專利名稱：電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及水處理系統(tǒng)相關(guān)設(shè)備，具體的說是一種電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置。
背景技術(shù)：
目前，在水處理系統(tǒng)中通常會(huì)采用電化去離子(EDI)系統(tǒng)作為深度除鹽的設(shè)備，其原理就是利用混合離子交換樹脂吸附水中的陰陽離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子膜而被去除。EDI系統(tǒng)兩個(gè)淡水室和一個(gè)濃水室離子交換過程為面向正極的陰離子膜與面向負(fù)極的陽離子膜之間構(gòu)成濃水室；面向負(fù)極的陰離子膜與面向正極的陽離子膜之間組成淡水室。淡水室和濃水室中間夾著陰、陽離子樹脂，當(dāng)水從淡水室和濃水室流過時(shí)，離子交換樹脂就吸附了水中的離子，在EDI模塊兩端的電極提供了橫向的直流電場(chǎng)，直流電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)離子交換樹脂所吸附的離子穿過離子膜，其結(jié)果是降低了淡水室中水的離子濃度和增加了濃水室中水的離子濃度，從而使得淡水室中水的純度越來越高。根據(jù)EDI系統(tǒng)進(jìn)水水質(zhì)最低要求，前處理系統(tǒng)一般采用預(yù)處理系統(tǒng)及二級(jí)反滲透 (RO)系統(tǒng)，其出水水質(zhì)基本能滿足模塊進(jìn)水要求，但是EDI系統(tǒng)進(jìn)水要求水中的最大總氯含量(Cl2) < 0. 02ppm，而水處理系統(tǒng)水源一般采用的都是城市自來水，自來水廠會(huì)在水中加入消毒劑。在水處理設(shè)備中的預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)于這些消毒劑的去除，通常采用的是活性炭吸附及添加藥劑來進(jìn)行還原處理，這些處理方式會(huì)有所限制，比如說活性炭失效，藥劑未添加或添加濃度不夠等。EDI系統(tǒng)進(jìn)水控制余氯、總氯的含量非常關(guān)鍵，一旦控制不好將會(huì)導(dǎo)致模塊氧化而造成重大損失。要想檢測(cè)監(jiān)控EDI進(jìn)水的余氯或總氯含量，可以采用在線的余氯/總氯在線檢測(cè)儀，但由于該設(shè)備價(jià)格較高，維護(hù)復(fù)雜，一般不會(huì)采用。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提出一種電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，能有效避免因?yàn)檫M(jìn)水余氯超標(biāo)而造成的EDI系統(tǒng)樹脂氧化。本實(shí)用新型解決以上技術(shù)問題的技術(shù)方案是電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，包括電化去離子模塊和純水箱，電化去離子模塊上接有進(jìn)水管、出水管、濃水排放管和極水排放管，出水管接至純水箱，進(jìn)水管上接有氧化還原電位檢測(cè)儀。本實(shí)用新型進(jìn)一步限定的技術(shù)方案是前述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，氧化還原電位檢測(cè)儀通過一個(gè)ORP電極接到進(jìn)水管上。前述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，出水管還通過一個(gè)電磁閥接至回流管。前述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，出水管上接有水質(zhì)計(jì)。前述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，進(jìn)水管、出水管、濃水排放管和極水排放管上都接有流量計(jì)。前述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，出水管通過電磁閥接至純水箱。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型在純水設(shè)備中采用氧化還原電位檢測(cè)儀可以用來間接表征余氯的含量，進(jìn)而保證EDI系統(tǒng)不受余氯侵蝕，能有效避免因?yàn)檫M(jìn)水余氯超標(biāo)而造成的EDI系統(tǒng)樹脂氧化，相對(duì)在線余氯檢測(cè)儀，連接簡單，具有更高的性價(jià)比。

圖1是本實(shí)用新型的連接示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1本實(shí)施例提供的一種電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，連接如圖1所示，包括電化去離子模塊1和純水箱2，電化去離子模塊1上接有進(jìn)水管3、出水管4、濃水排放管5和極水排放管6，出水管4接至純水箱2，進(jìn)水管3上接有氧化還原電位檢測(cè)儀7 (0RP檢測(cè)儀)。0RP，氧化還原電位，是英文Oxidation-Reduction Potential的簡稱，它表征介質(zhì)氧化性或還原性的相對(duì)程度，單位為mv。出水管4還通過一個(gè)電磁閥9接至回流管10。出水管4通過電磁閥9接至純水箱2。出水管4上接有水質(zhì)計(jì)11。進(jìn)水管3、出水管4、濃水排放管5和極水排放管6上都接有流量計(jì)12。在純水設(shè)備中采用ORP表可以用來間接表征余氯的含量，進(jìn)而保證EDI模塊不受余氯侵蝕。相對(duì)在線余氯檢測(cè)儀，具有更高的性價(jià)比。余氯含量多，氧化性強(qiáng)，氧化還原電位高；余氯含量少，還原性強(qiáng)，氧化還原電位低。氧化還原電位檢測(cè)儀7通過一個(gè)ORP電極8接到進(jìn)水管3上。但氧化還原電位會(huì)受到PH和水中其他物質(zhì)的影響，所以在ORP表在線使用前，一般會(huì)對(duì)照便攜式余氯檢測(cè)儀表，對(duì)ORP表進(jìn)行數(shù)值核定，確定一定余氯濃度下的氧化還原電位數(shù)值，在純水設(shè)備運(yùn)行時(shí)，控制還原劑的添加量，使氧化還原電位低于這個(gè)數(shù)值即可。一般情況下，水中的余氯含量要小于0. 02PPM,則ORP表數(shù)值會(huì)在在+175mv以下。本實(shí)用新型在預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)水中余氯或總氯處理不徹底時(shí)，能有效地起到保護(hù)作為，避免造成更大的不可挽回的損失，同時(shí)投入成本也是非常的低。除上述實(shí)施例外，本實(shí)用新型還可以有其他實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，包括電化去離子模塊和純水箱，所述電化去離子模塊上接有進(jìn)水管、出水管、濃水排放管和極水排放管，所述出水管接至所述純水箱，其特征在于所述進(jìn)水管上接有氧化還原電位檢測(cè)儀。
2.如權(quán)利要求1所述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，其特征在于所述氧化還原電位檢測(cè)儀通過一個(gè)ORP電極接到所述進(jìn)水管上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，其特征在于所述出水管還通過一個(gè)電磁閥接至回流管。
4.如權(quán)利要求1或2所述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，其特征在于所述出水管上接有水質(zhì)計(jì)。
5.如權(quán)利要求1或2所述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，其特征在于所述進(jìn)水管、出水管、濃水排放管和極水排放管上都接有流量計(jì)。
6.如權(quán)利要求1或2所述的電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，其特征在于所述出水管通過電磁閥接至所述純水箱。
專利摘要本實(shí)用新型涉及水處理系統(tǒng)相關(guān)設(shè)備，是一種電化去離子系統(tǒng)防氧化保護(hù)裝置，包括電化去離子模塊和純水箱，電化去離子模塊上接有進(jìn)水管、出水管、濃水排放管和極水排放管，出水管接至純水箱，進(jìn)水管上接有氧化還原電位檢測(cè)儀。本實(shí)用新型在純水設(shè)備中采用氧化還原電位檢測(cè)儀可以用來間接表征余氯的含量，進(jìn)而保證EDI系統(tǒng)不受余氯侵蝕，能有效避免因?yàn)檫M(jìn)水余氯超標(biāo)而造成的EDI系統(tǒng)樹脂氧化，相對(duì)在線余氯檢測(cè)儀，具有更高的性價(jià)比。
文檔編號(hào)C02F1/469GK202246189SQ20112037696
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月29日
發(fā)明者蔣建偉 申請(qǐng)人:南京奧特凈化工程有限公司