專利名稱：一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氧化鋁陶瓷管制備過程中用的裝置及方法，具體涉及ー種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置及方法。
背景技術(shù)：
陶瓷金鹵燈是當(dāng)今全世界最先進(jìn)的節(jié)能光源之一，它具有光效高、壽命長(zhǎng)、顯色性好、結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用在機(jī)場(chǎng)、碼頭、道路、商場(chǎng)、賓館等室內(nèi)外照明，是最理想的光源之一。陶瓷金鹵燈的外殼(氧化鋁陶 瓷管)是制作陶瓷金鹵燈的關(guān)鍵部件。注漿法ー件式的氧化鋁陶瓷管，由于腔體的體積難以控制，尺寸一致性差，效率低等原因也限制了規(guī)模化生產(chǎn)。一件式機(jī)壓燒結(jié)成型法制作エ藝非常復(fù)雜，從配方一球磨一噴霧造粒一加料(カロ料前在模具內(nèi)先放入一個(gè)帶芯桿的蠟球)一壓制一脫摸一拔芯桿一排蠟一素?zé)粧伖庖粺Y(jié)一切割一清洗一檢驗(yàn)一成品，其成型非常困難，從而制約了エ業(yè)化、規(guī)?；纳a(chǎn)。特別是在成型制備過程中的排蠟エ藝，須將氧化鋁電弧管坯體中的模芯蠟排除?，F(xiàn)通常采用烘箱排蠟，往往排蠟不浄，坯體內(nèi)留有蠟痕，使產(chǎn)品質(zhì)量存在嚴(yán)重缺陷，成品率低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置及方法，脫蠟升溫快，溫度均勻，不僅排蠟干凈徹底，而且效率高，利于規(guī)模化生產(chǎn)。本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置，包括支撐架、爐體、加熱器、金屬圓盤和控制器；所述爐體由支撐架支撐，所述爐體內(nèi)設(shè)有用于放置金屬圓盤的支架，所述金屬圓盤上設(shè)有若干放置坯體的孔，所述孔的尺寸為坯體的尾管部分插入其中而腔體部分?jǐn)R在上面且平穩(wěn)放置，所述各孔的間距為放置坯體后保持坯體間10 20mm的間距，所述加熱器底部設(shè)有進(jìn)氣ロ，并與爐體連通，所述爐體上方還依次設(shè)有控制器和排風(fēng)裝置，所述爐體下方設(shè)有接蠟盤，所述接蠟盤固定于支撐架上。作為ー種優(yōu)選，所述排風(fēng)裝置包括排風(fēng)罩和排風(fēng)機(jī)。ー種使用如上述裝置排蠟的方法如下
第一歩，從爐體內(nèi)取出金屬圓盤，將需要排蠟的坯體垂直放在金屬圓盤的孔內(nèi)，然后將金屬圓盤放入爐體內(nèi)的支架上，加熱器底部的進(jìn)氣ロ與浄化的壓縮空氣源連接；
第二歩，在控制器的控制下，壓縮空氣經(jīng)進(jìn)氣ロ進(jìn)入加熱器進(jìn)行加熱，控制壓縮空氣的壓カ為0. I 0. 3kg/m3，壓縮空氣的加熱溫度為120°C 200°C之間；
第三歩，熱空氣由下向上均勻地進(jìn)入爐體對(duì)坯體進(jìn)行加熱，坯體內(nèi)的蠟即開始慢慢熔化，滴入接蠟盤中，直至坯體內(nèi)的蠟排凈；經(jīng)爐體后的熱空氣由排風(fēng)裝置排出；
第四步，停止加熱，自然冷卻，取出金屬圓盤，然后取下坯體即可。本發(fā)明適用于20w 2000 的陶瓷金鹵燈用氧化鋁陶瓷管的制備。本發(fā)明的有益效果是采用熱風(fēng)排蠟代替烘箱排蠟，熱風(fēng)是由下向上逐漸加熱，符合脫蠟エ藝原理，溫度更均勻，排蠟更干凈，提高產(chǎn)品質(zhì)量和合格率；設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，排蠟時(shí)間短，提高生產(chǎn)效率，利于規(guī)?；a(chǎn)。


圖I為本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本發(fā)明實(shí)施例金屬圓盤的俯視示意圖。下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)ー步說明。
具體實(shí)施方式

如圖I、圖2所示，一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置，包括支撐架3、爐體I、加熱器4、金屬圓盤5和控制器6 ;爐體I由支撐架3支撐，爐體I內(nèi)設(shè)有用于放置金屬圓盤5的支架2，在金屬圓盤5上設(shè)有若干放置坯體10的孔11，該孔的尺寸為坯體10的尾管部分插入其中而腔體部分?jǐn)R在上面且平穩(wěn)放置，各孔11的間距為放置坯體10后保持坯體間10 20mm的間距；加熱器4底部設(shè)有進(jìn)氣ロ，并與爐體I連通，在爐體I上方還依次設(shè)有控制器6和排風(fēng)裝置，該排風(fēng)裝置包括排風(fēng)罩8和排風(fēng)機(jī)9，在爐體I下方設(shè)有接蠟盤7，接蠟盤7固定于支撐架3上。采用如上述裝置排蠟的方法如下
第一歩，從爐體I內(nèi)取出金屬圓盤5，將需要排蠟的坯體10垂直放在金屬圓盤5的孔11內(nèi)，然后將金屬圓盤5放入爐體I內(nèi)的支架2上，加熱器4底部的進(jìn)氣ロ與凈化的壓縮空氣源連接；
第二步，在控制器6的控制下，壓縮空氣經(jīng)進(jìn)氣ロ進(jìn)入加熱器4進(jìn)行加熱，控制壓縮空氣的壓カ為0. I 0. 3kg/m3，壓縮空氣的加熱溫度為120°C 200°C之間；
第三歩，熱空氣由下向上均勻地進(jìn)入爐體I對(duì)坯體10進(jìn)行加熱，坯體10內(nèi)的蠟即開始慢慢熔化，滴入接蠟盤7中，直至坯體10內(nèi)的蠟排凈；經(jīng)爐體I后的熱空氣由排風(fēng)裝置排出；
第四步，停止加熱，自然冷卻，取出金屬圓盤5，然后取下坯體10即可。
權(quán)利要求
1.一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置，其特征在于包括支撐架(3)、爐體(I)、加熱器(4)、金屬圓盤(5)和控制器(6);所述爐體(I)由支撐架(3)支撐，所述爐體(I)內(nèi)設(shè)有用于放置金屬圓盤(5)的支架(2)，所述金屬圓盤(5)上設(shè)有若干放置坯體(10)的孔(11)，所述孔的尺寸為坯體(10)的尾管部分插入其中而腔體部分?jǐn)R在上面且平穩(wěn)放置，所述各孔(11)的間距為放置坯體(10)后保持坯體間10 20mm的間距，所述加熱器(4)底部設(shè)有進(jìn)氣口，并與爐體(I)連通，所述爐體(I)上方還依次設(shè)有控制器(6 )和排風(fēng)裝置，所述爐體(I)下方設(shè)有接蠟盤(7)，所述接蠟盤(7)固定于支撐架(3)上。
2.如權(quán)利要求I所述氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置，其特征在于所述排風(fēng)裝置包括排風(fēng)罩(8)和排風(fēng)機(jī)(9)。
3.一種使用如權(quán)利要求I所述裝置排蠟的方法，其特征在于 第一步，從爐體(I)內(nèi)取出金屬圓盤(5),將需要排臘的還體(10)垂直放在金屬圓盤(5)的孔(11)內(nèi)，然后將金屬圓盤(5)放入爐體(I)內(nèi)的支架(2)上，加熱器(4)底部的進(jìn)氣口與凈化的壓縮空氣源連接； 第二步，在控制器(6)的控制下，壓縮空氣經(jīng)進(jìn)氣口進(jìn)入加熱器(4)進(jìn)行加熱，控制壓縮空氣的壓力為O. I O. 3kg/m3，壓縮空氣的加熱溫度為120°C 200°C之間； 第三步，熱空氣由下向上均勻地進(jìn)入爐體(I)對(duì)坯體(10)進(jìn)行加熱,坯體(10)內(nèi)的蠟即開始慢慢熔化，滴入接蠟盤(7)中，直至坯體(10)內(nèi)的蠟排凈；經(jīng)爐體(I)后的熱空氣由排風(fēng)裝置排出； 第四步，停止加熱，自然冷卻，取出金屬圓盤(5)，然后取下坯體(10)即可。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氧化鋁陶瓷管制備過程中排蠟的裝置及方法，該裝置包括支撐架、爐體、加熱器、金屬圓盤和控制器；爐體由支撐架支撐，爐體內(nèi)設(shè)有用于放置金屬圓盤的支架，金屬圓盤上設(shè)有若干放置坯體的孔，孔的尺寸為坯體的尾管部分插入其中而腔體部分?jǐn)R在上面且平穩(wěn)放置，各孔的間距為放置坯體后保持坯體間10～20mm的間距，加熱器底部設(shè)有進(jìn)氣口，并與爐體連通，爐體上方還依次設(shè)有控制器和排風(fēng)裝置，爐體下方設(shè)有接蠟盤，接蠟盤固定于支撐架上。本發(fā)明采用熱風(fēng)排蠟代替烘箱排蠟，熱風(fēng)是由下向上逐漸加熱，溫度更均勻，排蠟更干凈，提高產(chǎn)品質(zhì)量和合格率；設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，排蠟時(shí)間短，提高生產(chǎn)效率，利于規(guī)模化生產(chǎn)。
文檔編號(hào)F27B17/00GK102767947SQ20121028626
公開日2012年11月7日 申請(qǐng)日期2012年8月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月14日
發(fā)明者易敏, 董善和, 費(fèi)月明, 金衛(wèi)國(guó) 申請(qǐng)人:海寧新光陽光電有限公司