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一種瓷磚色差檢測系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:12915110閱讀:393來源:國知局
一種瓷磚色差檢測系統(tǒng)的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及陶瓷裝備制造領域,尤其涉及一種瓷磚色差檢測系統(tǒng)。



背景技術:

隨著人們生活水平的提高,人民對家居裝修也愈發(fā)精益求精。瓷磚,作為家居裝修一個不可或缺的裝修素材,也隨著人們的要求而不斷變化,例如,瓷磚的顏色、花紋、圖案越來越多,瓷磚表面的成色也越來越復雜。

目前,瓷磚的分揀是靠人工根據(jù)色差來進行的,但由于人長時間勞動,會產生的眼部疲勞,很容易發(fā)生錯判和誤判,從而大大減低了生產效率。為了解決這難題,越來越多的瓷磚生產商選擇用機器代替人工分揀,而瓷磚分揀系統(tǒng)由此誕生。

黑箱,作為瓷磚分揀系統(tǒng)的一個重要部分,在系統(tǒng)中擔任采集瓷磚圖像的重任。如果黑箱漏光或有灰塵,將會增加圖像的干擾因素,從而影響圖像的識別,所以,一個基于瓷磚圖像采集的黑箱在瓷磚分揀系統(tǒng)中有著至關重要的作用。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術問題在于,提供一種結構簡單的瓷磚色差檢測系統(tǒng),可減少干擾因素,增加瓷磚采集圖像的穩(wěn)定性與一致性,降低瓷磚分揀錯判率和誤判率。

為了解決上述技術問題,本發(fā)明提供了一種瓷磚色差檢測系統(tǒng),包括第一黑箱本體、第二黑箱本體、第一拍攝光源、第二拍攝光源、第一攝像機、第二攝像機及用于傳送瓷磚的傳送帶;所述第一黑箱本體及第二黑箱本體的內壁均涂覆有防透光涂層,所述第一黑箱本體的側壁上開設有相向設置的第一入口及第一出口,所述第二黑箱本體的側壁上開設有相向設置的第二入口及第二出口;所述第一拍攝光源設置于第一黑箱本體的內側壁上,所述第二拍攝光源設置于第二黑箱本體的內側壁上;所述第一攝像機設置于第一黑箱本體的內頂壁上,并用于對瓷磚進行色差檢測,所述第二攝像機設置于第二黑箱本體的內頂壁上,并用于對瓷磚進行缺陷檢測;所述傳送帶設于第一黑箱本體及第二黑箱本體的下方且依次沿第一瓷磚入口、第一瓷磚出口、第二入口及第二出口貫穿第一黑箱本體及第二黑箱本體。

作為上述方案的改進,所述第一拍攝光源包括四個led熒光燈,所述led熒光燈等距設置于第一黑箱本體的內側壁上。

作為上述方案的改進,所述第二拍攝光源為led聚光燈,所述led聚光燈設置于第二黑箱本體的左側內壁上,所述led聚光燈所發(fā)射的光線與傳送帶呈45°夾角。

作為上述方案的改進,所述led熒光燈及l(fā)ed聚光燈由直流電源供電。

作為上述方案的改進,所述第一黑箱本體與第二黑箱本體之間設置有密閉通道,所述密閉通道的一端與第一出口相連通,另一端與第二入口相連通。

作為上述方案的改進,所述瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括與所述第一入口相連通的瓷磚入口通道。

作為上述方案的改進,所述瓷磚入口通道的上方設有風刀,所述風刀用于對進入第一黑箱本體及第二黑箱本體的瓷磚進行除塵處理。

作為上述方案的改進,所述瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括與所述第二出口相連通的瓷磚出口通道。

作為上述方案的改進,所述瓷磚出口通道內設有工業(yè)毛刷,所述工業(yè)毛刷用于清潔瓷磚并防止灰塵進入第一黑箱本體及第二黑箱本體。

作為上述方案的改進,所述瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括瓷磚導正裝置,所述瓷磚導正裝置包括用于夾正瓷磚的導正模塊及用于對正瓷磚的對齊模塊;所述導正模塊包括兩排滾輪及用于驅動所述滾輪滾動的氣閥傳動裝置;所述對齊模塊包括兩個同軸連接的可調控金屬擋板條及用于驅動所述可調控金屬擋板條轉動的傳動軸。

實施本發(fā)明的有益效果在于:

本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)通過將第一黑箱本體、第二黑箱本體、第一拍攝光源、第二拍攝光源、第一攝像機及第二攝像機相結合。工作時,將瓷磚放置與傳送帶上并隨傳送帶運動;瓷磚隨傳送帶傳送至第一黑箱本體內部,在第一拍攝光源的作用下,第一攝像機對瓷磚進行圖像采集,實現(xiàn)瓷磚色差的檢測;然后,瓷磚隨傳送帶傳送至第二黑箱本體內部,在第二拍攝光源的作用下,第二攝像機對瓷磚進行圖像采集,實現(xiàn)瓷磚缺陷的檢測。因此,通過本發(fā)明可有效地減少干擾因素,增加瓷磚采集圖像的穩(wěn)定性與一致性,使瓷磚分揀錯判和誤判的概率降低,增加了瓷磚分揀的可靠性,從而極大地提高了瓷磚的生產效率。

相應地,本發(fā)明中分別引入了密閉通道、瓷磚入口通道及瓷磚出口通道,可防止外界光線進入第一黑箱本體及第二黑箱本體,有效地減少了外界的干擾因素,防止漏光,保證瓷磚采集圖像的穩(wěn)定性與一致性。同時,本發(fā)明還引入了風刀、工業(yè)毛刷等設備,實現(xiàn)防塵、除塵的效果;另外,本發(fā)明中還引入了瓷磚導正裝置,可有效保證瓷磚能整齊地排列于傳送帶上。

附圖說明

圖1是本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)的第一實施例結構示意圖;

圖2是本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)的第二實施例結構示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結合附圖對本發(fā)明作進一步地詳細描述。僅此聲明,本發(fā)明在文中出現(xiàn)或即將出現(xiàn)的上、下、左、右、前、后、內、外等方位用詞,僅以本發(fā)明的附圖為基準,其并不是對本發(fā)明的具體限定。

參見圖1,圖1顯示了本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)的第一實施例,其包括第一黑箱本體1、第二黑箱本體2、第一拍攝光源3、第二拍攝光源4、第一攝像機5、第二攝像機6及用于傳送瓷磚的傳送帶7。

所述第一黑箱本體1及第二黑箱本體2的內壁均涂覆有防透光涂層,所述防透光涂層優(yōu)選為黑色涂層,可有效防止第一黑箱本體1及第二黑箱本體2透光、漏光;所述第一黑箱本體1的側壁上開設有相向設置的第一入口及第一出口,所述第二黑箱本體2的側壁上開設有相向設置的第二入口及第二出口;進一步,所述第一黑箱本體1及第二黑箱本體2為矩形結構,可方便光源對稱設置,減少光源死角。

所述第一拍攝光源3設置于第一黑箱本體1的內側壁上,所述第二拍攝光源4設置于第二黑箱本體2的內側壁上。

所述第一攝像機5設置于第一黑箱本體1的內頂壁中部,所述第二攝像機6設置于第二黑箱本體2的內頂壁中部,所述第一攝像機5及第二攝像機6分別用于瓷磚的圖像采集。

所述傳送帶7設于第一黑箱本體1及第二黑箱本體2的下方且依次沿第一瓷磚入口、第一瓷磚出口、第二入口及第二出口貫穿第一黑箱本體1及第二黑箱本體2。

工作時,將瓷磚放置與傳送帶7上并隨傳送帶7運動;瓷磚隨傳送帶7傳送至第一黑箱本體1內部,在第一拍攝光源3的作用下,第一攝像機5對瓷磚進行圖像采集,實現(xiàn)瓷磚色差的檢測;然后,瓷磚隨傳送帶7傳送至第二黑箱本體2內部,在第二拍攝光源4的作用下,第二攝像機6對瓷磚進行圖像采集,實現(xiàn)瓷磚缺陷的檢測。因此,本發(fā)明通過將第一黑箱本體1、第二黑箱本體2、第一拍攝光源3、第二拍攝光源4、第一攝像機5及第二攝像機6相結合,有效地減少干擾因素,增加瓷磚采集圖像的穩(wěn)定性與一致性,使瓷磚分揀錯判和誤判的概率降低。

為了進一步保證瓷磚圖像的準確性,所述第一拍攝光源3包括四個led熒光燈,所述led熒光燈等距設置于第一黑箱本體1的內側壁上,具體地,所述led熒光燈分別設置于第一黑箱本體1各內側壁的中心位置;同時,所述led熒光燈優(yōu)選由直流電源供電,構成無閃爍光源。另外,所述第二拍攝光源4為led聚光燈,所述led聚光燈設置于第二黑箱本體2的左側內壁上,所述led聚光燈所發(fā)射的光線與傳送帶7呈45°夾角;同時,所述led聚光燈由直流電源供電,構成無閃爍光源。

參見圖2,圖2顯示了本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)的第二實施例,與第一實施例不同的是,本實施例中,所述第一黑箱本體1與第二黑箱本體2之間設置有密閉通道8,所述密閉通道8的一端與第一出口相連通,另一端與第二入口相連通;所述瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括與所述第一入口相連通的瓷磚入口通道9;所述瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括與所述第二出口相連通的瓷磚出口通道10。所述傳送帶7依次穿過瓷磚入口通道9、第一黑箱本體1、密閉通道8、第二黑箱本體2及瓷磚出口通道10,實現(xiàn)瓷磚的有序輸送。

需要說明是,本發(fā)明中分別引入了密閉通道8、瓷磚入口通道9及瓷磚出口通道10,可防止外界光線進入第一黑箱本體1及第二黑箱本體2,有效地減少了外界的干擾因素,防止漏光,保證瓷磚采集圖像的穩(wěn)定性與一致性。

為了方便通道的清潔,所述密閉通道8、瓷磚入口通道9及瓷磚出口通道10為可拆卸結構,具體地,所述密閉通道8、瓷磚入口通道9及瓷磚出口通道10的上部可打開。

進一步,所述瓷磚入口通道9的上方設有風刀11,所述風刀11用于對進入第一黑箱本體1及第二黑箱本體2的瓷磚進行吹風處理,以達到除塵的目的。

另外,所述瓷磚出口通道10內還設有工業(yè)毛刷12,所述工業(yè)毛刷12用于清潔瓷磚并防止灰塵進入第一黑箱本體1及第二黑箱本體2。優(yōu)選地,所述工業(yè)毛刷12設置于瓷磚出口通道10內部的中間位置。

為了保證瓷磚能整齊地排列于傳送帶7上,本發(fā)明瓷磚色差檢測系統(tǒng)還包括瓷磚導正裝置13,所述瓷磚導正裝置13包括用于夾正瓷磚的導正模塊及用于對正瓷磚的對齊模塊;其中,所述導正模塊包括兩排滾輪及用于驅動所述滾輪滾動的氣閥傳動裝置;所述對齊模塊包括兩個同軸連接的可調控金屬擋板條及用于驅動所述可調控金屬擋板條轉動的傳動軸。導正時,導正模塊的氣閥傳動裝置打開,兩排滾輪往中間移動,對瓷磚進行夾正;對齊時,對齊模塊傳動軸轉動,可調控金屬擋板條往下轉動,使瓷磚對正。

工作時,瓷磚首先通過瓷磚導正裝置13進行導正、對齊處理;瓷磚隨傳送帶7移動,經(jīng)過瓷磚入口通道9的入口處由風刀11進行除塵處理;隨后,瓷磚從瓷磚入口通道9進入第一黑箱本體1內部,并由第一攝像機5進行圖像采集;接著,瓷磚離開第一黑箱本體1,沿密閉通道8進入第二黑箱本體2,并由第二攝像機6進行圖像采集;最后,瓷磚進入瓷磚出口通道10并由毛刷清洗后,從瓷磚出口通道10離開,處理流程結束。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應當指出,對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也視為本發(fā)明的保護范圍。

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