吡唑衍生物的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及作為藥物、農(nóng)藥的中間體有用的吡唑基酮衍生物和吡唑-4-羧酸衍生 物等吡唑衍生物的新型制造方法、以及作為前述制造方法的中間體有用的新型化合物。
【背景技術(shù)】
[0002] 3-二氟甲基-1-甲基-IH-吡唑-4-羧酸和3-三氟甲基-1-甲基-IH-吡唑-4-羧酸為 P比挫基煙酰苯胺(pyrazoIyI carboxani I id)殺菌劑的制造中有用的中間體(例如參照專利 文獻1和2)。作為制造這些中間體的方法，已知有多種方法(例如參照非專利文獻1)。作為將 吡唑環(huán)的對應(yīng)的4位取代基轉(zhuǎn)化為羧基而得到羧酸的方法，通過將醛氧化為羧酸的方法來 制造(例如參照專利文獻3)。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0004] 專利文獻
[0005] 專利文獻1:國際公開公報第03/070705號
[0006] 專利文獻2:國際公開公報第03/074491號 [0007] 專利文獻3:國際公開公報第09/000441號
[0008] 非專利文獻
[0009] 非專利文獻I: Journal of Fluorine Chemistry 152(2013)2-11

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 發(fā)明要解決的問題
[0011] 本發(fā)明的課題在于，提供吡唑衍生物的新型且工業(yè)上有用的制造方法、作為前述 制造方法的中間體的新型化合物和該新型化合物的制造方法。
[0012] 用于解決問題的方案
[0013] 本發(fā)明者人等鑒于上述課題反復(fù)深入研究，結(jié)果完成了本發(fā)明。
[0014] 本發(fā)明如以下所述：
[0015] [1] -種下式(6)所示的吡挫衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(5)所示的化 合物和氧化劑反應(yīng)。
[0017] (其中，
[0018] R1為氫原子、鹵原子或Cl~8的鹵代烷基。
[0019] R2為Cl~8的烷基、C3~8的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代 基的芳基、雜芳基或具有取代基的雜芳基。
[0020] R3為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。
[0021 ] X1和X2彼此獨立地為氟原子或氯原子。
[0022] Z1為氫原子或Cl~8的烷基。）。
[0023] [2] -種下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(5)所示的化 合物和氧化劑在堿的存在下反應(yīng)，從而得到下式(6a)所示的化合物，并使該式(6a)所示的 化合物和酸反應(yīng)。
[0025] (其中，
[0026] R1為氫原子、鹵原子或Cl~8的鹵代烷基。
[0027] R2為Cl~8的烷基、C3~8的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代 基的芳基、雜芳基或具有取代基的雜芳基。
[0028] R3為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。
[0029] X1和X2彼此獨立地為氟原子或氯原子。
[0030] Z1為氫原子或Cl~8的烷基。
[0031] M為羧酸的抗衡陽離子。）。
[0032] [3]根據(jù)上述[1]或[2]所述的制造方法，其中，R2上的取代基為不參與反應(yīng)的非活 性的基團或原子。
[0033] [4]根據(jù)上述[1]~[3]中任一項所述的制造方法，其中，通過使下式(3)所示的化 合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反應(yīng)，從而得到下式(5)所示的化合物，
[0035][其中，
[0036] !^、!^、護^矛把與前述為相同含義。
[0037] Ra為0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4為Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此獨立地為氫原子或Cl~8的烷基?；騌5和R6任選彼此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形 成5~6元的雜環(huán)基。）。
[0038] Y1為氧原子或N+R7R 8 · A_(其中，R7和R8彼此獨立地為Cl~8的烷基。或R7和R 8任選彼 此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形成5~6元的雜環(huán)基。f為抗衡陰離子。）。
[0039] R9和Riq彼此獨立地為氫原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代基的芳基、雜芳基或具有取代基的 雜芳基。
[0040] 或R9和R1t3任選彼此連接而形成3~8元的環(huán)烷基、具有取代基的3~8元環(huán)的環(huán)烷 基、3~8元環(huán)的雜環(huán)基或具有取代基的3~8元環(huán)的雜環(huán)基。
[0041 ]波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。]。
[0042] [5]根據(jù)上述[4]所述的制造方法，其中，R9和Riq上的取代基為選自由4\-0妒、_ SRB、-N(RB) (Rc)、-Si (Rb) (Rc) (Rd)、-<：00妒、-(0 = 0)妒、-0財口-〇^(妒）（妒)組成的組(其中， 妒、妒、#分別獨立地為氫原子或(：1~8的烷基(^ 4為氟原子或氯原子。）。
[0043] [6]根據(jù)上述[1]所述的制造方法，其中，通過使下式（3)所示的化合物和下式(4) 所示的化合物反應(yīng)，從而得到式(5)所示的化合物。
[0045] [其中，
[0046] !^、!^、護^矛把與前述為相同含義。
[0047] Ra為0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4為Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此獨立地為氫原子或Cl~8的烷基?；騌5和R6任選彼此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形 成5~6元的雜環(huán)基。）。
[0048] Y1為氧原子或N+R7R8 · A_(其中，R7和R8彼此獨立地為Cl~8的烷基?；騌7和R 8任選彼 此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形成5~6元的雜環(huán)基。A-為抗衡陰離子。）。
[0049] 波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。]。
[0050] [7] -種下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反應(yīng)，從而得到下式(5)所示的化合物，并使該式 (5)所示的化合物和氧化劑反應(yīng)，
[0051]
[0052] [其中，
[0053] R1為氫原子、鹵原子或Cl~8的鹵代烷基。
[0054] R2為Cl~8的烷基、C3~8的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代 基的芳基、雜芳基或具有取代基的雜芳基。
[0055] R3為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。
[0056] X1和X2彼此獨立地為氟原子或氯原子。
[0057] Z1為氫原子或Cl~8的烷基。
[0058] Ra為0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4為Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此獨立地為氫原子或Cl~8的烷基?；騌5和R6任選彼此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形 成5~6元的雜環(huán)基。）。
[0059] R9和Riq彼此獨立地為氫原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代基的芳基、雜芳基或具有取代基的 雜芳基。
[0060] 或R9和R1t3任選彼此連接而形成3~8元的環(huán)烷基、具有取代基的3~8元環(huán)的環(huán)烷 基、3~8元環(huán)的雜環(huán)基或具有取代基的3~8元環(huán)的雜環(huán)基。
[0061 ]波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。]
[0062] [8] -種下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反應(yīng)從而得到下式(5)所示的化合物，使該式(5)所 示的化合物和氧化劑在堿的存在下反應(yīng)從而得到下式(6a)所示的化合物，使該式(6a)所示 的化合物和酸反應(yīng)。
[0063]
[0064][其中，
[0065] R1為氫原子、鹵原子或Cl~8的鹵代烷基。
[0066] R2為Cl~8的烷基、C3~8的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代 基的芳基、雜芳基或具有取代基的雜芳基。
[0067] R3為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。
[0068] X1和X2彼此獨立地為氟原子或氯原子。
[0069] Z1為氫原子或Cl~8的烷基。
[0070] Ra為0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4為Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此獨立地為氫原子或Cl~8的烷基?；騌5和R6任選彼此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形 成5~6元的雜環(huán)基。）。
[0071] R9和Riq彼此獨立地為氫原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代基的芳基、雜芳基或具有取代基的 雜芳基。
[0072] 或R9和R1t3任選彼此連接而形成3~8元的環(huán)烷基、具有取代基的3~8元環(huán)的環(huán)烷 基、雜環(huán)基或具有取代基的雜環(huán)基。
[0073] 波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。]。
[0074] [9]根據(jù)上述[8]所述的制造方法，其中，R9和Riq上的取代基為選自由4\-0妒、_ SRB、-N(RB) (Rc)、-Si (Rb) (Rc) (Rd)、-<：00妒、-(0 = 0)妒、-0財口-〇^(妒）（妒)組成的組(其中， 妒、妒、#分別獨立地為氫原子或(：1~8的烷基(^ 4為氟原子或氯原子。）。
[0075] [10] -種下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4)所示的化合物反應(yīng)從而得到下式(5)所示的化合物，使該式(5)所示的化 合物和氧化劑反應(yīng)。
[0077] [其中，
[0078] R1為氫原子、鹵原子或Cl~8的鹵代烷基。
[0079] R2為Cl~8的烷基、C3~8的環(huán)烷基、具有取代基的C3~8的環(huán)烷基、芳基、具有取代 基的芳基、雜芳基或具有取代基的雜芳基。
[0080] R3為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。
[0081 ] X1和X2彼此獨立地為氟原子或氯原子。
[0082] Z1為氫原子或Cl~8的烷基。
[0083] Ra為0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4為Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此獨立地為氫原子或Cl~8的烷基?；騌5和R6任選彼此連接而與它們所鍵合的氮原子一起形 成5~6元的雜環(huán)基。）。
[0084] 波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。]。
[0085] [11]根據(jù)上述[7]~[10]中任一項所述的制造方法，其中，通過使下式(3a)所示的 化合物和水反應(yīng)從而得到下式(3b)所示的化合物，
[0087] (其中，1?1、1?2、1?7、1?8、1^、父 1、父2和21與前述為相同含義。
[0088] 波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。）。
[0089] [12]根據(jù)上述[4]~[11]中任一項所述的制造方法，其中，通過使下式（1)所示的 化合物和下式(2)所示的化合物反應(yīng)從而得到式(3)所示的化合物，
[0091](其中，
[0092]妒、1?2、1^、乂1、乂2、￥1和2 1與前述為相同含義。
[0093] X3為鹵原子。
[0094] 波浪線表示Z1和Ra的與雙鍵相關(guān)的立體構(gòu)型任選為E或Z。）。
[0095] [13]根據(jù)上述[1]~[12]中任一項所述的制造方法，其中，氧化劑為次氯酸鹽。
[0096] [14]根據(jù)上述[1]~13]中任一項所述的制造方法，其中，R1為氫原子。
[0097] [15] -種下式(5a)所示的化合物。
[0099] (其中，
[0100] R12為Cl~8的烷基。
[0101] R13為氫原子、Cl~8的烷基或氮保護基。