本公開至少一實(shí)施例涉及一種涂布機(jī)、涂布系統(tǒng)及涂布機(jī)清潔方法。

背景技術(shù)：

在tft-lcd、am-oled等平板顯示技術(shù)領(lǐng)域中，通常使用光刻工藝來形成各種電路圖案等，在光刻工藝中，光刻膠的涂布是一項(xiàng)重要的制程，涂布機(jī)的稼動(dòng)率是影響整個(gè)工廠產(chǎn)能的一項(xiàng)重要因素。對(duì)于目前成熟穩(wěn)定的設(shè)備而言，設(shè)備本身的穩(wěn)定性造成的停機(jī)所產(chǎn)生的非稼動(dòng)，并非影響稼動(dòng)率最主要的一項(xiàng)因素。相比之下，可能出現(xiàn)的機(jī)臺(tái)工作面臟污造成的不良所導(dǎo)致的人為停機(jī)占比越來越高。機(jī)臺(tái)工作面臟污對(duì)涂布過程會(huì)造成影響，進(jìn)而造成涂布mura等缺陷，在出現(xiàn)例如臟污等異物時(shí)需要對(duì)涂布機(jī)進(jìn)行停機(jī)清潔，這一問題對(duì)涂布制程稼動(dòng)率影響較大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)，其包括機(jī)臺(tái)和第一清潔裝置。該機(jī)臺(tái)包括工作面，該第一清潔裝置配置為能夠相對(duì)于工作面移動(dòng)以清除工作面上的異物。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)還可以包括驅(qū)動(dòng)裝置，配置為驅(qū)動(dòng)所述第一清潔裝置可以相對(duì)于所述工作面移動(dòng)。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)中，所述第一清潔裝置在待機(jī)狀態(tài)設(shè)置在所述涂布機(jī)的機(jī)臺(tái)一側(cè)，在工作狀態(tài)可以被移動(dòng)至所述工作面。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)中，所述第一清潔裝置可以是刷除裝置、噴氣裝置或水洗裝置。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)中，所述刷除裝置包括清潔滾輪，所述清潔滾輪包括布材質(zhì)的清潔表面。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的涂布機(jī)還可以包括第二清潔裝置，其中，所述第二清潔裝置設(shè)置于所述涂布機(jī)的機(jī)臺(tái)一側(cè)，且配置為在所述待機(jī)狀態(tài)能夠?qū)Φ谝磺鍧嵮b置進(jìn)行清洗。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)中，在所述待機(jī)狀態(tài)，所述第一清潔裝置容納于所述第二清潔裝置內(nèi)。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)中，所述第二清潔裝置包括至少一個(gè)噴嘴，配置為噴射清洗劑至所述第一清潔裝置的清潔表面對(duì)所述第一清潔裝置進(jìn)行清洗。

本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布系統(tǒng)，其包括上述任意一種涂布機(jī)和檢測(cè)裝置。該檢測(cè)裝置配置為對(duì)經(jīng)所述涂布機(jī)涂布光刻膠后的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，并且發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)以用于控制所述涂布機(jī)的第一清潔裝置的移動(dòng)。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布系統(tǒng)中，所述檢測(cè)裝置包括mura檢查機(jī)、光學(xué)自動(dòng)檢查機(jī)(aoi)或宏觀缺陷檢查機(jī)(macro)。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布系統(tǒng)還可以包括控制器，所述控制器配置為與所述涂布機(jī)和所述檢測(cè)裝置信號(hào)連接，根據(jù)所述檢測(cè)結(jié)果信號(hào)控制所述涂布機(jī)的第一清潔裝置移動(dòng)以及執(zhí)行清潔操作。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供的一種涂布系統(tǒng)中，所述檢測(cè)裝置向所述控制器發(fā)送的檢測(cè)結(jié)果信號(hào)包括所述工作面上臟污的位置信號(hào)。

本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法，包括：對(duì)經(jīng)所述涂布機(jī)涂覆光刻膠的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)；當(dāng)檢測(cè)到所述工作面有臟污時(shí)，獲取所述工作面上臟污的坐標(biāo)位置信號(hào)；驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置移動(dòng)到所述臟污所在位置進(jìn)行清潔。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法還可以包括在驅(qū)動(dòng)所述第一清潔裝置移動(dòng)到所述臟污的坐標(biāo)位置進(jìn)行清潔前，驅(qū)動(dòng)所述涂布機(jī)切換至停止涂布工作狀態(tài)。

例如，本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法還可以包括：當(dāng)所述第一清潔裝置完成清潔動(dòng)作，使所述涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作狀態(tài)；對(duì)所述涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作狀態(tài)后涂覆光刻膠的基板進(jìn)行檢測(cè)，并判斷臟污是否清除干凈；當(dāng)檢測(cè)到所述工作面上的臟污仍未清除干凈，則繼續(xù)下一次清潔；或者當(dāng)檢測(cè)到所述工作面上的臟污已清除干凈，則涂布機(jī)繼續(xù)保持涂布工作狀態(tài)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本發(fā)明的一些實(shí)施例，而非對(duì)本發(fā)明的限制。

圖1為本公開一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本公開一實(shí)施例提供的涂布機(jī)的裝有第一清潔裝置時(shí)的第二清潔裝置剖面示意圖；

圖3為本公開一實(shí)施例提供的一種涂布系統(tǒng)示意圖；

圖4為本公開一實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)清潔方法的簡(jiǎn)要流程圖。

附圖標(biāo)記

1-機(jī)臺(tái)；101-工作面；102-第一側(cè)面；103-第二側(cè)面；201-第一清潔裝置；2011-清潔表面；2012-滾輪軸；202-伸縮提升機(jī)構(gòu)；203-傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；3-第二清潔裝置；301-噴嘴；302-回流口；4-驅(qū)動(dòng)裝置；5-檢測(cè)裝置；6-控制器；10-涂布機(jī)；100-涂布系統(tǒng)。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于所描述的本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無需創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

除非另作定義，此處使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本發(fā)明專利中請(qǐng)說明書以及權(quán)利要求書中使用的"第一"、"第二"以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。"內(nèi)"、"外"等僅用于表示相對(duì)位置關(guān)系，當(dāng)被描述對(duì)象的絕對(duì)位置改變后，則該相對(duì)位置關(guān)系也可能相應(yīng)地改變。

在本公開中所使用的附圖的尺寸并不是嚴(yán)格按實(shí)際比例繪制，附圖中僅示出了涂布機(jī)的與本公開技術(shù)特征相關(guān)的部件，其他部件可參考本領(lǐng)域常規(guī)設(shè)計(jì)，所描述的附圖僅是結(jié)構(gòu)示意圖。

為了說明的方便，在本說明書中將需要清除的臟污、碎屑以及其他需要清除的物質(zhì)統(tǒng)稱為“異物”。

在制造tft-lcd、oled等平板顯示器件過程所采用的光刻工藝中，涂膠通常是光刻工藝的首道工序，涂膠效果控制的好壞直接影響光刻質(zhì)量。因此，需要控制好光刻膠涂層的厚度、均勻性和涂層表面狀態(tài)。為了保證膠膜質(zhì)量，涂膠工序要求在潔凈度較高的條件下進(jìn)行，通常采用涂布機(jī)對(duì)基板表面進(jìn)行涂覆光刻膠，因此要求涂布機(jī)機(jī)臺(tái)的工作面處于潔凈狀態(tài)。但在工作過程中，涂布機(jī)機(jī)臺(tái)的工作面可能會(huì)出現(xiàn)一些異物，這些異物會(huì)造成所涂覆的膠膜鼓起等，影響光刻膠涂層的均勻性，例如導(dǎo)致涂層厚度不均勻一致，之后在顯影、刻蝕時(shí)會(huì)導(dǎo)致圖形缺陷，從而造成所制備的產(chǎn)品的顯示缺陷。

在生產(chǎn)過程中針對(duì)以上問題，目前通常的處理方法是當(dāng)外觀缺陷檢查機(jī)檢查出基板存在因涂布機(jī)機(jī)臺(tái)異物導(dǎo)致的不良時(shí)，通過人工手動(dòng)將涂布機(jī)設(shè)備停機(jī)，然后人員進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部確認(rèn)異物的位置，并對(duì)機(jī)臺(tái)工作面進(jìn)行人工清潔。若清潔一次效果不佳，可能要進(jìn)行多次停機(jī)與清潔。首先，這種方式中采用人工操作設(shè)備停機(jī)再?gòu)?fù)機(jī)、人員進(jìn)入設(shè)備判斷異物的位置確認(rèn)異物位置并進(jìn)行人工清潔工作面異物較為不便，且效率較低，造成的涂布制程稼動(dòng)率損失較大；其次，人員進(jìn)入設(shè)備存在對(duì)機(jī)臺(tái)工作面帶來二次污染的風(fēng)險(xiǎn)及人員受傷的風(fēng)險(xiǎn)。

本公開至少一實(shí)施例提供了一種涂布機(jī)，可避免人員進(jìn)入設(shè)備進(jìn)行手動(dòng)清潔工作面臟污的問題。該涂布機(jī)可以包括機(jī)臺(tái)和第一清潔裝置。該機(jī)臺(tái)包括工作面，該第一清潔裝置配置為能夠相對(duì)于工作面移動(dòng)以清除工作面上的異物。

本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布系統(tǒng)。該涂布系統(tǒng)可以包括上述涂布機(jī)和檢測(cè)裝置。該檢測(cè)裝置配置為對(duì)經(jīng)涂布機(jī)涂布光刻膠后的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，并且發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)以用于控制涂布機(jī)的第一清潔裝置的移動(dòng)。

本公開至少一實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法，適用于上述涂布機(jī)，該方法包括：對(duì)經(jīng)涂布機(jī)涂覆光刻膠的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)；當(dāng)檢測(cè)到工作面有臟污時(shí)，獲取工作面上臟污的坐標(biāo)位置信號(hào)；驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置移動(dòng)到臟污所在位置進(jìn)行清潔。

例如，第一清除單元可以包括刷除裝置，也可以包括噴氣裝置或者水洗裝置等，在實(shí)際生產(chǎn)工藝中，噴氣裝置例如氣槍和水洗裝置例如水槍等對(duì)工作面上的異物的清除操作還可以結(jié)合人為干預(yù)，在本公開的實(shí)施例中，以第一清潔裝置為刷除裝置例如清潔滾輪對(duì)本公開技術(shù)方案進(jìn)行說明，但不是對(duì)于本公開實(shí)施例的限制。

下面通過幾個(gè)具體的實(shí)施例對(duì)本公開的技術(shù)方案和效果進(jìn)行詳細(xì)說明。

實(shí)施例一

本實(shí)施例提供一種涂布機(jī)，該涂布機(jī)可以包括機(jī)臺(tái)和第一清潔裝置。該機(jī)臺(tái)包括工作面，該第一清潔裝置配置為能夠相對(duì)于工作面移動(dòng)以清除工作面上的異物。

示范性地，圖1為本實(shí)施例提供的一種涂布機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。在圖1所示的示例中，涂布機(jī)10包括機(jī)臺(tái)1和第一清潔裝置201。機(jī)臺(tái)1包括工作面101，工作時(shí)涂布機(jī)將接收到的待處理基板放置于工作面101上涂覆光刻膠，可以采用各種方式來涂覆光刻膠，例如刮涂(流延)或旋涂等方式，以在基板的表面上形成一層厚度均勻的光刻膠膜，對(duì)于機(jī)臺(tái)的具體結(jié)構(gòu)這里不再詳述，可以參照常規(guī)設(shè)計(jì)。

第一清潔裝置201配置為根據(jù)需要能夠相對(duì)于工作面移動(dòng)以清除工作面上的異物，如此可避免人員進(jìn)入設(shè)備內(nèi)進(jìn)行手動(dòng)清潔工作面上的異物。

在本實(shí)施例的一個(gè)示例中，第一清潔裝置201為清潔滾輪，其包括清潔表面2011和滾輪軸該清潔表面例如為柱狀滾輪主體的整個(gè)圓柱表面或部分表面，其例如可以設(shè)置有絨布、軟毛刷等；滾輪軸2012縱向延伸，可以帶動(dòng)柱狀滾輪主體旋轉(zhuǎn)。

圖中以工作面101為矩形為例，x方向?yàn)樵摼匦蔚拈L(zhǎng)度方向，y方向?yàn)樵摼匦蔚膶挾确较?，z方向?yàn)榇怪庇诠ぷ髅?01的方向。當(dāng)?shù)谝磺鍧嵮b置201被移動(dòng)到工作面101上時(shí)，第一清潔裝置201的軸向與工作面101的寬度方向平行設(shè)置，第一清潔裝置201的長(zhǎng)度與工作面101的寬度相同，其兩端分別位于工作面101上靠近第一側(cè)面102和第二側(cè)面103的邊緣。例如，在機(jī)臺(tái)1內(nèi)部靠近第一側(cè)面102和第二側(cè)面103處設(shè)置傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203，用于使第一清潔裝置201在其帶動(dòng)下能夠在工作面101上方沿x方向移動(dòng)，且移動(dòng)范圍能夠覆蓋整個(gè)工作面101。在第一清潔裝置201的兩端分別設(shè)有伸縮提升機(jī)構(gòu)202，每個(gè)伸縮提升機(jī)構(gòu)202的一端與滾輪軸2012的端部連接，另一端與傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203連接。由此，伸縮提升機(jī)構(gòu)202及第一清潔裝置201可在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203的帶動(dòng)下同時(shí)移動(dòng)。伸縮提升機(jī)構(gòu)202能夠使第一清潔裝置201在工作面101上方的空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)移動(dòng)，對(duì)此可參考本領(lǐng)域的常規(guī)設(shè)計(jì)。

如圖1所示，例如，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203可設(shè)置于機(jī)臺(tái)1內(nèi)部的靠近側(cè)面102處，機(jī)臺(tái)2的第一側(cè)面102和第二側(cè)面103可以是開合式罩蓋，這樣傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203可以受到機(jī)臺(tái)的罩蓋保護(hù)，又方便打開該開合式罩蓋進(jìn)行維檢。當(dāng)然，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203也可以分別設(shè)置在第一側(cè)面102和第二側(cè)面103的外側(cè)。在本示例中，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203為傳動(dòng)鏈條(坦克鏈)。需要說明的是，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203可以是其他類型的機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，例如傳動(dòng)帶等，也可以是電動(dòng)傳動(dòng)等其他傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，或者是復(fù)合傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。

例如，如圖1所示，涂布機(jī)10還包括驅(qū)動(dòng)裝置4，其配置為驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置201可以相對(duì)于工作面101移動(dòng)，或還可以進(jìn)一步用于驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置201圍繞滾輪軸2012轉(zhuǎn)動(dòng)。當(dāng)然，第一清潔裝置201也可以由單獨(dú)的驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)。例如，驅(qū)動(dòng)裝置4可與傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203、伸縮提升機(jī)構(gòu)202以及滾輪軸2012機(jī)械連接，借此，可通過驅(qū)動(dòng)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203運(yùn)動(dòng)從而帶動(dòng)第一清潔裝置201相對(duì)于工作面101沿x方向移動(dòng)；通過驅(qū)動(dòng)伸縮提升機(jī)構(gòu)202運(yùn)動(dòng)從而帶動(dòng)第一清潔裝置201在工作面上方的空間內(nèi)相對(duì)于工作面101移動(dòng)，例如沿z方向升降和沿x方向移動(dòng)等；通過驅(qū)動(dòng)滾輪軸2012轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，例如通過電動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)滾輪軸2012高速轉(zhuǎn)動(dòng)，以對(duì)工作面101上的異物進(jìn)行清潔。

需要說明的是，驅(qū)動(dòng)裝置可采用多種驅(qū)動(dòng)方式，例如電力驅(qū)動(dòng)、液壓驅(qū)動(dòng)或者多種驅(qū)動(dòng)組合驅(qū)動(dòng)等。例如，驅(qū)動(dòng)裝置可包括電動(dòng)機(jī)以及與之配套的高速軸聯(lián)軸器、減速器或低速軸聯(lián)軸器等，關(guān)于驅(qū)動(dòng)裝置具體的組成和連接方式，本實(shí)施例不作限定，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)常規(guī)設(shè)計(jì)選擇合理的驅(qū)動(dòng)方式及連接方式。

例如，第一清潔裝置201在待機(jī)狀態(tài)可設(shè)置在涂布機(jī)10的機(jī)臺(tái)1一側(cè)，在工作狀態(tài)可以被移動(dòng)至工作面101，這樣在待機(jī)狀態(tài)時(shí)，當(dāng)涂布機(jī)10正常進(jìn)行涂布工作時(shí)，第一清潔裝置201不會(huì)妨礙工作面101上的正常工作。該待機(jī)狀態(tài)是指第一清潔裝置201不進(jìn)行清潔工作時(shí)，工作狀態(tài)是指第一清潔裝置從接到對(duì)工作面101的異物進(jìn)行清潔的指令至一次清潔完畢后回歸到待機(jī)狀態(tài)的過程。

例如，涂布機(jī)10還包括第二清潔裝置3，第二清潔裝置3可設(shè)置于涂布機(jī)10的機(jī)臺(tái)1的一側(cè)，且配置為在待機(jī)狀態(tài)能夠?qū)Φ谝磺鍧嵮b置201進(jìn)行清洗。例如，第二清潔裝置3可包括一個(gè)殼體，該殼體的上壁為開合式罩蓋。在待機(jī)狀態(tài)，將第一清潔裝置201容納于該殼體內(nèi)；在工作狀態(tài)時(shí)，將開合式罩蓋打開可在該殼體上形成一個(gè)開口，第一清潔裝置201可經(jīng)由該開口被移出，然后被移動(dòng)到工作臺(tái)101的異物處進(jìn)行清洗，一次清潔結(jié)束后，第一清潔裝置201再經(jīng)由第二清潔裝置3的上述開口被移動(dòng)至第二清潔裝置3中，蓋上開合式罩蓋，進(jìn)行對(duì)第一清潔裝置201的清洗。如此，可保持第一清潔裝置201表面處于干凈狀態(tài)，使第一清潔裝置201對(duì)工作臺(tái)101的下一次清潔效果更好。

在本實(shí)施例的一個(gè)示例中，第二清潔裝置包括至少一個(gè)噴嘴，配置為噴射清洗劑至所述第一清潔裝置的清潔表面對(duì)所述第一清潔裝置進(jìn)行清洗。例如，圖2是本實(shí)施例的一個(gè)示例提供的涂布機(jī)的裝有第一清潔裝置時(shí)的第二清潔裝置剖面示意圖，如圖2所示，第二清潔裝置可包括管狀的平行于第一清潔裝置201的軸向設(shè)置的清洗劑容器(未示出)，在清洗劑容器壁上可設(shè)有多個(gè)噴嘴301，用于噴射清洗劑至第一清潔裝置201的清潔表面2011上，可由電磁閥控制噴嘴301的開啟和關(guān)閉。在清洗劑容器壁的兩端，分別設(shè)有回流孔302，一部分經(jīng)噴嘴301噴射出的清洗劑可經(jīng)由回流孔302流入清洗劑容器，以回收處理或再利用。例如，多個(gè)噴嘴301可等間距均勻設(shè)置，有利于使得第一清潔裝置201的清潔表面2011各個(gè)部位都得到有效清洗。對(duì)第一清潔裝置201進(jìn)行清洗時(shí)，打開電磁閥使噴嘴301開啟，清洗劑經(jīng)由噴嘴301噴射至第一清潔裝置201的清潔表面2011，同時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置4驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置201高速轉(zhuǎn)動(dòng)，邊轉(zhuǎn)動(dòng)邊清洗，噴射出來的清洗劑通過回流孔回流回收。所用的清洗劑可以是有機(jī)清洗劑或無機(jī)清洗劑，例如酒精、丙酮、去離子水等。

利用本示例提供的涂布機(jī)，當(dāng)檢測(cè)到涂布機(jī)10的工作面101上存在異物時(shí)，涂布機(jī)10可在進(jìn)行的涂布動(dòng)作完成后，通過人工手動(dòng)將涂布機(jī)切換至禁止下一片基板繼續(xù)涂布的狀態(tài)，無需將設(shè)備停機(jī)，能夠減少對(duì)稼動(dòng)率的影響，并且可以避免復(fù)機(jī)過程中的光刻膠的浪費(fèi)。此時(shí)，第一清潔裝置201處于待機(jī)狀態(tài)，位于第二清潔裝置3中，然后，啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置4，使第一清潔裝置201進(jìn)入工作狀態(tài)，通過伸縮提升機(jī)構(gòu)202將第一清潔裝置201沿z方向提升適當(dāng)距離后，例如提升至距離工作面101大于等于5cm的位置，通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)203將第一清潔裝置201沿x方向移動(dòng)至工作面101異物所在位置的上方，隨后通過伸縮提升機(jī)構(gòu)202將第一清潔裝置201沿z方向下降至清潔表面2011接觸到工作面101，此時(shí)，可人為控制驅(qū)動(dòng)裝置4驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置201高速轉(zhuǎn)動(dòng)，對(duì)異物進(jìn)行清洗，例如清洗30s后，驅(qū)動(dòng)伸縮提升機(jī)構(gòu)202將第一清潔裝置201再次提升，例如提升至距離工作面101大于等于5cm的位置，再移動(dòng)至第二清潔裝置3中，將第二清潔裝置3的開合式罩蓋蓋上后，對(duì)第一清潔裝置201進(jìn)行清洗。可人工手動(dòng)操作使涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作狀態(tài)，繼續(xù)接收下一片基板，進(jìn)行涂布生產(chǎn)。

例如，上述清潔滾輪的清潔表面2011可為布材質(zhì)，例如清潔表面2011的材質(zhì)為十級(jí)無塵布，可以進(jìn)行清洗和更換，可對(duì)工作面101的異物達(dá)到較好的清潔效果。

利用本實(shí)施例提供的涂布機(jī)可實(shí)現(xiàn)利用第一清潔裝置清潔工作面的異物從而避免人員進(jìn)入設(shè)備進(jìn)行手動(dòng)清潔，操作方便，提高了效率；也無需將設(shè)備停機(jī)，不僅能夠減少對(duì)稼動(dòng)率的影響，并且可以避免復(fù)機(jī)過程中的光刻膠的浪費(fèi)。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供一種涂布系統(tǒng)，包括上述涂布機(jī)和檢測(cè)裝置。檢測(cè)裝置配置為對(duì)經(jīng)涂布機(jī)涂布光刻膠后的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，并且能夠發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)以用于控制涂布機(jī)的第一清潔裝置的移動(dòng)。

示范性地，圖3本實(shí)施例提供的一種涂布系統(tǒng)示意圖。如圖3所示，涂布系統(tǒng)100包括上述涂布機(jī)和檢測(cè)裝置5，能夠檢查出因涂布機(jī)機(jī)臺(tái)工作面上存在異物所導(dǎo)致的缺陷，能確定出異物的在工作面的位置，例如，首先，通過檢測(cè)裝置5對(duì)經(jīng)涂布機(jī)涂布光刻膠后的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，如果檢測(cè)結(jié)果反映為存在因工作面異物導(dǎo)致的缺陷，則檢測(cè)裝置5獲取工作面上異物的位置信息，并能夠發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)以用于控制涂布機(jī)的第一清潔裝置的移動(dòng)，該檢測(cè)結(jié)果信號(hào)包括涂布機(jī)工作面101上異物的位置信號(hào)。例如，檢測(cè)裝置5可以與數(shù)據(jù)鏈路連接，檢測(cè)裝置5的檢測(cè)結(jié)果信號(hào)可以通過該數(shù)據(jù)鏈路上傳，以用于控制涂布機(jī)的第一清潔裝置的移動(dòng)?；蛘撸绻麢z測(cè)結(jié)果反映為不存在因工作面異物導(dǎo)致的缺陷，則檢測(cè)裝置5不發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)。如此，可避免人工確定工作面上異物的位置，可實(shí)現(xiàn)將檢測(cè)結(jié)果的自動(dòng)反饋，簡(jiǎn)單方便，提高了效率，能夠減小因涂布機(jī)工作面出現(xiàn)異物而導(dǎo)致的不良對(duì)涂布制程的稼動(dòng)率造成的損失。

上述檢測(cè)裝置可以包括多種檢查機(jī)，例如可以是mura檢查機(jī)、光學(xué)自動(dòng)檢查機(jī)(aoi)或宏觀缺陷檢查機(jī)(macro)，或者是其中多種檢查機(jī)的組合，本實(shí)施例對(duì)檢測(cè)裝置的具體類型不作限定，只要其能夠檢測(cè)出在機(jī)臺(tái)工作面上出現(xiàn)的一種或多種異物并反饋相應(yīng)的位置信息即可。

在如3所示的示例中，涂布系統(tǒng)100還包括控制器6(控制單元)，控制器6配置為與涂布機(jī)和檢測(cè)裝置5信號(hào)連接，根據(jù)檢測(cè)結(jié)果信號(hào)控制涂布機(jī)的第一清潔裝置移動(dòng)以及執(zhí)行清潔操作。例如，檢測(cè)裝置5與控制器6可以通過有線或無線的方式實(shí)現(xiàn)信號(hào)連接，例如無線的方式包括wifi、藍(lán)牙等。例如，當(dāng)檢測(cè)裝置5檢測(cè)到因涂布機(jī)工作面101上存在異物而導(dǎo)致的不良時(shí)，首先，檢測(cè)裝置5通過數(shù)據(jù)鏈路將包括上述涂布機(jī)工作面101上異物的位置信號(hào)的檢測(cè)結(jié)果信號(hào)發(fā)送給控制器6；然后，控制器6對(duì)接收到的檢測(cè)結(jié)果信號(hào)進(jìn)行處理并據(jù)此控制涂布機(jī)的驅(qū)動(dòng)裝置4驅(qū)動(dòng)涂布機(jī)的第一清潔裝置201移動(dòng)到工作面上異物所在位置處，對(duì)異物進(jìn)行清洗。控制器6還能夠在第一清潔裝置201完成一次清潔之后，控制第二清潔裝置3對(duì)第一清潔裝置進(jìn)行清洗。本實(shí)施例中的第一清潔裝置201和第二清潔裝置3的具體工作過程請(qǐng)參考實(shí)施例一中的描述，在此不再贅述。

在本實(shí)施例中整個(gè)驅(qū)動(dòng)過程均由控制系統(tǒng)進(jìn)行控制，而無需人工手動(dòng)控制，實(shí)現(xiàn)了整個(gè)清潔過程的自動(dòng)化控制。這種方式不僅可以避免人工操作的不便，大大提高從檢測(cè)出不良到清潔完成的整個(gè)過程的效率，減少對(duì)稼動(dòng)率造成的損失，而且不需要人員進(jìn)入涂布機(jī)進(jìn)行清潔，可避免人員進(jìn)入設(shè)備內(nèi)給工作面帶來的二次污染風(fēng)險(xiǎn)及人員受傷風(fēng)險(xiǎn)。

例如，在本示例中，控制器6在接收到檢測(cè)結(jié)果信號(hào)后，首先控制涂布機(jī)切換至停止涂布工作狀態(tài)，例如控制涂布機(jī)切換至停止接收下一片基板的狀態(tài)，然后再根據(jù)檢測(cè)結(jié)果信號(hào)控制第一清潔裝置201移動(dòng)到工作面101上異物所在位置處，對(duì)異物進(jìn)行清洗。這樣可避免設(shè)備停機(jī)及復(fù)機(jī)，減少對(duì)稼動(dòng)率造成的損失，而且可以避免復(fù)機(jī)過程光刻膠的浪費(fèi)。

當(dāng)上述涂布系統(tǒng)完成一次清潔之后，控制器6能夠控制涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作，接收下一片基板，繼續(xù)進(jìn)行涂布工作。例如，可通過程序設(shè)定控制器6控制涂布機(jī)進(jìn)行一次清潔的時(shí)間，在一次清潔結(jié)束后，自動(dòng)切換至控制涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作?？刂破?完成一次工作面清潔工作之后，通常需要進(jìn)行清潔后檢測(cè)，本實(shí)施例提供的涂布系統(tǒng)可以通過人工操作檢測(cè)裝置5對(duì)涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作后生產(chǎn)的第一片基板進(jìn)行檢測(cè)，如果檢測(cè)到所述工作面上的異物已清除干凈，則檢測(cè)裝置5不發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)給控制系統(tǒng)，涂布機(jī)繼續(xù)保持涂布工作狀態(tài)；如果檢測(cè)到所述工作面上的異物仍未清除干凈，則將檢測(cè)結(jié)果信號(hào)發(fā)送給控制系統(tǒng)，由控制系統(tǒng)控制涂布機(jī)切換至停止涂布工作狀態(tài)并進(jìn)行下一次清潔，直至清潔干凈為止。相比于通常的人工手動(dòng)控制涂布機(jī)停機(jī)、人員進(jìn)入設(shè)備清洗的方式，在進(jìn)行清潔后檢測(cè)時(shí)，若發(fā)現(xiàn)一次清洗不干凈，要反復(fù)進(jìn)行人工手動(dòng)控制涂布機(jī)停機(jī)、人員進(jìn)入設(shè)備清洗，本實(shí)施例提供的涂布系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了整個(gè)清潔過程的自動(dòng)化控制，簡(jiǎn)單方便，可大大減少這種反復(fù)停機(jī)、人工清潔對(duì)稼動(dòng)率造成的損失。

在本公開的實(shí)施例中，控制器可以多種方式進(jìn)行配置和使用，例如，可以是專用計(jì)算機(jī)設(shè)備例如數(shù)字處理器(dsp)、可編程邏輯控制器(plc)等，也可以是通用計(jì)算設(shè)備例如中央處理單元(cpu)等?？刂破骺梢圆捎枚喾N配置方式，例如可以將控制器與涂布機(jī)的驅(qū)動(dòng)裝置電連接，也可以置于機(jī)臺(tái)內(nèi)部，通過程序來控制其實(shí)現(xiàn)上述對(duì)涂布機(jī)的控制工作。在本公開的實(shí)施例中對(duì)控制器的類型和配置方式不做限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)具體產(chǎn)品的需求來合理設(shè)計(jì)。

實(shí)施例三

本實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法，適用于上述涂布機(jī)，該方法包括：對(duì)經(jīng)涂布機(jī)涂覆光刻膠的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)；當(dāng)檢測(cè)到工作面有異物時(shí)，獲取工作面上異物的坐標(biāo)位置信號(hào)；驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置移動(dòng)到臟污所在位置進(jìn)行清潔。

例如，本實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法中，在驅(qū)動(dòng)所述第一清潔裝置移動(dòng)到所述異物的坐標(biāo)位置進(jìn)行清潔前，首先將所述涂布機(jī)切換至停止涂布工作狀態(tài)。

例如，本實(shí)施例提供一種涂布機(jī)清潔方法中，當(dāng)?shù)谝磺鍧嵮b置完成清潔動(dòng)作，使涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作狀態(tài)；對(duì)涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作狀態(tài)后涂覆光刻膠的基板進(jìn)行檢測(cè)，并判斷異物是否清除干凈；當(dāng)檢測(cè)到工作面上的異物仍未清除干凈，則繼續(xù)下一次清潔；或者當(dāng)檢測(cè)到工作面上的異物已清除干凈，則涂布機(jī)繼續(xù)保持涂布工作狀態(tài)。

需要說明的是，本公開的實(shí)施例中的當(dāng)?shù)谝磺鍧嵮b置完成清潔動(dòng)作或第一清潔裝置完成一次清潔指的是第一清潔裝置在工作面的異物處完成清潔并返回到第二清潔裝置中。

例如，圖4為本實(shí)施例的一個(gè)示例提供的一種涂布機(jī)清潔方法的簡(jiǎn)要流程圖。如圖4所示，本示例中的涂布機(jī)清潔方法可包括以下步驟。

第一，利用檢測(cè)裝置對(duì)經(jīng)過涂布機(jī)涂覆光刻膠的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，判斷是否存在因涂布機(jī)工作面存在異物而導(dǎo)致的缺陷，從而判斷工作面是否存在異物。

如果檢測(cè)結(jié)果反映工作面存在異物，則檢測(cè)裝置獲取異物的位置信號(hào)，并將包括該位置信號(hào)的檢測(cè)結(jié)果信號(hào)發(fā)送給控制器，例如，可以通過數(shù)據(jù)鏈路將檢測(cè)裝置與控制器連接，檢測(cè)裝置可通過該數(shù)據(jù)鏈路將該檢測(cè)結(jié)果信號(hào)發(fā)送給控制器?；蛘?，如果檢測(cè)結(jié)果反映為工作面不存在異物，則檢測(cè)裝置不發(fā)送檢測(cè)結(jié)果信號(hào)給控制器，涂布機(jī)正常工作。

第二，控制器接收到檢測(cè)結(jié)果信號(hào)后，首先控制涂布機(jī)切換至停止涂布工作狀態(tài)，例如，切換至停止接收下一片基板的狀態(tài)，這樣可以避免清潔完成前繼續(xù)進(jìn)行涂布工作而造成浪費(fèi)，并且不需要停機(jī)，避免停機(jī)、復(fù)機(jī)過程對(duì)稼動(dòng)率造成較大影響，然后控制涂布機(jī)的驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置移動(dòng)到工作面上異物的位置處進(jìn)行第一次清潔。該第一次清潔結(jié)束后，第一清潔裝置返回到第二清潔裝置中進(jìn)行清洗，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置和第二清潔裝置進(jìn)行一次清潔工作的具體過程請(qǐng)參考實(shí)施例一中的描述，在此不再贅述。

需要說明的是，檢測(cè)裝置對(duì)經(jīng)過涂布機(jī)涂覆光刻膠的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)可以是實(shí)時(shí)的，如果檢測(cè)出涂布機(jī)工作面存在異物，當(dāng)控制器接收到信號(hào)并控制涂布機(jī)切換至不再接收下一片基板的狀態(tài)后，如果此時(shí)工作面上存在還沒有完成涂覆的基板，則等待涂布機(jī)完成目前正在進(jìn)行的涂覆工作之后，控制器再控制驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)第一清潔裝置進(jìn)行清潔工作。

第三，當(dāng)?shù)谝淮吻鍧嵧瓿芍?，控制器控制涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作，繼續(xù)接收下一片基板，進(jìn)行涂布工作。

第四，進(jìn)行清潔后檢測(cè)，即通過檢測(cè)裝置對(duì)涂布機(jī)恢復(fù)涂布工作之后經(jīng)涂布機(jī)涂覆過光刻膠的第一片基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，確定其是否依然存在因涂布機(jī)工作面存在異物而導(dǎo)致的缺陷，從而判斷異物是否清除干凈。當(dāng)檢測(cè)檢測(cè)結(jié)果反映為工作面上的異物已清除干凈，則涂布機(jī)繼續(xù)保持涂布工作狀態(tài)；或者，當(dāng)檢測(cè)結(jié)果反映為工作面上的異物仍未清除干凈，則繼續(xù)下一次清潔，請(qǐng)參考上述第一到第三所述步驟，然后再重復(fù)步驟四，直至工作面上的異物清理干凈。

需要說明的是，為避免一些經(jīng)過多次清理也未能將異物清理干凈的情況，例如連續(xù)進(jìn)行三次清理之后，檢測(cè)結(jié)果仍然反映工作面上的異物未清理干凈，則此時(shí)可以進(jìn)行人工干預(yù)。

本實(shí)施例提供的涂布機(jī)清潔方法實(shí)現(xiàn)了整個(gè)清潔過程的自動(dòng)化控制，但也可以根據(jù)具體情況進(jìn)行人工干預(yù)。與通常的清潔方法相比，這種方式不僅可以避免人工確認(rèn)操作的不便和停機(jī)再?gòu)?fù)機(jī)，能夠大大提高清潔過程的效率，減少對(duì)稼動(dòng)率造成的損失，而且不需要人員進(jìn)入涂布機(jī)進(jìn)行清潔，可避免人員進(jìn)入設(shè)備內(nèi)給工作面帶來的二次污染風(fēng)險(xiǎn)及人員受傷風(fēng)險(xiǎn)。

以上所述僅是本發(fā)明的示范性實(shí)施方式，而非用于限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，本發(fā)明的保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求確定。