技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及一種涂布裝置，其包括涂布機(jī)構(gòu)，在涂布機(jī)構(gòu)與一承載所述涂布裝置的基底之間設(shè)有緩沖機(jī)構(gòu)，所述緩沖機(jī)構(gòu)包括至少兩個交替堆疊的減振材料層，這樣的設(shè)置能抵消涂布機(jī)構(gòu)振動，避免造成待涂布薄膜偏離涂布中心，造成起褶、紋路、厚度不均等問題，因而能提高涂布裝置精度及涂布質(zhì)量。本實(shí)用新型還涉及采用此涂布裝置的反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備。

技術(shù)研發(fā)人員：呂偉泰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市浩能科技有限公司
文檔號碼：201620667867
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.29
技術(shù)公布日：2017.01.25