1.一種加氫催化劑預(yù)硫化反應(yīng)系統(tǒng)的催化劑添加裝置，其特征在于，包括暫存?zhèn)}、催化劑加料管、反應(yīng)原料加料管和真空泵；其中：
所述暫存?zhèn)}的底端設(shè)置有原料卸料管，所述原料卸料管用于連通所述暫存?zhèn)}與所述催化反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)釜，所述原料卸料管設(shè)置有第一開關(guān)閥；
所述暫存?zhèn)}的底端設(shè)置有催化劑卸料管，所述催化劑卸料管用于連通所述暫存?zhèn)}與所述反應(yīng)釜，所述催化劑卸料管設(shè)置有第二開關(guān)閥；所述催化劑卸料管的管徑大于原料卸料管的管徑；
所述催化劑加料管用于引導(dǎo)顆粒狀的催化劑；所述反應(yīng)原料加料管用于引導(dǎo)液態(tài)反應(yīng)原料；所述催化劑加料管和所述反應(yīng)原料加料管均設(shè)置在所述暫存?zhèn)}的頂端，所述反應(yīng)原料加料管上設(shè)置有第三開關(guān)閥；所述催化劑加料管上設(shè)置有第四開關(guān)閥；
所述暫存?zhèn)}的內(nèi)腔中設(shè)置有隔板以將所述內(nèi)腔分隔成第一子腔和第二子腔，所述原料卸料管連接在所述第一子腔的底端；所述催化劑卸料管連接在所述第二子腔的底端，所述催化劑加料管與所述第二子腔的頂端相對布置，所述反應(yīng)原料加料管與所述第一子腔的頂端相對布置；
所述真空泵設(shè)置所述第二子腔的頂端，用于將所述第二子腔抽真空。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的催化劑添加裝置，其特征在于，所述第二子腔的頂部設(shè)置有接料盤，所述第二子腔的內(nèi)壁自其頂端向底端的方向螺旋設(shè)置有導(dǎo)料槽，所述催化劑加料管在豎直方向的投影位于所述接料盤內(nèi)，所述接料盤與所述導(dǎo)料槽連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的催化劑添加裝置，其特征在于，所述隔板的底端開設(shè)有混合門，所述混合門的開啟用于連通所述第一子腔和所述第二子腔；所述混合門的關(guān)閉用于密封隔離所述第一子腔和所述第二子腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的催化劑添加裝置，其特征在于，還包括與所述隔板連接的驅(qū)動設(shè)備和設(shè)置在所述暫存?zhèn)}的外壁上的控制開關(guān)，所述控制開關(guān)與所述驅(qū)動設(shè)備電氣連接以控制所述驅(qū)動設(shè)備驅(qū)動所述混合門的啟閉。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的催化劑添加裝置，其特征在于，還包括防磨損機構(gòu)，所述防磨損機構(gòu)設(shè)置在所述催化劑加料管的落料碰損區(qū)；所述防磨損機構(gòu)包括托架及可拆卸地設(shè)置在所述托架上的耐磨板，所述耐磨板與所述落料碰損區(qū)相對布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的催化劑添加裝置，其特征在于，所述托架固定在所述催化劑加料管的落料碰損區(qū)的外側(cè)，且與之形成插槽；所述耐磨板插接在所述插槽中。
7.一種加氫催化劑的預(yù)硫化反應(yīng)系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6中任一所述的催化劑添加裝置。