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一種應(yīng)用于OLED領(lǐng)域的化合物的制作方法

文檔序號:11276679閱讀:213來源:國知局

本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光領(lǐng)域,尤其涉及oled領(lǐng)域,具體為一種應(yīng)用于oled領(lǐng)域的化合物。



背景技術(shù):

tft-lcd作為一種顯示屏,是一種非自發(fā)光之顯示器,必須透過背光源投射光線,依序穿透tft-lcd面板中之偏光板、玻璃基板、液晶層、彩色濾光片、玻璃基板、偏光板等相關(guān)零組件,最后進(jìn)入人之眼睛成像,達(dá)到顯示之功能。在實(shí)際應(yīng)用中,tft-lcd顯示屏具有反應(yīng)速率慢、耗電、視角窄等缺點(diǎn),不足以成為完美的顯示屏。

oled,作為一種新型顯示技術(shù),具有自發(fā)光的特性,采用非常薄的有機(jī)材料涂層和玻璃基板制備得到。當(dāng)有電流通過時(shí),這些有機(jī)材料就會發(fā)光。目前,oled的基本結(jié)構(gòu)如三明治的結(jié)構(gòu),整個結(jié)構(gòu)層中包括空穴傳輸層(htl)、發(fā)光層(el)與電子傳輸層(etl)。當(dāng)電力供應(yīng)至適當(dāng)電壓時(shí),正極空穴與陰極電荷就會在發(fā)光層中結(jié)合,產(chǎn)生光亮,依其配方不同產(chǎn)生紅、綠和藍(lán)三原色,構(gòu)成基本色彩。由于oled的特性是自己發(fā)光,因此,可視度和亮度均高,其次是電壓需求低且省電效率高,加上反應(yīng)快、重量輕、厚度薄,構(gòu)造簡單,成本低等,被視為21世紀(jì)最具前途的產(chǎn)品之一。

雖然oled相對于其它顯示器具有各方面的優(yōu)勢,但是事實(shí)上,其在顯示、壽命、使用等方面仍然存在不足,重要的原因之一是缺乏高性能的材料,因此,設(shè)計(jì)與合成新型的應(yīng)用于oled領(lǐng)域的化合物或材料是本領(lǐng)域技術(shù)人員研究工作的重點(diǎn)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

基于上述背景,本發(fā)明提供了一種新型的應(yīng)用于oled領(lǐng)域的化合物,其用于oled材料中,并進(jìn)一步用于oled的電子傳輸層、發(fā)光層和空穴傳輸層 中,更突出的是具體用于紅光主體材料、綠光主體材料和空穴傳輸材料中,最終得到的一種含有上述所述化合物的oled器件,具有明顯良好的性能優(yōu)勢。

本發(fā)明的第一方面的主題是一種應(yīng)用于oled領(lǐng)域的化合物,其特征在于,其結(jié)構(gòu)如通式(i)所示:

其中,r1和r2分別獨(dú)立地選自芳香性化合物基團(tuán)。

在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,所述r1和r2為含有3-20個碳或氮的芳香性化合物基團(tuán)。

優(yōu)選地,所述r1和r2中含有苯環(huán)、萘環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)。

更優(yōu)選地,所述r1和r2分別獨(dú)立地選自如下結(jié)構(gòu)式:

在本發(fā)明的一個優(yōu)選實(shí)施例中,所述化合物選自如下結(jié)構(gòu):

本發(fā)明的第二方面的主題是一種包含上述所述化合物的材料。

本發(fā)明的第三方面的主題是一種上述所述化合物的應(yīng)用,包括在oled空穴傳輸層、oled發(fā)光層、oled電子傳輸層中的應(yīng)用。

優(yōu)選地,所述化合物應(yīng)用于oled紅光主體材料、oled綠光主體材料以及oled空穴傳輸材料中。

本發(fā)明的第四方面的主題是一種含有上述所述化合物的oled器件。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于oled領(lǐng)域的化合物,其特征在于,其結(jié)構(gòu)如通式(i)所示:

其中,r1和r2分別獨(dú)立地選自芳香性化合物基團(tuán)。

在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,所述r1和r2為含有3-20個碳或氮的芳香性化合物基團(tuán)。

在一個優(yōu)選實(shí)施例中,所述r1和r2中含有苯環(huán)、萘環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)。

在一個進(jìn)一步優(yōu)選的實(shí)施例中,所述r1和r2分別獨(dú)立地選自如下結(jié)構(gòu)式:

在本發(fā)明的一個優(yōu)選實(shí)施例中,所述化合物選自如下結(jié)構(gòu):

本發(fā)明還提供了一種包含上述所述化合物的材料。

本發(fā)明還提供了一種上述所述化合物的應(yīng)用,包括在oled空穴傳輸層、oled發(fā)光層、oled電子傳輸層中的應(yīng)用。

在一個優(yōu)選實(shí)施例中,所述化合物應(yīng)用于oled紅光主體材料、oled綠光主體材料以及oled空穴傳輸材料中。

本發(fā)明還提供了一種含有上述所述化合物的oled器件。

下面結(jié)合具體實(shí)施例,對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步解釋和說明。

實(shí)施例1

化合物1的合成:

所述化合物1的制備方法包括:

往反應(yīng)瓶中加入0.1mol中間體a、0.1mol中間體b以及1000ml的二甲基 甲酰胺,并向其中加入0.1mol的nah,在氮?dú)獗Wo(hù)下常溫反應(yīng)12小時(shí);然后,向反應(yīng)溶液中加入蒸餾水終止反應(yīng),并用乙醇/二氯甲烷萃取,鹽水洗,分出有機(jī)層,旋蒸除去有機(jī)溶劑,粗產(chǎn)品過柱,再用二氯甲烷和乙醇重結(jié)晶純化得到化合物1,產(chǎn)率67%。

化合物1表征如下:

ms:615.2674

1h-nmr:1.66(6h)7.92(1h)7.87(1h)7.75(1h)7.35(1h)7.41(1h)7.61(1h)7.28(1h)7.54(4h)7.48(2h)7.32(2h)7.21(1h)7.32(2h)7.47(2h)7.23(1h)7.35(2h)7.37(2h)7.44(1h)7.64(1h)。

實(shí)施例2

化合物2的合成:

所述化合物2的制備方法包括:

往反應(yīng)瓶中加入0.1mol中間體a、0.1mol中間體c以及1000ml的二甲基甲酰胺,并向其中加入0.1mol的nah,在氮?dú)獗Wo(hù)下常溫反應(yīng)12小時(shí);然后,向反應(yīng)溶液中加入蒸餾水終止反應(yīng),并用乙醇/二氯甲烷萃取,鹽水洗,分出有機(jī)層,旋蒸除去有機(jī)溶劑,粗產(chǎn)品過柱,再用二氯甲烷和乙醇重結(jié)晶純化得到化合物2,產(chǎn)率44%。

化合物2表征如下:

ms:655.2987

1h-nmr:1.64(12h)7.93(2h)7.85(2h)7.72(2h)7.34(2h)7.44(2h)7.62(2h)7.29(2h)7.32(2h)7.47(2h)7.23(1h)7.35(2h)7.37(2h)7.63(1h)7.64(1h)。

實(shí)施例3

化合物3的合成:

所述化合物3的制備方法包括:

往反應(yīng)瓶中加入0.1mol中間體a、0.1mol中間體d以及1000ml的二甲基甲酰胺,并向其中加入0.1mol的nah,在氮?dú)獗Wo(hù)下常溫反應(yīng)12小時(shí);然后,向反應(yīng)溶液中加入蒸餾水終止反應(yīng),并用乙醇/二氯甲烷萃取,鹽水洗,分出有機(jī)層,旋蒸除去有機(jī)溶劑,粗產(chǎn)品過柱,再用二氯甲烷和乙醇重結(jié)晶純化得到化合物3,產(chǎn)率38%。

化合物3表征如下:

ms:575.2361

1h-nmr:7.55(8h)7.49(4h)7.31(4h)7.22(2h)7.32(2h)7.47(2h)7.23(1h)7.35(2h)7.37(2h)7.74(1h)7.73(1h)。

實(shí)施例4

化合物4的合成:

所述化合物4的制備方法包括:

往反應(yīng)瓶中加入0.1mol中間體a、0.1mol中間體e以及1000ml的二甲基甲酰胺,并向其中加入0.1mol的nah,在氮?dú)獗Wo(hù)下常溫反應(yīng)12小時(shí);然后,向反應(yīng)溶液中加入蒸餾水終止反應(yīng),并用乙醇/二氯甲烷萃取,鹽水洗,分出有機(jī)層,旋蒸除去有機(jī)溶劑,粗產(chǎn)品過柱,再用二氯甲烷和乙醇重結(jié)晶純化得到化合物4,產(chǎn)率47%。

化合物4表征如下:

ms:589.2518

1h-nmr:1.66(6h)7.92(1h)7.87(1h)7.75(1h)7.35(1h)7.41(1h)7.61(1h)7.28(1h)7.54(1h)7.48(1h)7.32(1h)7.31(2h)7.41(2h)7.32(2h)7.47(2h)7.23(1h)7.35(2h)7.37(2h)7.73(1h)7.72(1h)。

應(yīng)用實(shí)施例——oled器件

對比應(yīng)用實(shí)施例:

將透明陽極電極ito基板在異丙醇中超聲清洗5-10分鐘,并暴露在紫外光下20-30分鐘,隨后用plasma處理5-10分鐘。隨后將處理后的ito基板放入蒸鍍設(shè)備。首先蒸鍍一層30-50nm的npb作為空穴傳輸層,然后是發(fā)光層的蒸鍍,混合蒸鍍,cbp,以及2--10%的ir(piq)3,隨后蒸鍍20-40nm的alq3作為電子傳輸層,隨后再蒸鍍0.5-2nmlif,最后蒸鍍100-200nm的金屬al。

應(yīng)用實(shí)施例1

將透明陽極電極ito基板在異丙醇中超聲清洗5-10分鐘,并暴露在紫外光下20-30分鐘,隨后用plasma處理5-10分鐘。隨后將處理后的ito基板放入蒸鍍設(shè)備。首先蒸鍍一層30-50nm的npb作為空穴傳輸層,然后是發(fā)光層的蒸鍍,混合蒸鍍化合物cbp,以及2--10%的ir(piq)3,隨后蒸鍍20-40nm的化合物1,隨后再蒸鍍0.5-2nmlif,最后蒸鍍100-200nm的金屬al。

應(yīng)用實(shí)施例2

將對比實(shí)施例中的alq3換成化合物2,作為電子傳輸層。

應(yīng)用實(shí)施例3

將對比實(shí)施例中的alq3換成化合物3,作為電子傳輸層。

應(yīng)用實(shí)施例4

將對比實(shí)施例中的alq3換成化合物4,作為電子傳輸層。

應(yīng)用實(shí)施例5

將對比實(shí)施例中的npb換成化合物1,作為空穴傳輸層。

應(yīng)用實(shí)施例6

將對比實(shí)施例中的npb換成化合物3,作為空穴傳輸層。

應(yīng)用實(shí)施例7

將對比實(shí)施例中的cbp換成化合物2,作為發(fā)光層。

應(yīng)用實(shí)施例8

將對比實(shí)施例中的cbp換成化合物4,作為發(fā)光層。

其中:

oled器件制作如下:

對比應(yīng)用實(shí)施例:ito/npb/cbp:ir(piq)3/alq3/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例1:ito/npb/cbp:ir(piq)3/化合物1/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例2:ito/npb/cbp:ir(piq)3/化合物2/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例3:ito/npb/cbp:ir(piq)3/化合物3/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例4:ito/npb/cbp:ir(piq)3/化合物4/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例5:ito/化合物1/cbp:ir(piq)3/alq3/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例6:ito/化合物3/cbp:ir(piq)3/alq3/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例7:ito/npb/化合物2:ir(piq)3/alq3/lif/al;

應(yīng)用實(shí)施例8:ito/npb/化合物4:ir(piq)3/alq3/lif/al;

在1000nits下,oled器件結(jié)果如下:

表1

由上表1可知,與現(xiàn)有技術(shù)中常見的對比應(yīng)用實(shí)施例相比,采用本發(fā)明所述的化合物制備的oled器件所需驅(qū)動電壓更低,且產(chǎn)生的光通量越大,因此具有更好的發(fā)光性能。

以上對本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)描述,但其只是作為范例,本發(fā)明并不限制于以上描述的具體實(shí)施例。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,任何對本發(fā)明進(jìn)行的等同修改和替代也都在本發(fā)明的范疇之中。因此,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下所作的均等變換和修改,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的范圍內(nèi)。

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