本發(fā)明涉及一種用于膜面整形的方法及裝置,屬于薄膜整形技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
薄膜是一種厚度介于單原子到幾毫米間的薄而軟的金屬或有機(jī)物層,可分為光學(xué)薄膜、復(fù)合薄膜、超導(dǎo)薄膜、聚酯薄膜、尼龍薄膜、塑料薄膜等等,已被廣泛用于電子電器、機(jī)械、印刷、醫(yī)療衛(wèi)生、建筑、汽車(chē)、包裝、農(nóng)用、軍事等各個(gè)領(lǐng)域。由于薄膜的制作工藝復(fù)雜,涉及涂布、萃取、分切、卷取等多個(gè)工序,需要經(jīng)過(guò)多次過(guò)輥和收卷操作,而目前薄膜在制作過(guò)程中的過(guò)輥和收卷只能靠自身的張力、壓力使膜面趨向于平坦,或使用固定成型的展平輥,展平效果只能起到局部,但大部分時(shí)候得不到理想效果,特別是膜面較薄,幅寬較寬時(shí),因膜內(nèi)部應(yīng)力、受力不均及厚度的一致性較差等緣故,容易使膜面在過(guò)輥中出現(xiàn)折皺、邊緣翻邊、成卷后表面隆起等問(wèn)題,嚴(yán)重影響了產(chǎn)品外觀(guān)和質(zhì)量,以及容易導(dǎo)致薄膜在收卷后產(chǎn)生塌邊、松弛、折皺、波浪紋等變形情況,如果將這樣的薄膜再去進(jìn)行印刷、表面刻蝕或應(yīng)用到濕法鋰離子電池隔膜涂布陶瓷漿料時(shí),將不可避免的會(huì)出現(xiàn)薄膜涂布不上、印刷不均勻等后果,以致直接影響到最終薄膜產(chǎn)品的外觀(guān)品質(zhì)及性能。
為了提高已經(jīng)發(fā)生松垮現(xiàn)象的薄膜卷的平整度,使得薄膜起皺和形變的現(xiàn)象得到改善,從而將本應(yīng)被廢棄的薄膜卷重新“拯救”回來(lái)應(yīng)用到產(chǎn)品上,以減少薄膜卷的浪費(fèi),中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)cn201410750148.7提供了一種薄膜整形裝置,包括第一主動(dòng)輥和烘烤裝置,所述第一主動(dòng)輥置于所述烘烤裝置內(nèi),所述第一主動(dòng)輥連接有第一驅(qū)動(dòng)裝置,所述薄膜卷連接有第二驅(qū)動(dòng)裝置;使薄膜從所述薄膜卷上放卷出來(lái)后經(jīng)過(guò)所述第一主動(dòng)輥,然后從所述烘烤裝置內(nèi)引出,該發(fā)明通過(guò)將薄膜以松弛的狀態(tài)經(jīng)過(guò)烘烤區(qū),使薄膜在溫度作用下發(fā)生一定程度的均值收縮,從而改變?cè)人煽宓谋∧さ氖湛s不均現(xiàn)象,使原本起皺的薄膜的表面恢復(fù)平整,達(dá)到“拯救”松垮的薄膜的目的。雖然該技術(shù)對(duì)塌陷寬度極限≤40mm的膜面局布塌陷能起到改善效果,但對(duì)于塌陷寬度大于40mm的膜面塌陷缺陷不能實(shí)現(xiàn)整形,并且膜面折皺、暴筋產(chǎn)生的印跡通過(guò)此技術(shù)不能消除和改善,以致再次收卷會(huì)加劇折皺、暴筋不良概率,以及導(dǎo)致漏涂問(wèn)題,關(guān)鍵是,采用該技術(shù)處理時(shí)的在線(xiàn)運(yùn)行速度不能高于40m/min,導(dǎo)致整形工作效率低下,不符合產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的是提供一種整形效果好且工作效率高的用于膜面整形的方法及裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種用于膜面整形的方法,包括如下步驟:
s1)對(duì)薄膜進(jìn)行加熱展平;
s2)對(duì)加熱展平后的薄膜進(jìn)行張力截?cái)啵?/p>
s3)對(duì)進(jìn)行張力截?cái)嗪蟮谋∧みM(jìn)行冷卻定型;
s4)對(duì)冷卻定型后的薄膜再次進(jìn)行張力截?cái)唷?/p>
作為優(yōu)選方案,進(jìn)行加熱展平的溫度范圍為30~85℃。
作為優(yōu)選方案,進(jìn)行冷卻定型的溫度范圍為20~-20℃。
一種用于膜面整形的裝置,包括至少一個(gè)展平加熱輥和至少一個(gè)展平冷卻輥,所述展平加熱輥設(shè)置于所述展平冷卻輥的前端,并且,在展平加熱輥與展平冷卻輥之間設(shè)有用于截?cái)鄰埩Φ膲狠乤,在展平冷卻輥的后端也設(shè)有用于截?cái)鄰埩Φ膲狠乥。
作為優(yōu)選方案,所述展平加熱輥為兩個(gè),且兩個(gè)展平加熱輥的旋轉(zhuǎn)方向相反。
作為優(yōu)選方案,所述展平冷卻輥也為兩個(gè),且兩個(gè)展平冷卻輥的旋轉(zhuǎn)方向相反。
另外,本發(fā)明所述的展平加熱輥是指具有加熱功能的展平輥,可以采用加熱輥的加熱系統(tǒng)和展平輥的輥面形狀制得;所述展平冷卻輥是指具有冷卻功能的展平輥,可以采用冷卻輥的冷卻系統(tǒng)和展平輥的輥面形狀制得。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益技術(shù)效果在于:
實(shí)驗(yàn)表明:采用本發(fā)明所述的用于膜面整形的方法和裝置,不僅薄膜的在線(xiàn)運(yùn)行速度可高達(dá)100m/min以上,整形效率得到明顯提高,而且可使塌陷寬度≤200mm的膜面缺陷都能有效展平,并且對(duì)膜面折皺、暴筋產(chǎn)生的印跡也能完全消除,可明顯提高薄膜的平整度;另外,采用輥式結(jié)構(gòu),不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作容易,而且易于滿(mǎn)足不同幅寬的薄膜整形要求。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明實(shí)施例1提供的一種用于膜面整形的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例2提供的另一種用于膜面整形的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中標(biāo)號(hào)示意如下:1、展平加熱輥;2、展平冷卻輥;3、壓輥a;4、壓輥b;5、薄膜。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步詳細(xì)描述。
實(shí)施例1
請(qǐng)參見(jiàn)圖1所示,本實(shí)施例提供的一種用于膜面整形的裝置,包括一個(gè)展平加熱輥1、一個(gè)展平冷卻輥2,所述展平加熱輥1設(shè)置于所述展平冷卻輥2的前端,并且,在展平加熱輥1與展平冷卻輥2之間設(shè)有用于截?cái)鄰埩Φ膲狠乤3,在展平冷卻輥2的后端也設(shè)有用于截?cái)鄰埩Φ膲狠乥4。
薄膜5先經(jīng)過(guò)展平加熱輥1進(jìn)行加熱展平,然后由壓輥a3進(jìn)行張力截?cái)嗪蠼?jīng)過(guò)展平冷卻輥2進(jìn)行冷卻定型,再經(jīng)過(guò)壓輥b4進(jìn)行張力截?cái)嗪筮M(jìn)行收卷,即得到整形后的膜面平整的薄膜。
進(jìn)行加熱展平的溫度范圍優(yōu)選為30~85℃,進(jìn)行冷卻定型的溫度范圍優(yōu)選為20~-20℃,具體加熱展平的溫度可根據(jù)薄膜5的實(shí)際不良程度進(jìn)行調(diào)節(jié),例如:若膜面缺陷較寬、印跡較深,可選擇較高溫度,若不良缺陷較小,可選擇較低溫度。
實(shí)施例2
請(qǐng)參見(jiàn)圖2所示,本實(shí)施例提供的用于膜面整形的裝置與實(shí)施例1的不同之處僅在于:所述的用于膜面整形的裝置包括兩個(gè)展平加熱輥1及兩個(gè)展平冷卻輥2,且兩個(gè)展平加熱輥1的旋轉(zhuǎn)方向相反,兩個(gè)展平冷卻輥2的旋轉(zhuǎn)方向相反;使薄膜5以s形式依次經(jīng)過(guò)兩個(gè)展平加熱輥1、壓輥a3、兩個(gè)展平冷卻輥2及壓輥b4,可使薄膜的正反面均能得到加熱展平及冷卻定型,不僅整形效果更好,而且整形效率更高。
另外,本發(fā)明所述的展平加熱輥是指具有加熱功能的展平輥,可以采用加熱輥的加熱系統(tǒng)和展平輥的輥面形狀制得;所述展平冷卻輥是指具有冷卻功能的展平輥,可以采用冷卻輥的冷卻系統(tǒng)和展平輥的輥面形狀制得。
實(shí)驗(yàn)表明:采用本發(fā)明的上述用于膜面整形的方法和裝置,薄膜在線(xiàn)運(yùn)行速度可高達(dá)100m/min以上,具體可根據(jù)展平加熱輥的溫度高低及膜面缺陷情形進(jìn)行薄膜在線(xiàn)運(yùn)行速度的調(diào)節(jié),例如:若展平加熱輥的溫度較高,可使薄膜在線(xiàn)運(yùn)行速度快一些;若需要整形的膜面缺陷較小,也可使薄膜在線(xiàn)運(yùn)行速度快一些。另外,在展平加熱后及冷卻定型后均采用壓輥進(jìn)行張力截?cái)?,避免了張力累積對(duì)薄膜產(chǎn)生的不利影響,不僅可使塌陷寬度≤200mm的膜面塌陷缺陷都能有效展平,而且對(duì)膜面折皺、暴筋產(chǎn)生的印跡也能完全消除,可明顯提高薄膜的平整度。另外,采用輥式結(jié)構(gòu),不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作容易,而且易于滿(mǎn)足不同幅寬的薄膜整形要求。
最后有必要在此指出的是:以上所述僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到的變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。