎn)時固定到平臺80上。
[0031]鍋爐I進一步具有控制系統(tǒng)44，以控制來自噴嘴10的流量。有利地控制系統(tǒng)44可布置成用于通過噴嘴10而產(chǎn)生脈沖流。例如，鍋爐包括閥45，閥45連接到控制系統(tǒng)44上且由其驅(qū)動，以產(chǎn)生脈沖流。另外或者作為備選方案，可通過栗供應(yīng)反應(yīng)劑，栗是受控制的，以便提供脈沖流。當然用于產(chǎn)生脈沖流的其它器件是可行的。
[0032]根據(jù)描述和示出的內(nèi)容，鍋爐的運行是顯而易見的，而且其運行基本如下。
[0033]燃料和氧化劑供應(yīng)到內(nèi)部空間3中，并且燃料燃燒，從而產(chǎn)生火焰F和煙道氣G，煙道氣G傳送通過鍋爐。煙道氣包含Ν0χ(主要是NO和少量NO2),必須至少部分地移除NOx。
[0034]噴管8通過側(cè)管壁2的側(cè)部開口引入到內(nèi)部空間3中；開口可為用于不同的領(lǐng)域的開口，諸如檢查開口或?qū)Ｓ瞄_口。
[0035]軟管9和噴嘴10從噴管8懸掛在內(nèi)部空間3中。
[0036]可沿水平和豎向調(diào)節(jié)噴嘴位置。
[0037]沿豎向調(diào)節(jié)噴嘴位置是為了使噴嘴10將反應(yīng)劑噴射到其中溫度對于選擇性非催化反應(yīng)最佳的區(qū)中?？赏ㄟ^以下方式進行豎向調(diào)節(jié):運行馬達32，以便驅(qū)動輪31推動/拉軟管9通過噴管8，如箭頭Fl指示的那樣，以及調(diào)整噴嘴豎向位置，如箭頭F2指示的那樣。
[0038]沿著軸線25調(diào)節(jié)噴嘴位置(例如水平地)，以將噴嘴10置于其中煙道氣速度(并且因而質(zhì)量流量)較高的區(qū)中，因為大部分NOx傳送通過這些區(qū)?？赏ㄟ^以下方式沿著支承梁26水平地調(diào)整噴嘴位置:運行馬達37，以便沿著支承梁26驅(qū)動托架27，如箭頭F3指示的那樣。托架27的移動使噴管8沿著支承梁26相應(yīng)地移動，如箭頭F4指示的那樣。
[0039]另外，還可樞轉(zhuǎn)地調(diào)節(jié)噴嘴位置。通常不需要這樣做，因為特別是對于大型鍋爐而言，提供不止一個噴管;無論如何，側(cè)向調(diào)節(jié)可使調(diào)整更靈活。在這種情況下，可通過以下方式完成調(diào)整:運行馬達43，以便如箭頭F5指示的那樣移動鏈條41，并且因而使支承梁26(和其所支承的噴管8)如箭頭S指示的那樣樞轉(zhuǎn)。
[0040]可在鍋爐啟動之前，根據(jù)預(yù)測運行狀況來調(diào)節(jié)噴嘴的位置，但也可在鍋爐的運行期間，響應(yīng)于不同的運行狀況或使噴嘴位置更好地適應(yīng)當前運行狀況和/或溫度分布和/或煙道氣速度分布，來改變噴嘴的位置。
[0041 ]在鍋爐I的運行期間，從罐47對軟管9供應(yīng)反應(yīng)劑，諸如氨或脲;反應(yīng)劑傳送通過軟管9且通過噴嘴1噴射。
[0042]對于噴射有不同的可能性。優(yōu)選地反應(yīng)劑例如通過槽口噴射在圓錐形表面48上，但也可通過多個單個射流噴射，各個射流依靠在圓錐形表面上。優(yōu)選地軟管9和通過噴嘴10噴射的流之間的角度A在0° <A<180°的范圍中，更優(yōu)選地在90° <A<180°的范圍中，并且甚至更優(yōu)選地在135° <A<155°的范圍中。
[0043]噴射在圓錐形表面48上，從而限定90°-180°之間和優(yōu)選地135°-155°的角度A，這是有利的，因為允許在溫度均勻的區(qū)域上噴射反應(yīng)劑。實際上，內(nèi)部空間3內(nèi)的溫度比側(cè)管壁2附近的溫度更低，而且向上(S卩，遠離火焰)更低；因此等溫曲線具有鐘形，其端部朝下，并且接近側(cè)管壁2(圖11)。因此在頂點在頂部且朝下的圓錐形表面上噴射允許反應(yīng)劑橫穿煙道氣，從而具有基本均勻的溫度，或者比其它構(gòu)造更均勻的溫度。
[0044]圖5至10顯示噴嘴10的不同實施例。
[0045]圖5顯示實施例，其中噴嘴10具有本體50(優(yōu)選為管狀形狀)，本體50例如由鋼或其它金屬制成，支承臂51連接在本體50中。噴嘴10的一端連接到軟管9上，另一端具有堵塞件53，堵塞件53連接到支承臂51上。堵塞件53與本體50共同限定縫隙54?？p隙54可具有(但這不是強制性的)從本體50的內(nèi)部到其外部的會聚傳送區(qū)域。在運行期間，反應(yīng)劑傳送通過軟管9且進入本體50;然后反應(yīng)劑通過縫隙54噴射到鍋爐的內(nèi)部空間3中。
[0046]圖6至8顯示噴嘴10的不同實施例。在這個實施例中，噴嘴10也具有本體50，本體50具有支承臂51，支承臂51支承一個或多個(在該示例中僅顯示了一個)中間盤56和堵塞件53。盤56設(shè)有供反應(yīng)劑通過的開口 57。盤56與本體50限定第一縫隙54a，并且與堵塞件53限定第二縫隙54b;縫隙54a和54b可具有相同尺寸SZ，但優(yōu)選地它們具有不同的尺寸SZ。使得通過它們噴射的反應(yīng)劑形成不同直徑的液滴，不同直徑的液滴在鍋爐的不同部分中蒸發(fā)(液滴越小，蒸發(fā)越快)，以便使反應(yīng)劑較好地分布在內(nèi)部空間3內(nèi)。當然超過一個盤也是可行的，并且因而超過兩個縫隙也是可行的。
[0047]圖9和10顯示噴嘴的另一個示例；在這個實施例中，盤56具有外部邊界59，外部邊界59不是筆直的(像前面的示例中那樣)，而是具有Z字形或彎曲形狀，縫隙的尺寸在邊界59上在最小尺寸SZl和最大尺寸SZ2之間改變。
[0048]當然具有結(jié)合了上面描述的那樣的解決辦法的實施例也是可行的，使得例如可僅在堵塞件53處，或者在盤56和堵塞件53兩者處，或者作為外部邊界59的替代或者補充，提供Z字形邊界，內(nèi)部邊界60也可具有Z字形。
[0049]除了噴嘴特征(例如縫隙的數(shù)量和/或它們的構(gòu)造)之外，或者作為其備選方案，還可通過經(jīng)由控制系統(tǒng)44和優(yōu)選地閥45控制的脈沖噴射，來改進反應(yīng)劑分布和蒸發(fā)。
[0050]圖12顯示閥開度和時間之間的關(guān)系；明確的是可根據(jù)需要來設(shè)定最小閥開度65、最大閥開度66、最大開度的持續(xù)時間67和斜坡(ramp)頻率。
[0051 ]在運行期間，由于不同的體積流量，來自縫隙的出口速度提高和/或降低，這使反應(yīng)劑液滴的直徑改變。不同直徑的液滴的蒸發(fā)不同，使得在有脈沖噴射的情況下，與沒有脈沖噴射相比，實現(xiàn)更大的蒸發(fā)區(qū)是可行的。
[0052]作為示例，圖13和14顯示其中反應(yīng)劑液滴在內(nèi)部空間3內(nèi)蒸發(fā)的區(qū)域的頂部的視圖；圖13指的是具有不同縫隙54a、54b的噴嘴實施例(例如噴嘴可具有圖6-8中顯示的構(gòu)造)，并且圖14指的是具有脈沖反應(yīng)劑噴射的噴嘴實施例(例如噴嘴可具有圖5中顯示的構(gòu)造)O
[0053]根據(jù)圖13顯而易見的是，具有較小直徑的液滴(例如通過縫隙54b噴射)比具有較大直徑的液滴(例如通過縫隙54a噴射)蒸發(fā)得更快。在這方面，環(huán)形區(qū)域68指示其中較小直徑的液滴蒸發(fā)的區(qū)，并且區(qū)域69指示其中較大直徑的液滴蒸發(fā)的區(qū)。根據(jù)圖13顯而易見的是，與在僅使用一個縫隙的情況相比，兩個(而且很可能超過兩個)縫隙允許有大得多的蒸發(fā)區(qū)域。
[0054]圖14顯示其中發(fā)生反應(yīng)劑液滴蒸發(fā)的區(qū)70;而且在這種情況下，顯而易見的是蒸發(fā)比無脈沖的情況大得多;作為示例，線71指示在未使用脈沖的情況下的可行蒸發(fā)起始點。
[0055]在噴射和蒸發(fā)之后，反應(yīng)劑與煙道氣混合，并且執(zhí)行已知的選擇性非催化反應(yīng)，以從煙道氣中移除NOx。
[0056]當然，可彼此獨立地提供所描述的特征。
[0057]在實踐中，可根據(jù)要求和現(xiàn)有技術(shù)隨意選擇所使用的材料和尺寸。
[0058]參考標號列表 I鍋爐
2側(cè)管壁 3內(nèi)部空間 4頂壁 5噴燃器
7用于選擇性非催化還原的裝置 8噴管 9軟管 10噴嘴
11軟管驅(qū)動機構(gòu)
15、15a、15b冷卻通道
16噴管壁
19側(cè)部開口
20入口
21開口
22隔尚層
25縱向軸線
26支承梁
27托架
29鼓
31輪
32馬達
36鏈條
38固定位置
37馬達
40鉸接件
41鏈條
42輪
43馬達
44控制系統(tǒng)
45閥
47罐
48圓錐形表面 50本體 51支承臂53堵塞件
54、54a、54b 縫隙
56中間盤
57開口
59外部邊界
60內(nèi)部邊界
65最小閥開度
66最大閥開度
67最大開度的持續(xù)時間
68較小直徑的液滴的蒸發(fā)區(qū)
69較大直徑的液滴的蒸發(fā)區(qū)
70液滴的蒸發(fā)區(qū)
71無脈沖噴射的可行液滴蒸發(fā)起始點80平臺A角度F火焰
Fl軟管的推/拉F2噴嘴豎向位置的調(diào)整F3托架在支承梁上移動F4噴管移動F5鏈條42的移動G煙道氣S箭頭
SZ、SZ1、SZ2縫隙的尺寸。
【主權(quán)項】
1.一種鍋爐(I)，包括包圍內(nèi)部空間(3)的側(cè)管壁(2)和用于選擇性非催化還原的裝置(7)，所述用于選擇性非催化還原的裝置(7)包括:噴管(8)，其承載軟管(9)，所述軟管(9)具有至少噴嘴(10);以及軟管驅(qū)動機構(gòu)(11 )，其用于驅(qū)動所述噴管內(nèi)的所述軟管， 其特征在于，所述噴管(8)從所述鍋爐(I)的側(cè)管壁(2)突出到所述內(nèi)部空間(3)中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述噴管(8)設(shè)有冷卻系統(tǒng)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述冷卻系統(tǒng)包括至少通道(15，15a，15b)，以冷卻噴管壁(16)和所述軟管(9)之間的介質(zhì)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍋爐，其特征在于， 進入到所述至少通道(15，15a，15b)中的入口(20)位于所述噴管(8)的在所述內(nèi)部空間(3)外部的部分處，以及 來自所述至少通道(15，15a，15b)的出口位于所述噴管(8)的在所述內(nèi)部空間(3)內(nèi)部的部分處。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍋爐(I)，其特征在于， 進入到所述至少通道(15、15a、15b)中的入口(20)位于所述噴管(8)的在所述內(nèi)部空間(3)外部的部分處，以及 來自所述至少通道(15，15a，15b)的出口位于所述噴管(8)的在所述內(nèi)部空間(3)外部的部分處。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述噴管(8)設(shè)有噴管定位系統(tǒng)，以調(diào)整所述軟管(9)在所述內(nèi)部空間(3)內(nèi)的位置。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述噴管定位系統(tǒng)布置成調(diào)整所述噴管(8)在其縱向軸線(25)上的位置。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍋爐(I)，其特征在于，用于調(diào)整所述噴管在其縱向軸線(25)上的位置的所述噴管定位系統(tǒng)包括 至少噴管支承梁(26)， 可在所述支承梁(26)上移動的托架(27)， 所述噴管(8)連接到所述托架(27)上，并且可相對于所述支承梁(26)移動。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述鍋爐(I)進一步包括承載所述軟管(9)的鼓(29)，其中，所述托架(27)支承軟管驅(qū)動機構(gòu)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍋爐(I)，其特征在于，所述噴管(8)基本水平地突出到所述內(nèi)部空間(3)中。11.一種用于選擇性非催化還原的裝置(7)，包括:噴管(8)，其承載軟管(9)，所述軟管(9)具有至少噴嘴(10);以及軟管驅(qū)動機構(gòu)(11)，其用于驅(qū)動所述噴管內(nèi)的所述軟管， 其特征在于，所述噴管(8)設(shè)有冷卻系統(tǒng)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于選擇性非催化還原的裝置(7)，其特征在于，所述冷卻系統(tǒng)包括至少通道(15，15&，1513)，以冷卻噴管壁(16)和所述軟管(9)之間的介質(zhì)。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于選擇性非催化還原的裝置(7)，其特征在于，所述噴管(8)設(shè)有噴管定位系統(tǒng)，以調(diào)整所述軟管(9)在所述內(nèi)部空間(3)內(nèi)的位置。14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于選擇性非催化還原的裝置(7)，其特征在于，所述噴管定位系統(tǒng)布置成調(diào)整所述噴管(8)在其縱向軸線(25)上的位置。15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于選擇性非催化還原的裝置(7)，其特征在于，所述裝置進一步包括用于調(diào)節(jié)所述噴管(8)的側(cè)向位置的側(cè)向驅(qū)動機構(gòu)。
【文檔編號】F23J15/00GK106029208SQ201680000360
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年1月12日
【發(fā)明人】S.克魯伊格, J.克魯伊格, O.戈爾克
【申請人】通用電器技術(shù)有限公司