本實(shí)用新型屬于研磨設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)。

背景技術(shù)：

隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，生活壓力越來越大，人們的生活節(jié)奏也越來越快，人們也越來越缺乏時(shí)間去烹飪一頓富含營養(yǎng)的早餐，于是，人們通過去早市購買早點(diǎn)或者去超市夠買一些泡沖喝的代餐粉來解決一頓早飯。

為了適應(yīng)現(xiàn)代生活的需求，越來越多的營養(yǎng)粉生產(chǎn)廠家提供了各種各樣的代餐粉，從最初的豆奶粉、黑芝麻糊再到現(xiàn)在的五谷雜糧粉、紅豆薏米粥等等符合現(xiàn)有人們需要的代餐粉不斷出現(xiàn)，使人們在方便之余，也能滿足人體所需的各種元素。

現(xiàn)有的代餐粉的好壞主要體現(xiàn)在兩個(gè)方便，一個(gè)是代餐粉的營養(yǎng)價(jià)值，另一個(gè)便是代餐粉的研磨程度，是否能夠滿足在開水沖燙后，無任何殘?jiān)?，使人們在飲用時(shí)，不會(huì)出現(xiàn)磨喉嚨的感覺，因此，這也對現(xiàn)有的研磨機(jī)器提出了更高的要求，然而，現(xiàn)有的研磨機(jī)在研磨時(shí)，其研磨效果往往無法達(dá)到要求，因此，迫切需要一塊研磨效果好、研磨顆粒小的研磨機(jī)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型針對上述的研磨機(jī)的研磨效果有限的技術(shù)問題，提出一種設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉且研磨效果好、研磨顆粒小的營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為，本實(shí)用新型提供一種營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)，包括機(jī)座以及設(shè)置在機(jī)座上方的進(jìn)料杯，所述進(jìn)料杯內(nèi)設(shè)置有進(jìn)料斗，所述進(jìn)料斗的底部設(shè)置有研磨組件，所述研磨組件包括上下相對設(shè)置的上研磨盤和下研磨盤，所述上研磨盤包括上研磨盤本體以及設(shè)置在上研磨盤本體中心位置處的固定軸，所述上研磨盤本體包括固定不動(dòng)的固定磨盤以及與轉(zhuǎn)軸連接的動(dòng)磨盤，所述固定磨盤與動(dòng)磨盤之間呈環(huán)狀交叉設(shè)置，所述機(jī)座上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)上研磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過驅(qū)動(dòng)套裝在固定軸上的轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)動(dòng)磨盤的驅(qū)動(dòng)。

作為優(yōu)選，所述下研磨盤包括下研磨盤本體以及設(shè)置在下研磨盤本體中心位置處的下磨盤轉(zhuǎn)軸，所述下研磨本體上設(shè)置有下動(dòng)磨盤，所述下動(dòng)磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在下研磨盤本體。

作為優(yōu)選，所述下磨盤本體上設(shè)置有用于放置下動(dòng)磨盤的凹槽，所述凹槽內(nèi)填充有轉(zhuǎn)珠。

作為優(yōu)選，所述固定磨盤與下動(dòng)磨盤相對設(shè)置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和積極效果在于，

1、本實(shí)用新型通過提供一種營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)，利用相對設(shè)置的上下磨盤進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了五谷雜糧的精細(xì)化研磨，確保研磨后的代餐粉研磨程度好，研磨顆粒小，使人們在飲用時(shí)不會(huì)感覺有磨喉嚨的情況出現(xiàn)，同時(shí)，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，適合大規(guī)模推廣使用。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為實(shí)施例1提供的營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為實(shí)施例1提供的上研磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為實(shí)施例1提供的下研磨盤的爆炸圖；

以上各圖中，1、機(jī)座；2、進(jìn)料杯；3、進(jìn)料斗；4、上研磨盤；41、上研磨盤本體；42、固定軸；43、驅(qū)動(dòng)電機(jī)；44、固定磨盤；45、動(dòng)磨盤；46、轉(zhuǎn)軸；5、下磨盤本體；51、凹槽；52、轉(zhuǎn)珠；53、下動(dòng)磨盤；6、下磨盤轉(zhuǎn)軸；7、電機(jī)。

具體實(shí)施方式

為了能夠更清楚地理解本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是，本實(shí)用新型還可以采用不同于在此描述的其他方式來實(shí)施，因此，本實(shí)用新型并不限于下面公開說明書的具體實(shí)施例的限制。

實(shí)施例1，如圖1、圖2、圖3所示，本實(shí)施例提供一種營養(yǎng)代餐粉用研磨機(jī)，包括機(jī)座1以及設(shè)置在機(jī)座1上方的進(jìn)料杯2，在進(jìn)料杯2內(nèi)設(shè)置有進(jìn)料斗3，在本實(shí)施例中，機(jī)座1和進(jìn)料杯2、進(jìn)料斗3的結(jié)構(gòu)和現(xiàn)在常用的結(jié)構(gòu)基本一致，本實(shí)施例中，重點(diǎn)改進(jìn)的地方在于在進(jìn)料斗3的底部設(shè)置有研磨組件，本實(shí)施例所提供的研磨組件包括上下相對設(shè)置的上研磨盤4和下研磨盤，其中，上研磨盤4包括上研磨盤本體41以及設(shè)置在上研磨盤本體中心位置處的固定軸42，具體的說，上研磨盤本體41包括固定不動(dòng)的固定磨盤44以及與轉(zhuǎn)軸連接的動(dòng)磨盤45，固定磨盤44與動(dòng)磨盤45之間呈環(huán)狀交叉設(shè)置，在本實(shí)施例中，上研磨盤本體41由固定磨盤44、動(dòng)磨盤45和固定磨盤44組成，其中最外層的固定磨盤44設(shè)置在通過固定桿(圖中未標(biāo)注)固定在進(jìn)料杯2上，具體的說，固定桿貫穿進(jìn)料斗3固定在進(jìn)料杯2上，最里面的固定磨盤44通過上研磨盤本體中心位置處的固定軸42固定與進(jìn)料杯2連接，在固定軸42上套裝有轉(zhuǎn)軸46，在轉(zhuǎn)軸43上套裝有齒輪(圖中未標(biāo)注)，在齒輪外設(shè)置有配合設(shè)置有固定架(圖中未標(biāo)注)，固定架(圖中未標(biāo)注)與動(dòng)磨盤45連接，機(jī)座1上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)上研磨盤4轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)43，具體的說，驅(qū)動(dòng)電機(jī)43的動(dòng)力端與齒輪連接，為了保證穩(wěn)定，在本實(shí)施例中，動(dòng)磨盤45的側(cè)壁與固定磨盤44的側(cè)壁之間采用凹凸結(jié)構(gòu)設(shè)置，即在固定磨盤44的側(cè)壁上設(shè)置凹槽，在動(dòng)磨盤45的側(cè)壁上設(shè)置凸起，這樣的設(shè)計(jì)保證穩(wěn)定。

本實(shí)施例所提供的下研磨盤包括下研磨盤本體5以及設(shè)置在下研磨盤本體5中心位置處的下磨盤轉(zhuǎn)軸6，在下研磨本體5上設(shè)置有下動(dòng)磨盤53，其中，下動(dòng)磨盤53轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在下研磨盤本體5，具體的說，下磨盤本體5上設(shè)置有用于放置下動(dòng)磨盤53的凹槽51，在凹槽51內(nèi)填充有轉(zhuǎn)珠52，通過凹槽51和轉(zhuǎn)珠52的設(shè)置，即可實(shí)現(xiàn)下動(dòng)磨盤53的轉(zhuǎn)動(dòng)。

在本實(shí)施例中，為了達(dá)到高研磨效果的，固定磨盤44與下動(dòng)磨盤53相對設(shè)置，在下研磨盤的底部設(shè)置有下磨盤轉(zhuǎn)軸6，下磨盤轉(zhuǎn)軸6跟電機(jī)的7動(dòng)力端連接，電機(jī)7固定在機(jī)座1上。

在具體使用時(shí)，下研磨盤和上研磨盤4的轉(zhuǎn)動(dòng)方向?yàn)槟嫦蜣D(zhuǎn)動(dòng)，這樣的轉(zhuǎn)動(dòng)，有利于提高研磨效果。

以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非是對本實(shí)用新型作其它形式的限制，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例應(yīng)用于其它領(lǐng)域，但是凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與改型，仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍。