技術(shù)特征：

1.一種拋光漿料組合物，其特征在于，包含：

磨料粒子；以及

氧化劑，

所述拋光漿料組合物拋光具有至厚度的鎢，且改善鎢的形貌。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述磨料粒子包含選自由金屬氧化物、涂布有有機(jī)物或無機(jī)物的金屬氧化物、以及呈膠體狀的所述金屬氧化物組成的組中的至少一種，

所述金屬氧化物包含選自由硅石、二氧化鈰、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋇鈦、氧化鍺、氧化錳以及氧化鎂組成的組中的至少一種，

所述磨料粒子以0.5重量％至10重量％的量存在于所述拋光漿料組合物中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述氧化劑包含選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種：過氧化氫、硝酸亞鐵(II)、碘酸鉀、高錳酸鉀、硝酸、次氯酸銨、氯酸銨、碘酸銨、過硼酸銨、高氯酸銨、高碘酸銨、四甲基次氯酸銨、四甲基氯酸銨、四甲基碘酸銨、四甲基過硼酸銨、四甲基高氯酸銨、四甲基過碘酸銨、4-甲基嗎啉-N-氧化物、吡啶-N-氧化物以及過氧化氫脲，

所述氧化劑以0.005重量％至5重量％的量存在于所述拋光漿料組合物中。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述拋光漿料組合物不包含過氧化氫或包含小于1重量％的過氧化氫。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述拋光漿料組合物具有1至4的范圍的pH。

6.一種拋光漿料組合物，其特征在于，包含：

第一磨料粒子、第二磨料粒子、以及第三磨料粒子中的至少兩種以上的磨料粒子；以及

氧化劑，

其中，所述第一磨料粒子具有20nm至小于45nm的一次粒度，

所述第二磨料粒子具有45nm至小于130nm的一次粒度，

所述第三磨料粒子具有130nm至小于250nm的一次粒度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述第一磨料粒子具有30nm至小于100nm的二次粒度，

所述第二磨料粒子具有100nm至小于250nm的二次粒度，

所述第三磨料粒子具有250nm至小于500nm的二次粒度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述第一磨料粒子以10重量％至60重量％的量存在于整個磨料粒子中，

所述第二磨料粒子以10重量％至60重量％的量存在于整個磨料粒子中，

所述第三磨料粒子以10重量％至60重量％的量存在于整個磨料粒子中。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述第一磨料粒子、第二磨料粒子、以及第三磨料粒子獨立地包含選自由金屬氧化物、涂布有有機(jī)物或無機(jī)物的金屬氧化物、以及呈膠體狀的所述金屬氧化物組成的組中的至少一種，

所述金屬氧化物包含選自由硅石、二氧化鈰、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋇鈦、氧化鍺、氧化錳及氧化鎂組成的組中的至少一種。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述氧化劑包含選自由以下物質(zhì)組成的組中的至少一種：過氧化氫、硝酸亞鐵(II)、碘酸鉀、高錳酸鉀、次氯酸銨、氯酸銨、碘酸銨、過硼酸銨、高氯酸銨、高碘酸銨、四甲基次氯酸銨、四甲基氯酸銨、四甲基碘酸銨、四甲基過硼酸銨、四甲基高氯酸銨、四甲基過碘酸銨、4-甲基嗎啉-N-氧化物、吡啶-N-氧化物以及過氧化氫脲，

所述氧化劑以0.005重量％至5重量％的量存在于所述拋光漿料組合物中。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述拋光漿料組合物不包含過氧化氫或包含小于1重量％的過氧化氫。

12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述拋光漿料組合物進(jìn)一步包含選自由以下物質(zhì)組成的組中至少一種pH調(diào)節(jié)劑：

無機(jī)酸或無機(jī)酸鹽，其包含選自由鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、氫氟酸、溴酸、碘酸及其鹽組成的組中的至少一種；以及

有機(jī)酸或有機(jī)酸鹽，其包含選自由甲酸、丙二酸、馬來酸、草酸、醋酸、己二酸、檸檬酸、己二酸、乙酸、丙酸、富馬酸、乳酸、水楊酸、庚二酸、苯甲酸、琥珀酸、鄰苯二甲酸、丁酸、戊二酸、谷氨酸、乙醇酸、乳酸、天冬氨酸、果酸及其鹽組成的組中的至少一種。

13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

使用所述拋光漿料組合物對含鎢膜進(jìn)行拋光之后其表面的峰谷值為100nm以下，其表面粗糙度為10nm以下。

14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光漿料組合物，其特征在于，

所述磨料粒子的接觸面積為0.5至0.9，

通過以下公式1來計算所述接觸面積，

[公式1]

其中，A為接觸面積，C₀為磨料粒子的濃度wt％，為粒子的直徑(nm)。