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可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜的制作方法

文檔序號:12915111閱讀:433來源:國知局
可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及精細(xì)化工領(lǐng)域,尤其是一種可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜。



背景技術(shù):

六甲基二硅氮烷在制備過程中需涉及有氨水/氨氣的添加工序,氨水/氨氣在添加過程中的速度與精度則直接影響六甲基二硅氮烷的整體反應(yīng)精度;現(xiàn)有的氨水/氨氣在進(jìn)行添加過程中其往往采用直接注入的方式,其無法針對反應(yīng)釜內(nèi)的實(shí)際反應(yīng)狀態(tài)進(jìn)行調(diào)整,進(jìn)而使得六甲基二硅氮烷的制備精度難以得到保障。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜,其可在六甲基二硅氮烷制備過程中通過控制物料添加的流量以及速度進(jìn)而使其反應(yīng)精度得以改善。

為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型涉及一種可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜,其包括反應(yīng)釜釜體;所述反應(yīng)釜釜體之中設(shè)置有輔助入料管道,其延伸至反應(yīng)釜釜體內(nèi)部,輔助入料管道內(nèi)部設(shè)置有入料端體,入料端體之上設(shè)置有入料槽,其在入料端體的上端面以及下端面之間進(jìn)行延伸;所述入料端體的下側(cè)設(shè)置有調(diào)節(jié)端板,調(diào)節(jié)端板的上端面貼合于入料端體的下端面進(jìn)行延伸,調(diào)節(jié)端板通過設(shè)置于入料端體軸線位置的步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng),調(diào)節(jié)端板在輔助入料管道徑向上的面積大于入料端體之中入料槽的面積。

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述入料端體之中,入料槽采用半圓形結(jié)構(gòu),其可使得入料槽的可調(diào)范圍以及其下料效率得以保障。

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述入料端體上端面的高度經(jīng)由其與輔助入料管道的連接邊部朝向入料槽的邊部逐漸降低。采用上述技術(shù)方案去,其可通過入料端體上端面的傾斜設(shè)置以使得滴落在入料端體表面的物料可朝向入料槽方向自動(dòng)運(yùn)動(dòng),以在確保其入料精度的同時(shí)以避免入料端體避免發(fā)生殘留。

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述輔助入料管道之中,入料端體的上側(cè)設(shè)置有側(cè)向攪拌裝置,其包括有在輔助入料管道徑向延伸的攪拌軸,以及設(shè)置在攪拌軸之上的多個(gè)攪拌葉片,攪拌軸由設(shè)置在輔助入料管道外側(cè)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。采用上述技術(shù)方案,其可通過側(cè)向攪拌裝置的以使得物料在下料過程中使其形成朝向入料端體以及入料槽的方向運(yùn)動(dòng)的液流/氣流,以使其入料效率得以進(jìn)一步改善;與此同時(shí),上述側(cè)向攪拌裝置的設(shè)置可避免物料在輔助入料管道內(nèi)部發(fā)生堵塞,進(jìn)而使得入料速率與流量的控制僅通過入料槽的開合面積得以控制,進(jìn)而使得其控制精度得以進(jìn)一步保障。

采用上述技術(shù)方案的可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜,其可在六甲基二硅氮烷的制備過程中需涉及氨氣/氨水注入工序時(shí),使其通過輔助入料管道進(jìn)行入料處理;上述物料在進(jìn)行入料過程中,工作人員通過步進(jìn)電機(jī)驅(qū)使調(diào)節(jié)端體相對于入料端體的軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn),進(jìn)而通過調(diào)節(jié)端體與入料槽之間的交錯(cuò)角度的變化以使得入料槽的開合面積得以實(shí)時(shí)調(diào)節(jié);上述入料槽的開合面積變化可使得輔助入料管道內(nèi)部物流的下流速度以及流量得以實(shí)時(shí)控制。上述可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜可基于反應(yīng)釜內(nèi)的物料反正狀態(tài)以及反應(yīng)環(huán)境以對于相關(guān)物料的入料速度以及流量進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)節(jié),進(jìn)而使得六甲基二硅氮烷的整體制備精度得以改善。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型示意圖;

圖2為本實(shí)用新型中輔助入料管道內(nèi)部示意圖;

圖3為本實(shí)用新型中入料端體俯視圖;

附圖標(biāo)記列表:

1—反應(yīng)釜釜體、2—輔助入料管道、3—入料端體、4—入料槽、5—調(diào)節(jié)端板、6—步進(jìn)電機(jī)、7—攪拌軸、8—攪拌葉片、9—驅(qū)動(dòng)電機(jī)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式,進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型,應(yīng)理解下述具體實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。需要說明的是,下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向,詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠(yuǎn)離特定部件幾何中心的方向。

實(shí)施例1

如圖1與圖2所示的一種可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜,其包括反應(yīng)釜釜體1;所述反應(yīng)釜釜體1之中設(shè)置有輔助入料管道2,其延伸至反應(yīng)釜釜體1內(nèi)部,輔助入料管道2內(nèi)部設(shè)置有入料端體3,入料端體3之上設(shè)置有入料槽4,其在入料端體3的上端面以及下端面之間進(jìn)行延伸;所述入料端體3的下側(cè)設(shè)置有調(diào)節(jié)端板5,調(diào)節(jié)端板5的上端面貼合于入料端體3的下端面進(jìn)行延伸,調(diào)節(jié)端板5通過設(shè)置于入料端體3軸線位置的步進(jìn)電機(jī)6進(jìn)行驅(qū)動(dòng),調(diào)節(jié)端板5在輔助入料管道2徑向上的面積大于入料端體之中入料槽4的面積。

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),如圖2與圖3所示,所述入料端體3之中,入料槽4采用半圓形結(jié)構(gòu),其可使得入料槽的可調(diào)范圍以及其下料效率得以保障。

采用上述技術(shù)方案的可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜,其可在六甲基二硅氮烷的制備過程中需涉及氨氣/氨水注入工序時(shí),使其通過輔助入料管道進(jìn)行入料處理;上述物料在進(jìn)行入料過程中,工作人員通過步進(jìn)電機(jī)驅(qū)使調(diào)節(jié)端體相對于入料端體的軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn),進(jìn)而通過調(diào)節(jié)端體與入料槽之間的交錯(cuò)角度的變化以使得入料槽的開合面積得以實(shí)時(shí)調(diào)節(jié);上述入料槽的開合面積變化可使得輔助入料管道內(nèi)部物流的下流速度以及流量得以實(shí)時(shí)控制。上述可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制備用反應(yīng)釜可基于反應(yīng)釜內(nèi)的物料反正狀態(tài)以及反應(yīng)環(huán)境以對于相關(guān)物料的入料速度以及流量進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)節(jié),進(jìn)而使得六甲基二硅氮烷的整體制備精度得以改善。

實(shí)施例2

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述入料端體3上端面的高度經(jīng)由其與輔助入料管道2的連接邊部朝向入料槽4的邊部逐漸降低。采用上述技術(shù)方案去,其可通過入料端體上端面的傾斜設(shè)置以使得滴落在入料端體表面的物料可朝向入料槽方向自動(dòng)運(yùn)動(dòng),以在確保其入料精度的同時(shí)以避免入料端體避免發(fā)生殘留。

本實(shí)施例其余特征與優(yōu)點(diǎn)均與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例3

作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn),所述輔助入料管道2之中,入料端體3的上側(cè)設(shè)置有側(cè)向攪拌裝置,其包括有在輔助入料管道2徑向延伸的攪拌軸7,以及設(shè)置在攪拌軸7之上的多個(gè)攪拌葉片8,攪拌軸7由設(shè)置在輔助入料管道2外側(cè)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)9進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。采用上述技術(shù)方案,其可通過側(cè)向攪拌裝置的以使得物料在下料過程中使其形成朝向入料端體以及入料槽的方向運(yùn)動(dòng)的液流/氣流,以使其入料效率得以進(jìn)一步改善;與此同時(shí),上述側(cè)向攪拌裝置的設(shè)置可避免物料在輔助入料管道內(nèi)部發(fā)生堵塞,進(jìn)而使得入料速率與流量的控制僅通過入料槽的開合面積得以控制,進(jìn)而使得其控制精度得以進(jìn)一步保障。

本實(shí)施例其余特征與優(yōu)點(diǎn)均與實(shí)施例2相同。

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