本發(fā)明涉及一種含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物及其肼輔助制備方法。
背景技術(shù):
過(guò)渡金屬具有未充滿的(n-1)d電子層結(jié)構(gòu),表現(xiàn)出良好的磁性和發(fā)光性能,金屬硫?qū)倩衔锞哂辛己玫陌雽?dǎo)體性質(zhì),因此,含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物是性能優(yōu)良的多功能復(fù)合材料,在磁性材料、半導(dǎo)體材料和發(fā)光及光催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。在含過(guò)渡金屬配離子的金屬硫?qū)倩衔镅芯款I(lǐng)域,金屬硫化物和金屬硒化物得到了廣泛的研究,人們利用溶劑熱方法,以有機(jī)多胺為配體,合成了一系列含過(guò)渡金屬配離子的金屬硫化物和金屬硒化物[1-5]。由于Te元素比S和Se具有較低的非金屬性和反應(yīng)活性,用類(lèi)似溶劑熱方法很難合成含過(guò)渡金屬配離子的金屬碲化物,目前,對(duì)含過(guò)渡金屬配離子的P區(qū)金屬碲化物溶劑熱合成和研究?jī)H有少量的報(bào)道,比如錫碲化合物[M(en)3]2[Sn2Te6](M=Mn,Zn;en=乙二胺)[6,7],[{Zn(trien)}2(μ2-SnTe4)],[{Zn(trien)}3(μ3-SnTe4)]I2(trien=三乙烯四胺)[8],鍺碲化合物{[Ga(en)3]2(Ge2Te15)}n[9]和(Me4N)2Mn[Ge4Te10](Me=甲基)[10]。而對(duì)汞碲化合物的合成和研究報(bào)道更少。
關(guān)于有機(jī)雜化汞碲化合物的報(bào)道:
(1)1985年,Haushalter分別以K2Hg2Te3、四正丁基溴化銨nBu4NBr(nBu=正丁基)和四苯基溴化鏻Ph4PBr(Ph=苯基)為原料,以甲醇為溶劑,用萃取的方法,合成了有機(jī)雜化汞碲化合物[nBu4N]4Hg4Te12和[Ph4P]2Hg2Te5。合成所用K2Hg2Te3原料,是由K、Hg和Te在600℃高溫反應(yīng)得到的。(參見(jiàn):R.C.Haushalter,Angew.Chem.,Int.Ed.Engl.1985,24,433–435)。
(2)1994年,Bocarsly等人以K2Hg2Te3和四乙基碘化銨Et4NI(Et=乙基)為原料,經(jīng)過(guò)12小時(shí)萃取和2周靜置培養(yǎng),合成了有機(jī)雜化汞碲化合物[Et4N]2Hg2Te4;以K2Hg2Te3為原料,以Et4NI為電解質(zhì),經(jīng)過(guò)2-3天電池反應(yīng),用電化學(xué)方法合成了有機(jī)雜化汞碲化合物[Et4N]4Hg3Te7·(0.5en)。合成所用K2Hg2Te3原料,是由K、Hg和Te在600℃高溫反應(yīng)得到的。(參見(jiàn):S.S.Dhingra,C.J.Warren,R.C.Haushalter,A.B.Bocarsly,Chem.Mater.1994,6,2382–2385)。
(3)1993年,Ibers等人用Hg(S2COEt)2、Li2Te與四苯基氯化鏻Ph4PCl反應(yīng),經(jīng)過(guò)乙醚萃取和擴(kuò)散,合成了含多碲離子(Te72-)的有機(jī)雜化汞碲化合物[Ph4P]2HgTe7。合成所用Li2Te原料,是在隔絕空氣條件下,由Li和Te在液態(tài)氨中反應(yīng)得到的。(參見(jiàn):M.A.Ansari,J.C.Bollinger,J.A.Ibers,Inorg.Chem.1993,32,3201–3202)。
關(guān)于含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化物的報(bào)道:
(1)1995年,Proserpio等人以Hg2Cl2、FeCl2、Rb2Te和Te為原料,以乙二胺(en)為溶劑,在160℃反應(yīng)7天,合成了汞碲化合物[Fe(en)3]2Hg2Te9。在合成該化合物過(guò)程中,同時(shí)使用了化合態(tài)Rb2Te和單質(zhì)態(tài)Te粉為碲源。(參見(jiàn):J.Li,B.G.Rafferty,S.Mulley,D.M.Proserpio,Inorg.Chem.1995,34,6417–6418)。
綜上所述,目前國(guó)際上對(duì)有機(jī)雜化汞碲化合物的合成研究很有限,對(duì)含過(guò)渡金屬配離子汞碲化物的研究?jī)H有一例報(bào)道,國(guó)內(nèi)還未見(jiàn)該領(lǐng)域的研究報(bào)道。這些已報(bào)道的汞碲化合物,其合成都需要使用化合態(tài)碲化物(如堿金屬碲化物L(fēng)i2Te、Rb2Te、K2Hg2Te3等)作為碲離子源(Te2-離子和多碲離子Te22-,Te32-等),而這些碲化物原料的合成需要使用活潑的堿金屬,并且需要高溫或者隔絕空氣等比較苛刻的實(shí)驗(yàn)條件。由于碲單質(zhì)比較弱的非金屬性,與不活潑的金屬反應(yīng)時(shí),不容易得電子而形成碲離子,因此,碲單質(zhì)難于提供碲離子源以形成金屬碲化物。目前,以碲單質(zhì)(Te)作為唯一碲源合成多元汞碲化合物的研究還未見(jiàn)文獻(xiàn)報(bào)道。
肼(分子式:N2H4),俗稱(chēng)聯(lián)氨,是一種強(qiáng)極性的氮?dú)浠衔?,其氮原子?duì)金屬離子有很強(qiáng)的配位作用,對(duì)金屬硫?qū)倩衔锞哂辛己玫娜芙庑?;肼在常溫常壓下為液態(tài),并能與水、醇等按任意比例混合,因此肼是合成難溶性金屬硫?qū)倩衔锏膬?yōu)良溶劑。同時(shí),肼具有強(qiáng)還原性,是一種很強(qiáng)的原劑,其在酸性和堿性溶液中的標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)分別為和(N2/N2H4)=–1.16V,在酸性和堿性條件下均表現(xiàn)強(qiáng)還原性,可以在比較溫和的條件下把Te原子還原為碲離子(比如:Te2-,Te22-,Te32-等),為合成金屬碲化物提供碲離子源。其氧化-還原反應(yīng)如下(堿性條件下):
N2H4+2Te+4OH-=N2+2Te2-+4H2O
N2H4+4Te+4OH-=N2+2Te22-+4H2O
因此,肼可以作為合成汞碲化合物的反應(yīng)介質(zhì),又可以參與Te單質(zhì)的還原過(guò)程,把Te原子還原為碲離子Te2-或多碲離子Te22-,Te32-等,從而實(shí)現(xiàn)由單一Te源合成汞碲化合物。目前,國(guó)內(nèi)外均沒(méi)有用肼作為反應(yīng)介質(zhì)和還原劑合成汞碲化合物的研究報(bào)道。
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技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明目的是:提供一種含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物及其肼輔助制備方法。
本發(fā)明的第一方面的目的是提供一種含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物,以填補(bǔ)業(yè)界有關(guān)此類(lèi)含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物的空白。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物,其特征在于,該汞碲化合物的通式為[TM(trien)(N2H4)2]Hg2Te4或者[TM(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12或者[TM(trien){Hg2Te4}]或者[TM(tepa)]2Hg5Te12;
其中TM選自Fe、Co、Ni、Mn或Zn;trien為三乙烯四胺,tepa為四乙烯五胺。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的上述通式為[TM(trien)(N2H4)2]Hg2Te4的汞碲化合物滿足下述離子配位結(jié)構(gòu):[Hg2Te4]2-陰離子由兩個(gè)Hg2+、兩個(gè)Te2-和一個(gè)Te22-離子構(gòu)成,形成一維鏈狀結(jié)構(gòu),Hg2+與三個(gè)Te配位,形成平面三角形配位環(huán)境。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的上述通式為[TM(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12的汞碲化合物滿足下述離子配位結(jié)構(gòu):[Hg4Te12]2-陰離子由四個(gè)Hg2+、兩個(gè)Te2-、兩個(gè)Te22-和兩個(gè)Te32-離子構(gòu)成,形成零維四核簇結(jié)構(gòu)[Hg4Te12]2-離子,每個(gè)Hg2+與四個(gè)Te配位,形成變形四面體配位環(huán)境。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的上述通式為[TM(trien){Hg2Te4}]的汞碲化合物滿足下述離子配位結(jié)構(gòu):兩個(gè)[Hg2Te4]2-一維陰離子通過(guò)共用Hg-Te鍵的鏈接,形成雙股鏈狀結(jié)構(gòu)離子,其Te2-與[TM(trien)]2+離子中的TM2+配位,從而形成中性配位聚合物[TM(trien){Hg2Te4}]。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的上述通式為[TM(tepa)]2Hg5Te12的汞碲化合物滿足下述離子配位結(jié)構(gòu):[Hg5Te12]2-陰離子由五個(gè)Hg2+、四個(gè)Te2-、兩個(gè)Te22-和一個(gè)Te42-離子構(gòu)成,形成一維聚合陰離子[Hg5Te12]2-陰離子,但該陰離子并不與TM2+配位。
本發(fā)明另一方面的目的是提供上述含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物的肼輔助制備方法,這種制備方法能夠克服現(xiàn)有合成汞碲化合物技術(shù)中存在的先要合成Li2Te、Rb2Te或K2Hg2Te3等碲化物中間產(chǎn)物,且這些中間產(chǎn)物的合成存在需要無(wú)氧保護(hù)或者需要高溫反應(yīng)等苛刻制備條件的缺陷。
具體的技術(shù)方案:一種含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物的肼輔助制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)將有機(jī)胺配體L和肼按照L/肼=1:2的體積比混合制備成溶劑,其中L選自trien或tepa,trien為三乙烯四胺,tepa為四乙烯五胺,肼為N2H4;
2)將TMCl2、HgCl2、Te按照1:2:6或者1:2:8的摩爾比在步驟1)制得的溶劑中混合,攪拌10分鐘制成反應(yīng)溶液,其中TM選自Fe、Co、Ni、Mn或Zn;
3)將步驟2)得到的反應(yīng)溶液在反應(yīng)釜中于90-130℃下反應(yīng)4-5天,反應(yīng)完畢冷卻到室溫后,有大量固體析出,抽濾,濾餅用冷的乙醇洗滌,抽干,得到的固體即為產(chǎn)物。
進(jìn)一步的,本發(fā)明的上述制備方法中所述反應(yīng)溫度、有機(jī)胺配體和產(chǎn)物之間滿足下述關(guān)系:
1)90-110℃反應(yīng)溫度,且有機(jī)胺配體L為trien時(shí),產(chǎn)物通式為[TM(trien)(N2H4)2]Hg2Te4;
2)90-110℃反應(yīng)溫度,且有機(jī)胺配體L為tepa時(shí),產(chǎn)物通式為[TM(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12;
3)120-130℃反應(yīng)溫度,且有機(jī)胺配體L為trien時(shí),產(chǎn)物通式為[TM(trien){Hg2Te4}];
4)120-130℃反應(yīng)溫度,且有機(jī)胺配體L為tepa時(shí),產(chǎn)物通式為[TM(tepa)]2Hg5Te12。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:
1.本發(fā)明提供的通式為[TM(trien)(N2H4)2]Hg2Te4或者[TM(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12或者[TM(trien){Hg2Te4}]或者[TM(tepa)]2Hg5Te12的含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物在已知領(lǐng)域中未見(jiàn)公開(kāi)報(bào)道,其填補(bǔ)了行業(yè)空白。本發(fā)明合成的含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物為晶體,具有明確的組成和晶體結(jié)構(gòu),其制備時(shí)可以通過(guò)反應(yīng)溫度和有機(jī)胺配體的不同,調(diào)控汞碲陰離子的結(jié)構(gòu)及其與過(guò)渡金屬離子的配位。
2.本發(fā)明的含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物采用肼輔助制備方法合成,合成方法簡(jiǎn)單,用單質(zhì)碲粉作為單一碲源,用具有高還原能力的肼分子還原碲原子以提供碲離子,肼既作反應(yīng)溶劑,又作為還原劑,不經(jīng)過(guò)中間合成步驟,利用一步溶劑熱反應(yīng)合成含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物。其顯著降低了合成汞碲化合物的反應(yīng)溫度,無(wú)需保護(hù)氣體,產(chǎn)物分離提純方便,可以通過(guò)反應(yīng)溫度和有機(jī)胺配體的不同,調(diào)控汞碲陰離子的結(jié)構(gòu)及其與過(guò)渡金屬離子的配位。
3.本發(fā)明提供的含過(guò)渡金屬配離子的汞碲化合物的肼輔助制備方法,直接用單質(zhì)Te作為碲源,用具有高還原能力的肼分子把碲原子還原為碲離子,不經(jīng)過(guò)中間步驟,即不需要制備Li2Te、Rb2Te或K2Hg2Te3等中間產(chǎn)物,節(jié)約了原料成本,且在90-130℃較低的溫度范圍內(nèi)通過(guò)一步反應(yīng)直接合成汞碲化合物,取消了中間步驟,降低了汞碲化合物的合成溫度,提高了合成效率,產(chǎn)物分離提純方便,結(jié)構(gòu)明確。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例一:[Mn(trien)(N2H4)2]Hg2Te4
將MnCl2(0.031克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.182克,產(chǎn)率62%。元素分析:C 5.93,H 2.15,N 9.38%;理論值:C 6.12,H 2.23,N 9.52%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3455(s),3250(m),2943(m),2867(m),1719(w),1635(w),1564(w),1458(m),1383(m),1315(m),1173(w),1135(w),1080(s),1004(s),946(s),883(s),816(s),706(w),592(s),483(s),429(m),410(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.84eV。
實(shí)施例二:[Zn(trien)(N2H4)2]Hg2Te4
將ZnCl2(0.035克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.199克,產(chǎn)率67%。元素分析:C5.94,H 2.12,N 9.31%;理論值:C 6.07,H 2.21,N 9.44%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3460(s),3270(m),3106(w),2922(w),2064(m),1656(s),1589(s),1526(w),1463(m),1379(s),1274(w),1118(s),1072(w),996(s),950(s),861(w),786(m),673(w),618(s),542(m),479(s),424(m),408(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.85eV。
實(shí)施例三:[Fe(trien)(N2H4)2]Hg2Te4
將FeCl2(0.032克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.191克,產(chǎn)率65%。元素分析:C5.99,H 2.17,N 9.45%;理論值:C 6.12,H 2.23,N 9.51%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3455(w),3305(w),3252(m),3200(m),2999(w),2367(w),1565(s),1485(s),1452(m),1378(s),1207(w),1109(w),1024(s),877(w),744(w),650(w),510(m),418(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.87eV。
實(shí)施例四:[Mn(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12
將MnCl2(0.031克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.252克,產(chǎn)率70%。元素分析:C 6.48;H 1.82;N 6.61%;理論值:C 6.66,H 1.89,N 6.79%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3335(m),3258(s),3172(m),2941(w),1627(s),1588(s),1481(s),1383(s),1190(s),1113(s),1065(s),989(m),804(w),767(w),659(m),591(s),535(w),417(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.86eV。
實(shí)施例五:[Co(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12
將CoCl2(0.033克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.260克,產(chǎn)率72%。元素分析:C 6.51;H 1.84;N 6.67%;理論值:C 6.64,H 1.88,N 6.78%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3472(s),3254(w),3203(w),3010(s),2766(m),1626(s),1458(s),1379(s),1202(w),1160(w),1105(w),1017(s),879(w),802(m),655(w),559(w),479(m),421(m)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.83eV。
實(shí)施例六:[Zn(tepa)(N2H4)]2Hg4Te12
將ZnCl2(0.035克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在100℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.222克,產(chǎn)率61%。元素分析:C 6.49;H 1.80;N 6.58%;理論值:C 6.61,H 1.87,N 6.75%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3463(m),3071(m),2929(w),2751(m),2606(w),2367(w),1621(w),1540(m),1444(m),1374(s),1271(w),1180(w),1076(s),1030(m),994(m),874(w),730(w),654(w),551(w),504(m),421(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.91eV。
實(shí)施例七:[Mn(trien){Hg2Te4}]
將MnCl2(0.031克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.189克,產(chǎn)率68%。元素分析:C 6.32,H 1.58,N 4.93%;理論值:C 6.48,H 1.63,N 5.03%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3431(s),3044(m),2963(m),2779(s),2446(m),2085(m),1732(s),1631(s),1471(s),1412(m),1353(w),1320(m),1202(w),1173(m),1101(w),1022(s),887(w),820(w),765(m),681(s),597(w),471(m),415(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.81eV。
實(shí)施例八:[Ni(trien){Hg2Te4}]
將NiCl2(0.033克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.204克,產(chǎn)率73%。元素分析:C 6.36,H 1.55,N 4.92%;理論值:C 6.45,H 1.62,N 5.02%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3417(s),3312(s),2913(m),2707(m),1640(m),1576(s),1484(s),1429(w),1379(m),1324(s),1185(m),1156(s),1030(w),962(w),824(m),790(w),673(m),635(w),588(w),554(w),487(w),424(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.79eV。
實(shí)施例九:[Zn(trien){Hg2Te4}]
將ZnCl2(0.035克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.255克,2毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升三乙烯四胺(trien)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.177克,產(chǎn)率63%。元素分析:C 6.35,H 1.48,N 4.81%;理論值:C 6.42,H 1.62,N 4.99%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3472(s),3010(s),2766(m),2648(w),1626(s),1458(s),1412(m),1379(s),1202(w),1160(m),1105(w),1017(s),879(w),802(m),655(w),559(w),479(m),407(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.82eV。
實(shí)施例十:[Fe(tepa)]2Hg5Te12
將FeCl2(0.032克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.191克,1.5毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.197克,產(chǎn)率65%。元素分析:C 6.21,H 1.47,N 4.51%;理論值:C 6.35,H 1.53,N 4.63%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3583(m),3426(w),3313(w),3253(m),3163(m),2854(m),2380(w),2291(w),1578(m),1443(m),1382(s),1316(w),1143(w),1086(m),954(s),841(w),741(m),572(w),491(w),430(s),411(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.82eV。
實(shí)施例十一:[Ni(tepa)]2Hg5Te12
將NiCl2(0.033克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.191克,1.5毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.197克,產(chǎn)率65%。元素分析:C 6.21,H 1.42,N 4.51%;理論值:C 6.34,H 1.53,N 4.62%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3443(s),3056(w),2934(w),1631(s),1576(s),1484(s),1383(m),1324(s),1147(m),1123(m),1076(w),1034(m),992(m),861(w),820(m),769(w),740(w),660(w),592(w),567(w),479(w),429(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.84eV。
實(shí)施例十二:[Zn(tepa)]2Hg5Te12
將ZnCl2(0.035克,0.25毫摩爾)、HgCl2(0.136克,0.50毫摩爾)和Te(0.191克,1.5毫摩爾)加入到2.0毫升聯(lián)氨(N2H4)和1.0毫升四乙烯五胺(tepa)混合溶液中,攪拌10分鐘,把混合物放入聚四氟乙烯為內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中,在120℃反應(yīng)5天。冷卻到室溫后,析出黑色晶體,過(guò)濾,分別用5毫升乙醇和丙酮洗滌,真空干燥,得晶體0.188克,產(chǎn)率62%。元素分析:C 6.18,H 1.43,N 4.53%;理論值:C 6.31,H 1.52,N 4.60%。紅外吸收光譜數(shù)據(jù)(KBr,cm-1):3236(s),3133(m),2945(w),2877(w),1644(s),1601(s),1485(w),1422(m),1387(s),1288(w),1246(m),1134(s),1079(s),1023(s),950(s),835(w),689(w),664(m),536(w),449(w),413(w)。固態(tài)吸收光譜測(cè)定:半導(dǎo)體能隙Eg=0.88eV。
當(dāng)然上述實(shí)施例只為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明主要技術(shù)方案的精神實(shí)質(zhì)所做的修飾,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。