1.一種涂布裝置，其特征在于：其包括涂布機構(gòu)，在涂布機構(gòu)與一承載所述涂布裝置的基底之間設(shè)有緩沖機構(gòu)，所述緩沖機構(gòu)包括至少兩個交替堆疊的減振材料層。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于：所述減振材料層包括第一模塊和第二模塊，第一模塊設(shè)置于第二模塊上靠近涂布機構(gòu)一側(cè)。
3.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：所述第一模塊的硬度大于所述第二模塊的硬度。
4.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：所述第一模塊與第二模塊厚度均為5-20cm。
5.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：所述第一模塊及第二模塊在基底上的正投影面積大于或等于所述涂布機構(gòu)在基底上的正投影面積。
6.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：所述緩沖機構(gòu)進一步包括一無機材料層，所述無機材料層設(shè)置于涂布機構(gòu)與靠近涂布機構(gòu)一側(cè)的第一模塊之間。
7.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于：所述第一模塊與所述第二模塊之間進一步設(shè)有至少一第三模塊，所述第三模塊的硬度介于所述第一模塊的硬度與所述第二模塊的硬度之間。
8.一種反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于：所述反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備采用如1-7中任一項所述的涂布裝置。