本實(shí)用新型涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種硅片清洗裝置。

背景技術(shù)：

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，硅片的應(yīng)用越來越廣，在各種領(lǐng)域中都得到了應(yīng)用，半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗，微量污染也會導(dǎo)致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物，這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面，有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維，無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷。

清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種，硅片清洗時需要用到清洗裝置，但是現(xiàn)有技術(shù)中的清洗裝置普遍存在以下幾點(diǎn)缺陷：1、清洗效率低下，無法將硅片的清洗過程生產(chǎn)線化，通常都是將硅片一起直接放置在清洗裝置內(nèi)，同一洗好后取出，然后再放置下一批硅片，十分浪費(fèi)時間；2、待硅片清洗取出后還要對硅片進(jìn)行甩干，先清洗后甩開的方式操作起來比較浪費(fèi)人力和時間。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種硅片清洗裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。所述的硅片清洗裝置具有可以同時實(shí)現(xiàn)清洗和烘干兩個功能，不需要分步進(jìn)行，非常節(jié)約時間，而且多個凹槽的設(shè)置，使得硅片的清洗和烘干過程生產(chǎn)線化，每個硅片插設(shè)進(jìn)入凹槽后，隨著環(huán)形板旋轉(zhuǎn)一周，可以完成兩次清洗和烘干，清洗效果更好，旋轉(zhuǎn)一周后將硅片取出，直接放置下一塊硅片進(jìn)行清洗，省時省力，而且可以同時進(jìn)行多個硅片的清洗工作，十分方便，非常值得推廣的特點(diǎn)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

一種硅片清洗裝置，包括基板、中心柱、環(huán)形板、凹槽、噴嘴以及出氣管，所述中心柱轉(zhuǎn)動插設(shè)于基板中，所述中心柱遠(yuǎn)離基板一端固定有大齒輪，所述中心柱一側(cè)設(shè)置有電動機(jī)，所述電動機(jī)的電機(jī)主軸上固定有小齒輪，所述小齒輪與大齒輪嚙合聯(lián)動；

所述中心柱在基板和大齒輪之間固定有連接桿，所述連接桿遠(yuǎn)離中心柱一端固定連接于環(huán)形板的內(nèi)側(cè)壁上，所述環(huán)形板中開設(shè)有若干凹槽，所述凹槽中設(shè)置有若干夾片板，每塊所述夾片板均通過彈簧與凹槽內(nèi)側(cè)壁相連接，所述環(huán)形板在每個所述凹槽下方均開設(shè)有漏液孔；

所述環(huán)形板下方還設(shè)置有儲液道，所述儲液道固定于基板上，所述環(huán)形板的兩側(cè)對稱設(shè)置有若干組安裝柱，所述安裝柱上安裝有噴嘴或出氣管；

所述基板上設(shè)置有水泵，所述水泵進(jìn)水口連接于儲液道上，水泵出水口連接于噴嘴上，所述基板上還設(shè)置有空氣壓縮機(jī)，所述空氣壓縮機(jī)的出氣端連接于出氣管。

優(yōu)選的，所述安裝柱設(shè)置有四組，豎直設(shè)置的兩組安裝柱上安裝噴嘴，水平設(shè)置的兩組安裝柱上安裝出氣管。

優(yōu)選的，所述凹槽開設(shè)有不少于個，且凹槽均勻分布于環(huán)形板中。

優(yōu)選的，所述夾片板設(shè)置有四塊，所述夾片板遠(yuǎn)離凹槽底壁的一端設(shè)置為傾斜面，且每兩塊相鄰的所述夾片板之間相互垂直，四塊所述夾片板之間圍成插片區(qū)。

優(yōu)選的，所述儲液道與環(huán)形板形狀相同，且儲液道的內(nèi)腔開口與漏液孔相互對應(yīng)。

優(yōu)選的，所述空氣壓縮機(jī)與出氣管之間還連接有空氣加熱器。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型通過電動機(jī)帶動環(huán)形板繞著中心柱完成轉(zhuǎn)動，環(huán)形板上開設(shè)有多個用來插設(shè)硅片的凹槽，環(huán)形板的兩側(cè)設(shè)置有多組用來安裝噴嘴和出氣管的安裝柱，噴嘴和出氣管分別用來對凹槽內(nèi)插設(shè)的待洗硅片進(jìn)行清洗和烘干，并且環(huán)形板下方設(shè)置有用來收集回收清洗液的儲液道，使得清洗液可以循環(huán)利用。

本實(shí)用新型中環(huán)形板一邊帶動凹槽進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，一邊使得凹槽內(nèi)的硅片被噴嘴清洗后被出氣管烘干，可以同時實(shí)現(xiàn)清洗和烘干兩個功能，不需要分步進(jìn)行，非常節(jié)約時間，而且多個凹槽的設(shè)置，使得硅片的清洗和烘干過程生產(chǎn)線化，每個硅片插設(shè)進(jìn)入凹槽后，隨著環(huán)形板旋轉(zhuǎn)一周，可以完成兩次清洗和烘干，清洗效果更好，旋轉(zhuǎn)一周后將硅片取出，直接放置下一塊硅片進(jìn)行清洗，省時省力，而且可以同時進(jìn)行多個硅片的清洗工作，十分方便，非常值得推廣。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)俯視示意圖；

圖2為本實(shí)用新型A-A截面的斷面圖；

圖3為本實(shí)用新型凹槽內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型B區(qū)結(jié)構(gòu)放大示意圖。

圖中：1基板、2中心柱、3大齒輪、4電動機(jī)、5小齒輪、6連接桿、7 環(huán)形板、71漏夜孔、8凹槽、81夾片板、82彈簧、9插片區(qū)、10儲液道、11 安裝柱、12噴嘴、13出氣管、14水泵、15空氣壓縮機(jī)、16空氣加熱器。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請參閱圖1-4，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：

一種硅片清洗裝置，包括基板1、中心柱2、環(huán)形板7、凹槽8、噴嘴12 以及出氣管13，中心柱2轉(zhuǎn)動插設(shè)于基板1中，使得中心柱2可以在基板1 中完成轉(zhuǎn)動，中心柱2遠(yuǎn)離基板1一端固定有大齒輪3，中心柱2一側(cè)設(shè)置有電動機(jī)4，電動機(jī)4的電機(jī)主軸上固定有小齒輪5，小齒輪5與大齒輪3嚙合聯(lián)動，使得電動機(jī)4可以帶動中心柱2一起轉(zhuǎn)動，而且大齒輪3安裝在中心柱2上，小齒輪5安裝在電動機(jī)4上，使得大齒輪3和小齒輪5的嚙合可以使得中心柱2的轉(zhuǎn)速遠(yuǎn)小于電動機(jī)4，并且可以自主調(diào)整轉(zhuǎn)速來控制清洗過程時間長短。

中心柱2在基板1和大齒輪3之間固定有連接桿6，連接桿6遠(yuǎn)離中心柱 2一端固定連接于環(huán)形板7的內(nèi)側(cè)壁上，連接桿6用來將環(huán)形板7固定于中心柱2上，連接桿6設(shè)置有四根，均勻的固定于中心柱2上，使得中心柱2帶動環(huán)形板7轉(zhuǎn)動時可以更加穩(wěn)定，環(huán)形板7中開設(shè)有若干凹槽8，凹槽8開設(shè)有不少于4個，可以根據(jù)一次需要清洗的硅片數(shù)量和硅片大小來設(shè)定，且凹槽8均勻分布于環(huán)形板7中，使得每兩個凹槽8之間的距離相同，環(huán)形板7 的側(cè)壁可以設(shè)置的比中間高，這樣就可以有效的防止清洗液噴灑出去造成浪費(fèi)。

凹槽8中設(shè)置有若干夾片板81，每塊夾片板81均通過彈簧82與凹槽8 內(nèi)側(cè)壁相連接，使得夾片板81可以對不同尺寸大小的硅片進(jìn)行夾持，方便調(diào)節(jié)，夾片板81用來對待洗硅片進(jìn)行夾持，夾片板81設(shè)置有四塊，四塊夾片板81中的每兩塊相鄰的夾片板81之間相互垂直，使得四塊夾片板81之間圍成插片區(qū)9，插片區(qū)9就是用來插接硅片，而且夾片板81遠(yuǎn)離凹槽8底壁的一端設(shè)置為傾斜面，傾斜面的設(shè)置，使得硅片在插接時，不需要對夾片板81 進(jìn)行人工撥動，直接將待洗硅片向插片區(qū)9內(nèi)插設(shè)，當(dāng)插片區(qū)9大小不夠插設(shè)待洗硅片時，硅片就會對夾片板81的傾斜面進(jìn)行擠壓，從而對彈簧82提供一個力，使得插片區(qū)9區(qū)域擴(kuò)大，從而夾持住待洗硅片，環(huán)形板7在每個凹槽8下方均開設(shè)有漏液孔71，使得對硅片進(jìn)行清洗的清洗液順著硅片流下時，從漏夜孔71流出，從而方便對清洗液進(jìn)行循環(huán)利用。

環(huán)形板7下方還設(shè)置有儲液道10，儲液道10固定于基板1上，儲液道 10與環(huán)形板7形狀相同，使得儲液道10位于環(huán)形板7的正下方，且儲液道 10的內(nèi)腔開口與漏液孔71相互對應(yīng)，在能夠很好的完成對漏夜孔71內(nèi)流下清洗液的回收任務(wù)時，減小儲液道10的占地面積，節(jié)約儲液道10的制作材料，非常有效，環(huán)形板7的兩側(cè)對稱設(shè)置有若干組安裝柱11，安裝柱11上安裝有噴嘴12或出氣管13，安裝柱11設(shè)置有四組，豎直設(shè)置的兩組安裝柱11 上安裝噴嘴12，水平設(shè)置的兩組安裝柱11上安裝出氣管13，安裝柱11上安裝噴嘴12和出氣管13的方式采用間隔安裝的方式，這樣的設(shè)置也就可以在環(huán)形板7完成一個圓周轉(zhuǎn)動時，可以對硅片進(jìn)行先后兩次清洗和烘干，提高了清洗效率，使得清洗效果更好，而且噴嘴12的噴液方向朝著環(huán)形板7，出氣管13的出氣方向也必須朝著環(huán)形板7的方向，使得清洗液可以直接對硅片進(jìn)行高壓清洗，也可以使得烘干氣體可以直接對清洗后的硅片進(jìn)行直接烘干。

基板1上設(shè)置有水泵14，水泵14進(jìn)水口連接于儲液道10上，水泵14出水口連接于噴嘴12上，水泵14用來抽取儲液道10內(nèi)的清洗液，從而使得清洗液可以循環(huán)利用，基板1上還設(shè)置有空氣壓縮機(jī)15，空氣壓縮機(jī)15的出氣端連接于出氣管13，空氣壓縮機(jī)15與出氣管13之間還連接有空氣加熱器16，空氣壓縮機(jī)15壓縮空氣后，通過空氣加熱器16加熱后，向出氣管13內(nèi)輸送，從而對硅片進(jìn)行氣流烘干，水泵14、空氣壓縮機(jī)15和空氣加熱器16均連接于外接電源。

盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。