本實(shí)用新型涉及一種高溫反應(yīng)裝置,更具體地,涉及一種用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置。
背景技術(shù):
三氧代環(huán)丁烷基羧酸是一種重要的醫(yī)藥中間體,可以應(yīng)用于多種原料藥的合成,比如在凝血酶抑制劑、激酶抑制劑及很多抗腫瘤藥物中都得到應(yīng)用。三氧代環(huán)丁烷基羧酸的生產(chǎn),需要維持在一個(gè)較高的溫度下進(jìn)行。一般的高溫反應(yīng)裝置,加溫過(guò)程慢,且反應(yīng)裝置內(nèi)各個(gè)位置的溫度不均勻,靠近加熱源的位置溫度相對(duì)較高,遠(yuǎn)離加熱源的位置,溫度相對(duì)較低,不利于三氧代環(huán)丁烷基羧酸的生產(chǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
基于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸中存在的問(wèn)題,本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置。
本實(shí)用新型的目的主要通過(guò)以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。
一種用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置,其包括:高溫反應(yīng)罐、物料進(jìn)口、攪動(dòng)電機(jī)、攪動(dòng)軸、攪動(dòng)葉片、加熱管熱源進(jìn)口、加熱管、加熱管熱源出口、內(nèi)壁熱源進(jìn)口、內(nèi)壁熱源出口、成品出口和支架,所述高溫反應(yīng)罐上部為圓柱形,下部為圓弧面,整體為雙層結(jié)構(gòu),最外層填充有隔熱材質(zhì),內(nèi)層填充有加熱介質(zhì),用于對(duì)高溫反應(yīng)罐靠近內(nèi)壁位置的物料進(jìn)行加熱,所述物料進(jìn)口安裝在高溫反應(yīng)罐的上端面上,用于向高溫反應(yīng)罐中加入生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的物料,所述攪動(dòng)電機(jī)安裝在高溫反應(yīng)罐的上端面中間位置,其下部安裝有攪動(dòng)軸,并在攪動(dòng)軸的最下端安裝有一組攪動(dòng)葉片,所述加熱管熱源進(jìn)口和加熱管熱源出口分別位于高溫反應(yīng)罐圓柱形結(jié)構(gòu)的下部側(cè)面和上部側(cè)面,并通過(guò)多層布置在高溫反應(yīng)罐內(nèi)部的加熱管相連,用于對(duì)高溫反應(yīng)罐靠近中心的物料進(jìn)行加熱,所述內(nèi)壁熱源進(jìn)口和內(nèi)壁熱源出口分別位于高溫反應(yīng)罐圓柱形結(jié)構(gòu)的下部側(cè)面和上部側(cè)面,并分別和加熱管熱源進(jìn)口及加熱管熱源出口相向布置,用于向高溫反應(yīng)罐的內(nèi)層輸送加熱介質(zhì),所述成品出口位于高溫反應(yīng)罐的底部圓弧面中間位置,用于對(duì)生產(chǎn)的三氧代環(huán)丁烷基羧酸進(jìn)行收集,所述支架多個(gè)均勻安裝在高溫反應(yīng)罐的底部,用于對(duì)高溫反應(yīng)罐進(jìn)行支撐。
優(yōu)選地,所述高溫反應(yīng)罐上安裝有壓力檢測(cè)裝置和溫度檢測(cè)裝置。
優(yōu)選地,所述攪動(dòng)葉片轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),推力方向向上,并位于最下側(cè)加熱管的下端。
優(yōu)選地,所述加熱管靠近高溫反應(yīng)罐內(nèi)壁的豎管通過(guò)筋板安裝在高溫反應(yīng)罐的內(nèi)壁上,其橫向管在通過(guò)攪動(dòng)軸時(shí)采用環(huán)形的結(jié)構(gòu)繞過(guò)。
優(yōu)選地,所述內(nèi)壁熱源進(jìn)口的位置低于加熱管熱源進(jìn)口位置,內(nèi)壁熱源出口位置高于加熱管熱源出口位置,且熱源介質(zhì)全部為熱油,保證高溫反應(yīng)罐內(nèi)各處的溫度達(dá)到170度。
優(yōu)選地,所述物料進(jìn)口、加熱管熱源進(jìn)口、加熱管熱源出口、內(nèi)壁熱源進(jìn)口、內(nèi)壁熱源出口和成品出口上安裝有閥門。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的一種用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置的有益效果在于:
通過(guò)所述用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)組成,能夠同時(shí)在高溫反應(yīng)罐的內(nèi)壁和中間位置安裝加熱源,大大減小了加熱時(shí)間,使高溫反應(yīng)罐內(nèi)各個(gè)位置溫度一致,并能夠很好的保持,保證了三氧代環(huán)丁烷基羧酸的生產(chǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1是依照本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成的用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:
1-高溫反應(yīng)罐;2-物料進(jìn)口;3-攪動(dòng)電機(jī);4-攪動(dòng)軸;5-攪動(dòng)葉片;6-加熱管熱源進(jìn)口;7-加熱管;8-加熱管熱源出口;9-內(nèi)壁熱源進(jìn)口;10-內(nèi)壁熱源出口;11-成品出口;12-支架。
具體實(shí)施方式
在下文中,將參考附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)地描述,依照這些詳細(xì)的描述,所屬領(lǐng)域技術(shù)人員能夠清楚地理解本實(shí)用新型,并能夠?qū)嵤┍緦?shí)用新型。在不違背本實(shí)用新型原理的情況下,各個(gè)不同的實(shí)施例中的特征可以進(jìn)行組合以獲得新的實(shí)施方式,或者替代某些實(shí)施例中的某些特征,獲得其它優(yōu)選的實(shí)施方式。
實(shí)施例1:圖1示出了依照本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)成的一種用于生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的高溫反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。其由多個(gè)部分組成。所述高溫反應(yīng)裝置包括:高溫反應(yīng)罐1、物料進(jìn)口2、攪動(dòng)電機(jī)3、攪動(dòng)軸4、攪動(dòng)葉片5、加熱管熱源進(jìn)口6、加熱管7、加熱管熱源出口8、內(nèi)壁熱源進(jìn)口9、內(nèi)壁熱源出口10、成品出口11和支架12,所述高溫反應(yīng)罐1上部為圓柱形,下部為圓弧面,整體為雙層結(jié)構(gòu),不銹鋼材質(zhì),最外層填充有硅酸鹽作為隔熱材質(zhì),內(nèi)層填充有加熱介質(zhì),用于對(duì)高溫反應(yīng)罐1靠近內(nèi)壁位置的物料進(jìn)行加熱,并在高溫反應(yīng)罐1上安裝有壓力檢測(cè)裝置和溫度檢測(cè)裝置,所述物料進(jìn)口2焊接安裝在高溫反應(yīng)罐1的上端面上,用于向高溫反應(yīng)罐1中加入生產(chǎn)三氧代環(huán)丁烷基羧酸的物料,所述攪動(dòng)電機(jī)3密封螺接安裝在高溫反應(yīng)罐1的上端面中間位置,其下部安裝有攪動(dòng)軸4,并在攪動(dòng)軸4的最下端焊接安裝有一組至少兩片的攪動(dòng)葉片5,且攪動(dòng)葉片5轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),推力方向向上,并位于最下側(cè)加熱管7的下端,所述加熱管熱源進(jìn)口6和加熱管熱源出口8分別位于高溫反應(yīng)罐1圓柱形結(jié)構(gòu)的下部側(cè)面和上部側(cè)面,并通過(guò)多層布置在高溫反應(yīng)罐1內(nèi)部的加熱管7相連,用于對(duì)高溫反應(yīng)罐1靠近中心的物料進(jìn)行加熱,且加熱管7靠近高溫反應(yīng)罐1內(nèi)壁的豎管通過(guò)筋板焊接安裝在高溫反應(yīng)罐1的內(nèi)壁上,用于對(duì)其安裝強(qiáng)度進(jìn)行加強(qiáng),其橫向管在通過(guò)攪動(dòng)軸4時(shí)采用環(huán)形的結(jié)構(gòu)繞過(guò),所述內(nèi)壁熱源進(jìn)口9和內(nèi)壁熱源出口10分別位于高溫反應(yīng)罐1圓柱形結(jié)構(gòu)的下部側(cè)面和上部側(cè)面,并分別和加熱管熱源進(jìn)口6及加熱管熱源出口8相向布置,用于向高溫反應(yīng)罐1的內(nèi)層輸送加熱介質(zhì),其中,內(nèi)壁熱源進(jìn)口9的位置低于加熱管熱源進(jìn)口6位置,內(nèi)壁熱源出口位置10高于加熱管熱源出口8位置,且熱源介質(zhì)全部為熱油,保證高溫反應(yīng)罐1內(nèi)各處的溫度達(dá)到170度,所述成品出口11位于高溫反應(yīng)罐1的底部圓弧面中間位置,用于對(duì)生產(chǎn)的三氧代環(huán)丁烷基羧酸進(jìn)行收集,且物料進(jìn)口2、加熱管熱源進(jìn)口6、加熱管熱源出口8、內(nèi)壁熱源進(jìn)口9、內(nèi)壁熱源出口10和成品出口11上全部安裝有密閉閥門,用于對(duì)各個(gè)進(jìn)口和出口進(jìn)行控制,所述支架12至少三個(gè)均勻焊接安裝在高溫反應(yīng)罐1的底部,用于對(duì)高溫反應(yīng)罐1進(jìn)行支撐。
盡管在上文中參考特定的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了描述,但是所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,在本實(shí)用新型公開的原理和范圍內(nèi),可以針對(duì)本實(shí)用新型公開的配置和細(xì)節(jié)做出許多修改。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求來(lái)確定,并且權(quán)利要求意在涵蓋權(quán)利要求中技術(shù)特征的等同物文字意義或范圍所包含的全部修改。