本實(shí)用新型涉及反滲透膜生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其涉及一種涂布裝置及采用此涂布裝置的反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備。

背景技術(shù)：

目前反滲透膜生產(chǎn)工藝主要包括鍍膜和收卷。而鍍膜過程中入料牽引、擠壓涂布及烘干處理之間的配合運(yùn)作對成膜質(zhì)量尤其重要。在入料牽引、擠壓涂布及烘干處理各工序中對應(yīng)的功能機(jī)構(gòu)安裝布置時(shí)，整機(jī)精度不高會(huì)導(dǎo)致涂布成膜厚度不均勻、出現(xiàn)褶皺等現(xiàn)象，影響涂布質(zhì)量。因此在反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備中需合理設(shè)置各功能機(jī)構(gòu)，以提高設(shè)備的整機(jī)精度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有涂布裝置精度不高的技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種涂布裝置及反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備。

本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是提供一種涂布裝置，其包括涂布機(jī)構(gòu)，在涂布機(jī)構(gòu)與一承載所述涂布裝置的基底之間設(shè)有緩沖機(jī)構(gòu)，所述緩沖機(jī)構(gòu)包括至少兩個(gè)交替堆疊的減振材料層。

優(yōu)選地，所述減振材料層包括第一模塊和第二模塊，第一模塊設(shè)置于第二模塊上靠近涂布機(jī)構(gòu)一側(cè)。

優(yōu)選地，所述第一模塊的硬度大于所述第二模塊的硬度。

優(yōu)選地，所述第一模塊與第二模塊厚度均為5-20cm。

優(yōu)選地，所述第一模塊及第二模塊在基底上的正投影面積大于或等于所述涂布機(jī)構(gòu)在基底上的正投影面積。

優(yōu)選地，所述緩沖機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一無機(jī)材料層，所述無機(jī)材料層設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)與靠近涂布機(jī)構(gòu)一側(cè)的第一模塊之間。

優(yōu)選地，所述第一模塊與所述第二模塊之間進(jìn)一步設(shè)有至少一第三模塊，所述第三模塊的硬度介于所述第一模塊的硬度與所述第二模塊的硬度之間。

本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是提供一種反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備，其采用如上所述的涂布裝置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型一種涂布裝置及反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本實(shí)用新型涂布裝置在涂布機(jī)構(gòu)與承載涂布機(jī)構(gòu)的基底之間設(shè)置緩沖機(jī)構(gòu)，緩沖機(jī)構(gòu)包括交替堆疊的減振材料層，能夠減少振動(dòng)，避免待涂布薄膜偏離涂布中心，造成起褶、紋路、厚度不均等問題，因而能提高涂布裝置精度及涂布質(zhì)量。

第一模塊與第二模塊交替堆疊接觸設(shè)置，能進(jìn)一步抵消涂布機(jī)構(gòu)自身振動(dòng)，設(shè)置第一模塊的硬度大于第二模塊的硬度，能互補(bǔ)單獨(dú)一種減振材料層的不足，加強(qiáng)減振效果，提高涂布裝置精度。

設(shè)置第一模塊與第二模塊厚度均設(shè)置為5-20c m，第一模塊及第二模塊在基底上的正投影面積大于或等于所述涂布機(jī)構(gòu)在基底上的正投影面積，可以使涂布機(jī)構(gòu)具有足夠的減振區(qū)域，保證涂布機(jī)構(gòu)的穩(wěn)定和平衡。

所述無機(jī)材料層設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)與靠近涂布機(jī)構(gòu)一側(cè)的第一模塊之間，由于第二模塊較分散，所以相對于無機(jī)材料層設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)與第二模塊之間穩(wěn)定，能為涂布機(jī)構(gòu)提供穩(wěn)定支撐。

所述第一模塊、第二模塊之間設(shè)置至少一第三模塊，能夠進(jìn)一步減小振動(dòng)。

所述反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備采用所述的涂布裝置，能消除各功能機(jī)構(gòu)自身振動(dòng)及振動(dòng)相互傳遞，避免造成待涂布薄膜偏離涂布中心，提高涂布機(jī)整機(jī)精度，從而提高涂布質(zhì)量。

【附圖說明】

圖1是本實(shí)用新型涂布裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】

為了使本實(shí)用新型的目的，技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施實(shí)例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

請參閱圖1，本實(shí)用新型涂布裝置1包括緩沖機(jī)構(gòu)11、涂布機(jī)構(gòu)13、承載機(jī)構(gòu)15、牽引機(jī)構(gòu)17及烘干機(jī)構(gòu)19。所述緩沖機(jī)構(gòu)11用于為涂布機(jī)構(gòu)13提供支撐。所述緩沖機(jī)構(gòu)11設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)13與承載所述涂布裝置1的基底之間。所述承載機(jī)構(gòu)15用于為牽引機(jī)構(gòu)17、烘干機(jī)構(gòu)19提供支撐。所述涂布機(jī)構(gòu)13、烘干機(jī)構(gòu)19與牽引機(jī)構(gòu)17彼此獨(dú)立不接觸設(shè)置。緩沖機(jī)構(gòu)11相對于承載機(jī)構(gòu)15平行間隔設(shè)置。所述緩沖機(jī)構(gòu)11及所述承載機(jī)構(gòu)15設(shè)置于低于水平面的凹槽內(nèi)承載涂布裝置1的基底上，緩沖機(jī)構(gòu)11與所述承載機(jī)構(gòu)15的上表面與水平面平齊。所述緩沖機(jī)構(gòu)11為涂布機(jī)構(gòu)13提供緩沖。待涂布薄膜由牽引機(jī)構(gòu)17牽引至涂布機(jī)構(gòu)13，完成涂布作業(yè)，然后由烘干機(jī)構(gòu)19干燥處理。

所述涂布機(jī)構(gòu)13，牽引機(jī)構(gòu)17和烘干機(jī)構(gòu)19獨(dú)立設(shè)置的特點(diǎn)在于：所述涂布機(jī)構(gòu)13包括涂布頭(圖未示)，這樣的設(shè)置可以使涂布機(jī)構(gòu)13、牽引機(jī)構(gòu)17和烘干機(jī)構(gòu)19自身的振動(dòng)不會(huì)通過基底傳遞而帶動(dòng)涂布頭振動(dòng)，而涂布頭的振動(dòng)會(huì)導(dǎo)致涂布頭與待涂布薄膜相對位置不穩(wěn)定，從而使待涂布薄膜偏移所述涂布頭的涂布中心位置，而使涂布獲得的薄膜出現(xiàn)褶皺、紋路、不均勻、不平滑等涂布質(zhì)量差的現(xiàn)象。

緩沖機(jī)構(gòu)11為立方體結(jié)構(gòu)。所述緩沖機(jī)構(gòu)11包括至少兩個(gè)交替堆疊的減振材料層及無機(jī)材料層115。所述減振材料層包括第一模塊111、第二模塊113。所述第一模塊111與所述第二模塊113交替堆疊設(shè)置，第一模塊111設(shè)置于第二模塊113上靠近涂布機(jī)構(gòu)13一側(cè)。所述無機(jī)材料層115連接涂布機(jī)構(gòu)13。同時(shí)無機(jī)材料層115設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)13與靠近涂布機(jī)構(gòu)13一側(cè)的第一模塊111之間。

所述第一模塊111、第二模塊113均是對設(shè)備元件相對運(yùn)動(dòng)速率具有減緩或相對位移減少功能的機(jī)構(gòu)。第一模塊111、第二模塊113可以選用但不限于細(xì)沙、鵝卵石、泡沫金屬及橡膠顆粒等其中一種或多種分散的減振材料組合鋪設(shè)而成。所述無機(jī)材料層115為水泥混凝土平鋪組成。

所述第一模塊111的硬度大于第二模塊113。所述第一模塊111與第二模塊113包括選用單獨(dú)一種材料組成和多種材料組成兩種情況。

所述第一模塊111與第二模塊113均選用單獨(dú)一種材料時(shí)，第一模塊111的粒徑與硬度等機(jī)械性能比第二模塊113的粒徑與硬度等機(jī)械性能大。

所述第一模塊111與第二模塊113均選用多種材料時(shí)，包括選用相同材料、部分相同材料、不同材料三種情況。所述組成第一模塊111的材料的平均粒徑與平均硬度等機(jī)械性能比第二模塊113的平均粒徑與平均硬度等機(jī)械性能大。所述組成第一模塊111與第二模塊113的材料相同時(shí)，所述各材料組分含量不同。所述組成第一模塊111與第二模塊113的材料部分相同時(shí)，包括至少一種材料相同，且至少一種材料不同。

第一模塊111與第二模塊113采用材料不同的設(shè)置特點(diǎn)在于：互補(bǔ)單獨(dú)一種減振材料的不足，能夠進(jìn)一步減小振動(dòng)，提高減振效果，以提高涂布裝置精度。

所述第一模塊111及第二模塊113在基底上的正投影面積大于或等于所述涂布機(jī)構(gòu)13在基底上的正投影面積，并與緩沖機(jī)構(gòu)11的各邊尺寸相同。同時(shí)第一模塊111與第二模塊113的厚度均設(shè)置為5-20cm。這樣的設(shè)置特點(diǎn)在于：可以使涂布機(jī)構(gòu)13具有足夠的減振區(qū)域，保證涂布機(jī)構(gòu)13的穩(wěn)定和平衡。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，緩沖機(jī)構(gòu)11的疊層結(jié)構(gòu)單元包括第一模塊111-第二模塊113。在本實(shí)用新型一些較優(yōu)的實(shí)施例中，緩沖機(jī)構(gòu)11還包括至少一第三模塊(圖未示)。所述第三模塊的平均粒徑和平均硬度位于第一模塊111與第二模塊113之間平均粒徑和平均硬度位于第一模塊111與第二模塊113的平均粒徑和平均硬度之間。這樣的設(shè)置特點(diǎn)在于：多個(gè)粒徑和硬度不同的減振材料層的設(shè)置能進(jìn)一步起到緩沖作用，減少振動(dòng)。

本實(shí)用新型優(yōu)選的實(shí)施例中，緩沖機(jī)構(gòu)11包括多個(gè)重復(fù)交替堆疊第一模塊111-第二模塊113的疊層單元。

本實(shí)用新型優(yōu)選的實(shí)施例中，所述一無機(jī)材料層115設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)13與接近涂布機(jī)構(gòu)13一側(cè)的第一模塊111之間。這樣地設(shè)置特點(diǎn)在于：由于第二模塊113較分散，因此這樣的設(shè)置相對于無機(jī)材料層115設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)13與第二模塊113之間穩(wěn)定，能為涂布機(jī)構(gòu)13提供穩(wěn)定支撐。

本實(shí)用新型優(yōu)選的實(shí)施例中，所述緩沖機(jī)構(gòu)11的疊層結(jié)構(gòu)為無機(jī)材料層115-n(第一模塊111-第二模塊113)，其中n為大于零的正整數(shù)；所述緩沖機(jī)構(gòu)11的疊層結(jié)構(gòu)還可以為無機(jī)材料層115-n(第一模塊111-第二模塊113)-第一模塊111，其中n為大于零的正整數(shù)。

涂布機(jī)構(gòu)13包括支撐機(jī)構(gòu)131和涂布機(jī)133。所述支撐機(jī)構(gòu)131為所述涂布機(jī)133提供支撐。所述支撐機(jī)構(gòu)131底端連接無機(jī)材料層115。涂布機(jī)133包括涂布頭。在涂布作業(yè)時(shí)，涂布機(jī)構(gòu)13自身振動(dòng)使涂布頭與待涂布薄膜相對位置不穩(wěn)定，從而使待涂布薄膜偏移涂布中心，導(dǎo)致出現(xiàn)褶皺、紋路、不均勻、不平滑等涂布質(zhì)量差的問題現(xiàn)象。所述支撐機(jī)構(gòu)131底端連接無機(jī)材料層115設(shè)置特點(diǎn)在于：涂布機(jī)133的振動(dòng)可以通過支撐機(jī)構(gòu)131傳遞至緩沖機(jī)構(gòu)11，并通過緩沖機(jī)構(gòu)11內(nèi)部第一模塊111與第二模塊113緩沖，抵消部分振動(dòng)，從而減少對涂布質(zhì)量的影響。

承載機(jī)構(gòu)15用于承載、支撐、固定牽引機(jī)構(gòu)17、烘干機(jī)構(gòu)19。承載機(jī)構(gòu)15包括無機(jī)材料層115。

在承載機(jī)構(gòu)15上間隔設(shè)置牽引機(jī)構(gòu)17與烘干機(jī)構(gòu)19。同時(shí)牽引機(jī)構(gòu)17與烘干機(jī)構(gòu)19彼此獨(dú)立，并固定連接在無機(jī)材料層115上。

涂布流程中，牽引機(jī)構(gòu)17、烘干機(jī)構(gòu)19配合運(yùn)作，通過牽引機(jī)構(gòu)17牽引待涂布薄膜至涂布機(jī)構(gòu)13，待涂布薄膜經(jīng)涂布后由烘干機(jī)構(gòu)19干燥處理。緩沖機(jī)構(gòu)11相對于承載機(jī)構(gòu)15間隔設(shè)置，使?fàn)恳龣C(jī)構(gòu)17、涂布機(jī)構(gòu)13、烘干機(jī)構(gòu)19三個(gè)功能機(jī)構(gòu)間隔獨(dú)立。這樣間隔獨(dú)立設(shè)置的特點(diǎn)在于：能避免牽引機(jī)構(gòu)17、涂布機(jī)構(gòu)13、烘干機(jī)構(gòu)19配合運(yùn)作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)通過基底傳遞。涂布機(jī)構(gòu)13自身振動(dòng)通過傳遞至第一模塊111、第二模塊113，所述第一模塊111、第二模塊113內(nèi)部產(chǎn)生反作用力，抵消涂布機(jī)構(gòu)13自身振動(dòng)。因而抵消或減少牽引機(jī)構(gòu)17、涂布機(jī)構(gòu)13、烘干機(jī)構(gòu)19配合運(yùn)作時(shí)傳遞的振動(dòng)。

本實(shí)用新型一些較優(yōu)的實(shí)施例中，所述承載機(jī)構(gòu)15可以包括一種或多種減振材料層。設(shè)置所述承載機(jī)構(gòu)15的疊層結(jié)構(gòu)與緩沖機(jī)構(gòu)11相同或不同。

本實(shí)用新型一些較優(yōu)的實(shí)施例中，所述緩沖機(jī)構(gòu)11可收容不少于兩種減振材料層。

本實(shí)用新型還提供一種反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備，其采用如上所述的涂布裝置1，能抵消涂布機(jī)構(gòu)13自身振動(dòng)、牽引機(jī)構(gòu)17及烘干機(jī)構(gòu)19通過基底傳遞振動(dòng)，提高涂布機(jī)整機(jī)精度，從而避免影響涂布質(zhì)量。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型一種涂布裝置及反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本實(shí)用新型涂布裝置在涂布機(jī)構(gòu)與承載涂布機(jī)構(gòu)的基底之間設(shè)置緩沖機(jī)構(gòu)，緩沖機(jī)構(gòu)包括交替堆疊的減振材料層，能夠減少振動(dòng)，避免待涂布薄膜偏離涂布中心，造成起褶、紋路、厚度不均等問題，因而能提高涂布裝置精度及涂布質(zhì)量。

第一模塊與第二模塊交替堆疊接觸設(shè)置，能進(jìn)一步抵消涂布機(jī)構(gòu)自身振動(dòng)，設(shè)置第一模塊的硬度大于第二模塊的硬度，能互補(bǔ)單獨(dú)一種減振材料層的不足，加強(qiáng)減振效果，提高涂布裝置精度。

設(shè)置第一模塊與第二模塊厚度均設(shè)置為5-20cm，第一模塊及第二模塊在基底上的正投影面積大于或等于所述涂布機(jī)構(gòu)在基底上的正投影面積，可以使涂布機(jī)構(gòu)具有足夠的減振區(qū)域，保證涂布機(jī)構(gòu)的穩(wěn)定和平衡。

所述無機(jī)材料層設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)與靠近涂布機(jī)構(gòu)一側(cè)的第一模塊之間，由于第二模塊較分散，所以相對于無機(jī)材料層設(shè)置于涂布機(jī)構(gòu)與第二模塊之間穩(wěn)定，能為涂布機(jī)構(gòu)提供穩(wěn)定支撐。

所述第一模塊、第二模塊之間設(shè)置至少一第三模塊，能夠進(jìn)一步減小振動(dòng)。

所述反滲透膜生產(chǎn)設(shè)備采用所述的涂布裝置，能消除各功能機(jī)構(gòu)自身振動(dòng)及振動(dòng)相互傳遞，避免造成待涂布薄膜偏離涂布中心，提高涂布機(jī)整機(jī)精度，從而提高涂布質(zhì)量。

以上所述僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型原則之內(nèi)所作的任何修改，等同替換和改進(jìn)等均應(yīng)包含本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。