1.一種利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，包括：
噴嘴，用于將包含固體粒子的二氧化碳噴射在清洗對象物上；
清洗平臺，在上部放置有所述清洗對象物；
腔室，內(nèi)部配備有所述噴嘴和清洗平臺；
控制部，通過所述噴嘴而控制所述二氧化碳的噴射，從而去除在所述清洗對象物的表面殘留的異物。
2.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述清洗對象物是用于在基板上沉積有機(jī)物的掩膜。
3.如權(quán)利要求2所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述掩膜形成有用于在基板上沉積有機(jī)物的孔，
從所述噴嘴噴射的二氧化碳固體化成小于所述孔的大小。
4.如權(quán)利要求2所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
從所述噴嘴以液體狀態(tài)噴射后相變成固態(tài)的二氧化碳的粒子大小為0.1μm至100μm。
5.如權(quán)利要求2所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述清洗平臺由在進(jìn)行清洗工序時利用靜電力而固定所述清洗對象物的靜電卡盤形成。
6.如權(quán)利要求2所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述清洗平臺由在進(jìn)行清洗工序時利用磁力而固定所述清洗對象物的磁性卡盤形成。
7.如權(quán)利要求2所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，配備有：
保溫單元，用于將所述掩膜的溫度維持在預(yù)設(shè)溫度下。
8.如權(quán)利要求7所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述保溫單元由配備于所述清洗平臺內(nèi)部的加熱器構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述腔室的內(nèi)部為大氣壓或者真空氛圍的情況下進(jìn)行清洗。
10.如權(quán)利要求9所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述腔室內(nèi)部供應(yīng)有常溫的氮的狀態(tài)下進(jìn)行清洗。
11.如權(quán)利要求9所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述腔室的內(nèi)部為真空的情況下，在向被噴射所述二氧化碳的清洗對象物噴射常溫的氮的狀態(tài)下進(jìn)行清洗。
12.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述噴嘴配備有：排出空間部，用于臨時存儲液體狀態(tài)的二氧化碳；狹縫形態(tài)的排出口，用于使在從所述排出空間部供應(yīng)的液體狀態(tài)的二氧化碳在被排出以后，相變成固體狀態(tài)。
13.如權(quán)利要求12所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述排出空間部和排出口之間，形成有多個以微管形狀形成的連接流路，在所述連接流路的端部連接有所述狹縫形態(tài)的排出口。
14.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述噴嘴的排出口外側(cè)表面被進(jìn)行了疏水性表面處理。
15.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，配備有：
虛設(shè)區(qū)域，用于在向所述清洗對象物噴射二氧化碳之前，提前從所述噴嘴噴射二氧化碳；
移送部，用于移動所述清洗平臺和虛設(shè)區(qū)域或者移動所述噴嘴，以使所述噴嘴位于所述清洗平臺和虛設(shè)區(qū)域中的某一個的上部。
16.如權(quán)利要求15所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在向所述虛設(shè)區(qū)域噴射二氧化碳的情況下，進(jìn)行噴射直到排出口的周圍溫度達(dá)到預(yù)設(shè)的溫度。
17.如權(quán)利要求15所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在向所述虛設(shè)區(qū)域噴射二氧化碳的情況下，持續(xù)噴射預(yù)定時間。
18.如權(quán)利要求15所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
在所述虛設(shè)區(qū)域配備有用于感測噴射的二氧化碳的沖擊量的沖擊量感測傳感器，
所述控制部判斷所述被感測的沖擊量是否適當(dāng)。
19.如權(quán)利要求1所述的利用二氧化碳的清洗裝置，其特征在于，
所述二氧化碳以雪狀噴射。
20.一種干濕式復(fù)合清洗系統(tǒng)，其特征在于，包括：
干式清洗部，包含CO2清洗部，向清洗對象物噴射包括固體粒子的二氧化碳而進(jìn)行清洗；
濕式清洗部，用于將在所述干式清洗部中完成清洗的清洗對象物浸泡在清洗液而進(jìn)行清洗。
21.如權(quán)利要求20所述的干濕式復(fù)合清洗系統(tǒng)，其特征在于，
所述干式清洗部還包括：等離子體清洗部，利用等離子體而在大氣壓或真空氛圍下對在所述CO2清洗部中完成清洗的清洗對象物進(jìn)行清洗。
22.如權(quán)利要求21所述的干濕式復(fù)合清洗系統(tǒng)，其特征在于，
在所述CO2清洗部配備有用于噴射所述二氧化碳的噴嘴，以及用于在上部放置所述清洗對象物的清洗平臺；
在所述清洗平臺配備有能夠?qū)⑺銮逑磳ο笪锏臏囟缺３诸A(yù)設(shè)溫度的保溫單元，以及用于將所述清洗對象物的溫度冷卻至預(yù)設(shè)溫度的冷卻單元，
所述保溫單元在所述CO2清洗部進(jìn)行清洗工序的過程中工作，所述冷卻單元在所述等離子體清洗部中進(jìn)行清洗工序的過程中工作。
23.如權(quán)利要求21所述的干濕式復(fù)合清洗系統(tǒng)，其特征在于，
所述干式清洗部還包括：超聲波清洗部，利用超聲波而對在所述等離子體清洗部中完成清洗的對象物進(jìn)行清洗。
24.如權(quán)利要求20所述的干濕式復(fù)合清洗系統(tǒng)，其特征在于，
所述CO2清洗部包括：
噴嘴，用于噴射所述二氧化碳；
清洗平臺，在上部放置有所述清洗對象物；
大氣壓或真空氛圍的腔室，在內(nèi)部配備有所述噴嘴和清洗平臺。