本發(fā)明為應(yīng)用于液晶顯示領(lǐng)域的一種適用于BPS技術(shù)的虛擬像素結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

BPS(黑色間隙控制材料技術(shù)，Black photo spacer)是把黑色矩陣區(qū)域(black matrix，BM)和光阻墊片區(qū)域(photo spacer，PS)的制程合在一起的技術(shù)。BPS技術(shù)的一個分支是直接使用BPS材料做出黑色矩陣區(qū)域，子光阻墊片區(qū)域(sub PS)，主光阻墊片區(qū)域(main PS)。為了使得做出來的液晶顯示屏能夠曲平共用，一般該技術(shù)的BPS制程是坐在陣列基板上。在BPS制程之前一般會使用有機物平坦化層(PFA)來優(yōu)化陣列基板地形，BPS制程做在優(yōu)化后的地形上。

把BPS做在陣列基板上，同時做出子光阻墊片區(qū)域(sub PS)，主光阻墊片區(qū)域以及黑色矩陣區(qū)域的BPS技術(shù)做的成液晶顯示屏，和普通的液晶顯示屏一樣，會有過渡像素區(qū)域(dummy pixel)的設(shè)計。過渡像素區(qū)和顯示區(qū)域的像素都有彩色濾光片(CF)的存在，過渡像素區(qū)的存在是作為顯示區(qū)像素的過渡存在，使得不會出現(xiàn)邊緣色差，邊緣漏光，邊緣偏色等問題。但是過渡像素區(qū)不作為顯示的像素，不加電信號，所以過渡像素區(qū)一般會使用黑色矩陣區(qū)進行遮光，在BPS技術(shù)中就是使用BPS材料進行遮光。圖1BPS技術(shù)顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)的俯視圖。在圖1所示的顯示區(qū)位置分別取C-C’區(qū)域(BPS站立的位置)和D-D’的截面，即圖2，包括顯示區(qū)1過渡區(qū)2以及非像素區(qū)3，其中過渡區(qū)包括設(shè)置在顯示區(qū)1長邊的水平過渡區(qū)22和設(shè)置在顯示區(qū)2短邊的垂直過渡區(qū)21。其中，顯示區(qū)包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的彩色濾光片7平坦層5，水平過渡區(qū)22包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的彩色濾光片7平坦層5以及黑色矩陣6，垂直過渡區(qū)21包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的彩色濾光片7平坦層5，非像素區(qū)3包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的平坦層和黑色矩陣。

非像素區(qū)黑色矩陣厚度設(shè)置為3.9μm，過渡區(qū)黑色矩陣設(shè)置為2.5μm，彩色濾光片和平坦層的厚度分別假定為2.5μm和2μm。C-C’由于顯示區(qū)和過渡區(qū)域同時存在黑色矩陣，所以不會有地形差的問題，但是在D-D’截面，過渡區(qū)域由于有黑色矩陣的存在比顯示區(qū)像素高出了2.5μm，并且由于過渡區(qū)域的黑色矩陣和周邊的區(qū)域連成一片，流平和固化特性差。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了改善BPS技術(shù)下過渡像素區(qū)域和顯示區(qū)像素交界處地形差異大影響顯示效果的缺陷，本發(fā)明設(shè)計出一種新型的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，提高線束效果。

本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案實現(xiàn)的。

一種應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，包括：顯示區(qū)，設(shè)置在顯示區(qū)四周的過渡區(qū)以及設(shè)置在過渡區(qū)四周的非像素區(qū)；

其中，顯示區(qū)包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板上的彩色濾光片和平坦層；

過渡區(qū)包括設(shè)置在顯示區(qū)兩條長邊四周的水平過渡區(qū)和設(shè)置在顯示區(qū)兩條短邊的垂直過渡區(qū)；水平過渡區(qū)包括由下至上依次設(shè)置在玻璃板上的彩色濾光片，平坦層和黑色矩陣，垂直過渡區(qū)包括由下至上依次設(shè)置在玻璃板上的彩色濾光片及黑色矩陣；

非像素區(qū)包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板上的平坦層和黑色矩陣。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，

所述垂直過渡區(qū)和水平過渡區(qū)的黑色矩陣相連。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述顯示區(qū)平坦層與過渡區(qū)交接處為斜坡結(jié)構(gòu)。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述水平過渡區(qū)的黑色矩陣包括多個子光阻墊片層和兩個主光阻墊片層，所述主光阻墊片層和子光阻墊片層為橫截面為梯形的凸起，所述主光阻墊片層設(shè)置在水平過渡區(qū)兩端，子光阻墊片層設(shè)置在兩個主光阻墊片層之間。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述的主光阻墊片層高度大于所述子光阻墊片層。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述垂直過渡區(qū)的黑色矩陣與顯示區(qū)平坦層相連。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述顯示區(qū)的平坦層厚度與非像素區(qū)平坦層厚度相同。

所述的應(yīng)用于BPS技術(shù)的過渡像素結(jié)構(gòu)，其中，所述過渡區(qū)黑色矩陣與非顯示區(qū)黑色矩陣相連。

本發(fā)明具有以下優(yōu)點：通過將過渡區(qū)的平坦層去掉使過渡區(qū)像素的高度與顯示區(qū)像素的高度相近，對整體陣列基板的平坦化有改善作用。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細的描述。其中：

圖1是BPS技術(shù)顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)的俯視圖。

圖2是BPS技術(shù)改進前顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)C-C’和D-D’剖面圖。

圖3是BPS技術(shù)改進后顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)A-A’和B-B’的剖面圖。

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實際的比例。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。

如圖1所示，為BPS技術(shù)顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)的俯視圖，包括顯示區(qū)1，過渡區(qū)2以及非像素區(qū)3。其中過渡區(qū)2設(shè)置在顯示區(qū)1四周，非像素區(qū)3設(shè)置在過渡區(qū)2四周。

如圖3所示，BPS技術(shù)改進后顯示區(qū)過渡區(qū)以及非像素區(qū)A-A’和B-B’的剖面圖，其中，顯示區(qū)1包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的彩色濾光片7和平坦層5；

過渡區(qū)包括設(shè)置在顯示區(qū)1兩條長邊四周的水平過渡區(qū)22和設(shè)置在顯示區(qū)1兩條短邊的垂直過渡區(qū)21；水平過渡區(qū)22包括由下至上依次設(shè)置在玻璃板4上的彩色濾光片7，平坦層5和黑色矩陣6，垂直過渡區(qū)21包括由下至上依次設(shè)置在玻璃板上4的彩色濾光片7及黑色矩陣6；

非像素區(qū)3包括由下至上依次設(shè)置在玻璃基板4上的平坦層5和黑色矩陣6。

所述垂直過渡區(qū)21和水平過渡區(qū)22的黑色矩陣6相連，顯示區(qū)1平坦層5與過渡區(qū)交接處為斜坡結(jié)構(gòu)。所述水平過渡區(qū)22的黑色矩陣6包括多個子光阻墊片層61和兩個主光阻墊片層62，所述主光阻墊片層61和子光阻墊片層62為橫截面為梯形的凸起，所述主光阻墊片層61設(shè)置在水平過渡區(qū)22兩端，多個子光阻墊片層62設(shè)置在兩個主光阻墊片層61之間。所述的主光阻墊片層61高度大于所述子光阻墊片層62的高度。所述垂直過渡區(qū)21的黑色矩陣6與顯示區(qū)1平坦層相連。所述顯示區(qū)1的平坦層5厚度與非像素區(qū)3的平坦層5厚度相同。所述過渡區(qū)黑色矩陣6與非顯示區(qū)3黑色矩陣6相連。

實施例：

將顯示區(qū)彩色濾光片厚度設(shè)置為2.5μm，顯示區(qū)平坦層厚度設(shè)置為2μm；設(shè)置在顯示區(qū)短邊的垂直過渡區(qū)的色彩濾光片厚度為2.5μm,垂直過渡區(qū)黑色矩陣厚度為2.5μm,顯示區(qū)和過渡區(qū)的厚度無地形差，對整體陣列基板的平坦化有改善作用，增強了顯示效果。

將水平過渡區(qū)色彩濾光片厚度設(shè)置為2.5μm，水平過渡區(qū)平坦層厚度設(shè)置為2μm，水平過渡區(qū)黑色矩陣厚度為2.5μm，設(shè)置在水平過渡區(qū)兩側(cè)的垂直過渡區(qū)色彩濾光片厚度設(shè)置為2.5μm，垂直過渡區(qū)黑色矩陣厚度為2μm，且水平過渡區(qū)和垂直過渡區(qū)的黑色矩陣相連，水平過渡區(qū)和垂直過渡區(qū)相交處的黑色矩陣為斜坡結(jié)構(gòu)。

非像素區(qū)的平坦層厚度為2μm,非像素區(qū)的黑色矩陣厚度為3.9μm。

通過將過渡區(qū)的平坦層去掉使過渡區(qū)像素的高度與顯示區(qū)像素的高度相近，對整體陣列基板的平坦化有改善作用。

雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其進行各種改進并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖突，各個實施例中所提到的各項技術(shù)特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文中公開的特定實施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術(shù)方案。