1.一種光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，包括上表層、芯層和下表層，所述芯層設(shè)置在所述上表層和下表層之間，其特征在于，
所述上表層包括EVA膠粒原料、發(fā)泡劑、填充劑、發(fā)泡助劑；
所述芯層包括聚氨酯膠粘劑；
所述下表層包括如下質(zhì)量百分比的組分：90～95％的PET，5～10％的無(wú)機(jī)粒子。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述EVA膠粒原料為乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烴彈性體POE和熱塑性彈性體SEBS的混合物。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述乙烯醋酸乙烯酯EVA，聚烯烴彈性體POE和熱塑性彈性體SEBS的質(zhì)量比為(50～60)：(30～45)：(5～10)。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述發(fā)泡劑為偶氮二甲酰胺，其用量為EVA膠粒原料重量的5～10％。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述填充劑為重量份比為3～5:7～5的輕質(zhì)碳酸鎂粉和滑石粉的混合物，所述混合物經(jīng)過硅烷偶聯(lián)劑表面處理，所述填充劑的用量為EVA膠粒原料重量的10～15％。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述發(fā)泡助劑為氧化鋅，其用量為EVA膠粒原料重量的0.5～1.5％。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述聚氨酯膠粘劑包括如下重量份的組分：聚氨酯預(yù)聚物20～60份，鄰苯二甲酸二辛脂8～15份，氨基硅烷偶聯(lián)劑1～5份，胺類催化劑2～4份。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述上表層的厚度為100～2000μm，所述芯層的厚度為200～400μm，所述下表層的厚度為10～100μm。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜生產(chǎn)用刀模墊，其特征在于，所述上表層還包括著色劑。