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噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置的制作方法

文檔序號(hào):5035728閱讀:300來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種對(duì)電子混酸(氫氟酸、硫酸、硝酸)與TFT-LCD玻璃反應(yīng)以后的混合化學(xué)品中的結(jié)晶物及其他雜質(zhì)進(jìn)行過(guò)濾的裝置,尤其涉及一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置。
背景技術(shù)
目前,TFT-LCD減薄領(lǐng)域普遍采用的方式為噴淋式和浸泡式,針對(duì)噴淋式減薄工藝需要對(duì)酸液進(jìn)行回收利用,回收酸中含有大量的硅酸鹽(粘稠狀、結(jié)晶狀)及其他固態(tài)雜質(zhì), 必須對(duì)其進(jìn)行過(guò)濾,控制潔凈度,否則會(huì)造成噴頭堵塞及玻璃在蝕刻后的外觀不良。
發(fā)明內(nèi)容針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本實(shí)用新型目的在于提供一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,主要是對(duì)電子混酸(氫氟酸、硫酸、硝酸)與TFT-LCD玻璃反應(yīng)以后的混合化學(xué)品中的結(jié)晶物及其他雜質(zhì)進(jìn)行過(guò)濾,達(dá)到提高回收酸潔凈度的目的。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,包括安裝在蝕刻艙內(nèi)回流管口處并覆蓋整個(gè)回流管口的裝置本體,所述裝置本體包括支架,所述支架上由上至下依次設(shè)置有粗濾網(wǎng)和細(xì)濾網(wǎng)。作為優(yōu)選,所述支架由架框和支撐桿組成。作為優(yōu)選,所述支撐桿與架框通過(guò)連接件鉸接。作為優(yōu)選,所述支撐桿為長(zhǎng)度可以調(diào)節(jié)的升縮桿。作為優(yōu)選,所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)可拆卸連接于支架上。作為優(yōu)選,所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)均通過(guò)壓條和螺栓與架框連接。作為優(yōu)選,所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)均由PVC材料制成。作為優(yōu)選,所述粗濾網(wǎng)的孔徑為¢5,所述細(xì)濾網(wǎng)的孔徑為小2。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型主要是在蝕刻機(jī)蝕刻艙內(nèi)增加過(guò)濾網(wǎng)進(jìn)行兩級(jí)過(guò)濾一級(jí)過(guò)濾主要是選用粗濾網(wǎng)過(guò)濾大顆粒雜質(zhì);二級(jí)過(guò)濾采用細(xì)濾網(wǎng)過(guò)濾小顆粒雜質(zhì),對(duì)蝕刻過(guò)的酸液中的部分雜質(zhì)(主要是硅酸鹽、及其他雜質(zhì))進(jìn)行過(guò)濾,人工定期對(duì)過(guò)濾出來(lái)的雜質(zhì)進(jìn)行清理,原理較為簡(jiǎn)單,操作方便。

圖I為本實(shí)用新型的俯視圖;圖2為本實(shí)用新型的后視圖;圖3為圖2中A-A的剖視圖;圖4為本實(shí)用新型安裝上蝕刻機(jī)后的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、架框;2、支撐桿;3、粗濾網(wǎng);4、細(xì)濾網(wǎng);5、壓條;6、扣件;7、連接件。
具體實(shí)施方式
作為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式,如圖I、圖2、圖3和圖4所示,一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,包括安裝在蝕刻艙內(nèi)回流管口處并覆蓋整個(gè)回流管口的裝置本體,所述裝置本體包括支架,所述支架由架框I和支撐桿2組成,所述架框I為前端梁和左右側(cè)梁組成的后端開(kāi)放的矩形結(jié)構(gòu),架框I的前端梁與蝕刻艙結(jié)合處設(shè)有兩個(gè)與蝕刻艙相適配的斜面,兩個(gè)斜面互成90度,其中與架框I底面相鄰的斜面與架框I底面互成120度,所述架框I的左右側(cè)梁的后端設(shè)有與架框I底面互成148. 3度的斜面。除此之外,各斜面之間的角度以及各斜面與底面之間的角度還可以根據(jù)具體情況另行設(shè)計(jì)。所述架框I內(nèi)部設(shè)有兩層臺(tái)階,兩層臺(tái)階由上至下依次設(shè)置有粗濾網(wǎng)3和細(xì)濾網(wǎng)4,所述粗濾網(wǎng)3的孔徑為¢5,所述細(xì)濾網(wǎng)4的孔徑為¢2,所述細(xì)濾網(wǎng)4通過(guò)壓住其邊沿的壓條5和螺栓固定于下層臺(tái)階上,所述粗濾網(wǎng)3通過(guò)壓住其邊沿的壓條5和螺栓固定于 上層臺(tái)階上。所述粗濾網(wǎng)3和細(xì)濾網(wǎng)4均由PVC材料制成,耐腐蝕性強(qiáng),使用壽命長(zhǎng)。所述架框I的左右側(cè)梁上分別設(shè)有扣件6,所述扣件6通過(guò)螺栓安裝于架框I的頂面。如圖4所示,所述裝置本體通過(guò)該扣件6與蝕刻機(jī)連接在一起。所述支撐桿2為兩根,并分別位于架框I左右側(cè)梁的底部,支撐桿2與架框I通過(guò)連接件7鉸接,以便根據(jù)需要調(diào)節(jié)架框I的角度,支撐桿2為長(zhǎng)度可以調(diào)節(jié)的升縮桿,以便根據(jù)需要調(diào)節(jié)架框I的高度。
權(quán)利要求1.一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,包括安裝在蝕刻艙內(nèi)回流管口處并覆蓋整個(gè)回流管口的裝置本體,其特征在于所述裝置本體包括支架,所述支架上由上至下依次設(shè)置有粗濾網(wǎng)和細(xì)濾網(wǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述支架由架框和支撐桿組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述支撐桿與架框通過(guò)連接件鉸接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述支撐桿為長(zhǎng)度可以調(diào)節(jié)的升縮桿。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)可拆卸連接于支架上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)可拆卸連接于支架上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)均通過(guò)壓條和螺栓與架框連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)均通過(guò)壓條和螺栓與架框連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述細(xì)濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)均由PVC材料制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,其特征在于所述粗濾網(wǎng)的孔徑為小5,所述細(xì)濾網(wǎng)的孔徑為4>2。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種噴淋式蝕刻機(jī)過(guò)濾裝置,包括安裝在蝕刻艙內(nèi)回流管口處并覆蓋整個(gè)回流管口的裝置本體,所述裝置本體包括支架,所述支架上由上至下依次設(shè)置有粗濾網(wǎng)和細(xì)濾網(wǎng)。本實(shí)用新型主要是在蝕刻機(jī)蝕刻艙內(nèi)增加過(guò)濾網(wǎng)進(jìn)行兩級(jí)過(guò)濾一級(jí)過(guò)濾主要是選用粗濾網(wǎng)過(guò)濾大顆粒雜質(zhì);二級(jí)過(guò)濾采用細(xì)濾網(wǎng)過(guò)濾小顆粒雜質(zhì),對(duì)蝕刻過(guò)的酸液中的部分雜質(zhì)(主要是硅酸鹽、及其他雜質(zhì))進(jìn)行過(guò)濾,人工定期對(duì)過(guò)濾出來(lái)的雜質(zhì)進(jìn)行清理,原理較為簡(jiǎn)單,操作方便。
文檔編號(hào)B01D35/02GK202427245SQ20122001717
公開(kāi)日2012年9月12日 申請(qǐng)日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者何世彬, 劉俊杰, 向勇, 唐忠于, 唐毅強(qiáng), 廖志勇, 張以洪, 李云路, 李正元, 李福春, 李輝, 王勇, 王曉, 舒茜, 蒲中軍, 蒲琨, 諸且桓, 謝秋乙, 趙興華, 鄧飛, 錢華軍, 陽(yáng)利民, 黃毅, 黃立雄, 黎岸 申請(qǐng)人:成都工投電子科技有限公司
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