專利名稱：光學(xué)設(shè)備用遮光部件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及可以用于各種光學(xué)設(shè)備的快門(mén)、光圈部件等中的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。
背景技術(shù)：
近年，由于對(duì)高性能單反式照相機(jī)、微型照相機(jī)、攝像機(jī)等各種光學(xué)設(shè)備的小型化、輕量化的要求，通過(guò)金屬材料形成的光學(xué)設(shè)備的快門(mén)或光圈部件正逐漸被塑料材料替代。作為這樣的塑料材料的光圈，已知有在薄膜基材上形成含有炭黑、潤(rùn)滑劑、微粒及粘合劑樹(shù)脂的遮光膜的遮光性薄膜(專利文獻(xiàn)1、2)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)平9-274218號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 W02006/016555號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問(wèn)題上述的遮光性薄膜由于與由金屬材料形成的遮光部件相比硬挺度極其弱，所以若使用該遮光性薄膜作為光學(xué)設(shè)備的快門(mén)或光圈部件則不耐用，產(chǎn)生由與其它部件的接觸部位產(chǎn)生形變，發(fā)生變形或破損的問(wèn)題。這樣的問(wèn)題在要求薄型化的近年的狀況下可以說(shuō)是
重大課題。針對(duì)該問(wèn)題，還考慮了使由金屬材料形成的遮光部件直接薄型化的方法，但若使用該遮光部件作為快門(mén)或光圈部件，則容易由于與其它部件的接觸而產(chǎn)生變形。由于所述變形在金屬材料的性質(zhì)上不會(huì)恢復(fù)原樣，所以在這樣的遮光部件中不好用。此外，金屬材料與塑料材料相比，成本相當(dāng)高。這樣，要求在不使用金屬材料的情況下即使薄型化也具有硬挺度、不易產(chǎn)生薄膜的破損等的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。用于解決問(wèn)題的方案本發(fā)明者們針對(duì)該問(wèn)題，發(fā)現(xiàn)通過(guò)制成在遮光膜中含有作為粘合劑樹(shù)脂的羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂、和平均粒徑低于I y m的微粒的遮光部件，能夠得到即使薄型化也具有硬挺度、即使與其它部件接觸也不易產(chǎn)生薄膜的破損等的遮光部件，從而完成本發(fā)明。S卩，本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于，其是包含由合成樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的基材、和形成于上述基材的至少單面上的遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，上述遮光膜含有羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂、炭黑及平均粒徑低于Ium的微粒。此外，本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備用遮光部件中，微粒優(yōu)選為無(wú)機(jī)微粒。此外，該無(wú)機(jī)微粒優(yōu)選為碳酸鈣。
此外,本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，優(yōu)選遮光膜包含二氧化娃。發(fā)明的效果根據(jù)上述發(fā)明，通過(guò)使遮光膜中含有羥值為100(mgK0H/g)以上的粘合劑樹(shù)脂及平均粒徑低于I U m的微粒，能夠制成即使薄型化也具有硬挺度、不易產(chǎn)生薄膜的破損等的遮光部件。


圖I是說(shuō)明用于測(cè)定光學(xué)設(shè)備用遮光部件的硬挺度的測(cè)定裝置的圖。
具體實(shí)施例方式以下，對(duì)本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備用遮光部件(以下，有時(shí)也稱為“遮光部件”)的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。本發(fā)明的遮光部件包含由合成樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的基材、和形成于上述基材的至少單面上的遮光膜。該遮光膜含有羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂、炭黑及平均粒徑低于I U m的微粒。另外，本發(fā)明中所謂的平均粒徑是指用激光衍射式粒度分布測(cè)定裝置(例如、島津制作所社SALD-7000等)測(cè)定的中值粒徑(D50)。作為由合成樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的基材，可列舉出由聚酯、ABS (丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)、聚酰亞胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、丙烯酸、聚烯烴、纖維素樹(shù)脂、聚砜、聚苯硫醚、聚醚砜、聚醚醚酮等構(gòu)成的基材。尤其適宜使用聚酯薄膜，從機(jī)械強(qiáng)度、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異的方面考慮特別優(yōu)選經(jīng)拉伸加工、特別是雙軸拉伸加工的聚酯薄膜。此外，作為基材，透明的基材當(dāng)然可以使用，也可以使用發(fā)泡聚酯薄膜、含有炭黑等黑色顏料或其它顏料的合成樹(shù)脂薄膜。這種情況下，上述的基材可以根據(jù)各自的用途選擇適合的基材。例如，作為遮光部件使用時(shí)，由于在部件截面的合成樹(shù)脂薄膜部分中被透鏡等聚光的光發(fā)生反射而造成不良影響，所以在需要高遮光性的情況下，可以使用含炭黑等黑色顏料的合成樹(shù)脂薄膜，在其它的情況下，可以使用透明或發(fā)泡的合成樹(shù)脂薄膜。本實(shí)施方式中，由于由遮光膜自身可得到作為遮光部件的充分的遮光性，所以使合成樹(shù)脂薄膜中含有黑色顏料時(shí)，只要按照目視看起來(lái)為黑色的程度、即光學(xué)濃度達(dá)到3左右的方式含有合成樹(shù)脂薄膜即可。因此，由于不像以往那樣使合成樹(shù)脂薄膜中含有黑色顏料至損害作為基材的物性的限度，所以能夠在不使合成樹(shù)脂薄膜的物性發(fā)生變化的情況下廉價(jià)地得到。作為基材的厚度，優(yōu)選4 50y m，特別是從薄型化的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選4 38 u m0此外，從提高與遮光膜的粘接性的觀點(diǎn)出發(fā)，也可以對(duì)基材根據(jù)需要進(jìn)行錨固處理或電暈處理。形成于基材的至少單面上的遮光膜含有羥值為100(mgK0H/g)以上的粘合劑樹(shù)月旨、炭黑及平均粒徑低于I U m的微粒。通常，若在粘合劑樹(shù)脂中使用平均粒徑低于Ium的微粒，則由于粒徑小，所以存在微粒彼此間發(fā)生凝集的傾向。這樣的話，所述微粒無(wú)法在粘合劑樹(shù)脂中均一地分散而不均衡地存在。若通過(guò)所述材料來(lái)形成遮光膜，則容易在遮光膜中形成微粒的存在密度低的部分，在遮光膜中形成容易局部地發(fā)生變形的部分。若將具備該遮光膜的遮光部件使用一定時(shí)間，則由容易變形的部分產(chǎn)生彎曲 變形，所以認(rèn)為不一定可以說(shuō)硬挺度強(qiáng)。另一方面，若使羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂中含有平均粒徑低于I U m的微粒而使用，則該微粒受該粘合劑樹(shù)脂的羥值的影響不會(huì)局部地發(fā)生凝集而均一地分散。由此，認(rèn)為能夠制成作為遮光膜整體微粒的分散平衡變得適宜，即使作為遮光部件使用，也不易局部地產(chǎn)生彎曲 變形，硬挺度強(qiáng)的遮光部件。作為羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂，可列舉出聚(甲基)丙烯酸系樹(shù)月旨、聚酯樹(shù)脂、聚醋酸乙烯酯樹(shù)脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮丁醛樹(shù)脂、纖維素系樹(shù)脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、環(huán)氧丙烯酸酯系樹(shù)脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系樹(shù)脂、聚酯丙烯酸酯系樹(shù)脂、聚醚丙烯酸酯系樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、蜜胺系樹(shù)脂、尿素系樹(shù)脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹(shù)脂等熱塑性樹(shù)脂或熱固化性樹(shù)脂，可以使用它們的I種或?qū)?種以上混合使用。粘合劑樹(shù)脂的羥值設(shè)定為100 (mgKOH/g)以上。通過(guò)將粘合劑樹(shù)脂的羥值設(shè)定為100 (mgKOH/g)以上，從而如上所述使平均粒徑低于I U m的微粒在遮光膜中均一地分散，即使將遮光膜薄型化作為遮光部件整體也能夠支撐具有硬挺度，不易產(chǎn)生薄膜的破損等的遮光部件。從進(jìn)一步發(fā)揮硬挺度的觀點(diǎn)出發(fā)，粘合劑樹(shù)脂的羥值優(yōu)選為125(mgK0H/g)以上，更優(yōu)選為200 (mgKOH/g)以上。另一方面，作為上限，從防止彎曲應(yīng)力降低而涂膜變脆的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選設(shè)定為250 (mgK0H/g)以下。羥值為100 (mgK0H/g)以上的粘合劑樹(shù)脂的含有率在遮光膜中優(yōu)選設(shè)定為15重量％以上，更優(yōu)選設(shè)定為20重量％以上。通過(guò)將上述粘合劑樹(shù)脂的含有率在遮光膜中設(shè)定為15重量％以上，能夠防止基材與遮光膜的粘接性降低。另一方面，上述粘合劑樹(shù)脂的含有率在遮光膜中優(yōu)選設(shè)定為50重量％以下，更優(yōu)選設(shè)定為45重量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定為40重量％以下。通過(guò)將上述粘合劑樹(shù)脂的含有率在遮光膜中設(shè)定為50重量％以下，能夠防止遮光性降低。遮光膜中含有的炭黑用于使粘合劑樹(shù)脂著色為黑色而賦予遮光性，并且賦予導(dǎo)電性而防止由靜電產(chǎn)生的帶電。 為了得到充分的遮光性，炭黑的平均粒徑優(yōu)選I U m以下，更優(yōu)選設(shè)定為0. 5 y m以下。炭黑的含有率在遮光膜中優(yōu)選10重量％ 50重量％，更優(yōu)選設(shè)定為15重量％ 45重量％。通過(guò)在遮光膜中設(shè)定為10重量％以上，能夠防止遮光性及導(dǎo)電性降低，通過(guò)設(shè)定為50重量％以下，粘接性或耐擦傷性提高，此外能夠防止涂膜強(qiáng)度的降低及成本變高。此外，從通過(guò)在遮光膜的表面形成微細(xì)的凹凸來(lái)減少入射光的反射而降低表面的光澤度(鏡面光澤度)，提高制成遮光部件時(shí)的消光性的觀點(diǎn)出發(fā)，也可以含有無(wú)機(jī)粒子。作為無(wú)機(jī)粒子，可列舉出二氧化硅、偏硅酸鋁酸鎂、氧化鈦等，它們中，從粒子的分散性、低成本等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用二氧化硅。無(wú)機(jī)粒子的平均粒徑優(yōu)選I ii m 10 ii m,更優(yōu)選設(shè)定為I ii m 6 ii m。通過(guò)設(shè)定為這樣的范圍，從而在遮光部件的表面形成微細(xì)的凹凸，可得到消光性。無(wú)機(jī)粒子的含有率在遮光膜中優(yōu)選0. 5重量％ 10重量％，更優(yōu)選設(shè)定為0. 5重量％ 5重量％。通過(guò)在遮光膜中設(shè)定為0. 5重量％以上，從而能夠防止表面的光澤度(鏡面光澤度)增加而消光性降低。另一方面，通過(guò)設(shè)定為10重量％以下，從而能夠防止因遮光部件的滑動(dòng)而產(chǎn)生無(wú)機(jī)粒子的脫落、或遮光部件自身產(chǎn)生傷痕，能夠防止導(dǎo)致滑動(dòng)性的降低。特別是在要求高的遮光性或?qū)щ娦缘那闆r下，無(wú)機(jī)粒子的含有率從上述的范圍進(jìn)一步優(yōu)選在遮光膜中設(shè)定為5重量％以下。本實(shí)施方式中使用的無(wú)機(jī)粒子由于如上所述即使少量也能得到高的消光性，所以通過(guò)設(shè)定為5重量％以下，可得到充分的消光性，并且能夠相對(duì)地使炭黑、后述的微粒的含有率增加，能夠在不降低硬挺度的情況下提高遮光性、導(dǎo)電性等物性。遮光膜中含有的平均粒徑低于I U m的微粒通過(guò)如上所述與羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂組合使用，能夠制成作為遮光膜整體微粒的分散平衡變得適宜，即使作為遮光部件使用，也不易局部地產(chǎn)生彎曲 變形，硬挺度強(qiáng)的遮光部件。此外，還能夠提高制成遮光膜時(shí)的涂膜的硬度。進(jìn)而，由于不易局部地產(chǎn)生彎曲 變形，所以能夠制成不易引起熱變形的遮光部件。
作為這樣的微粒，可列舉出例如聚乙烯蠟、石蠟等烴系滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等脂肪酸系滑劑；油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系滑劑；硬脂酸單甘油酯等酯系滑劑；醇系滑劑、硅酮樹(shù)脂粒子、聚四氟乙烯蠟等氟樹(shù)脂粒子、丙烯酸樹(shù)脂粒子、交聯(lián)丙烯酸樹(shù)脂粒子、交聯(lián)聚苯乙烯樹(shù)脂粒子等由樹(shù)脂微粒構(gòu)成的粒子、或金屬皂、滑石、二硫化鑰、碳酸鈣、二氧化硅、氫氧化鋁、氧化鋯、硫酸鋇、氧化鈦等固體潤(rùn)滑劑等由無(wú)機(jī)微粒構(gòu)成的物質(zhì)。它們中，從整體上粒子的硬度高而有助于硬挺度的提高的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選使用由無(wú)機(jī)微粒構(gòu)成的物質(zhì)。進(jìn)而在無(wú)機(jī)微粒中，若使用碳酸鈣，則作為遮光部件硬挺度更強(qiáng)，所以優(yōu)選。這些微?？梢允褂肐種或?qū)?種以上混合使用。另外，這里所列舉的二氧化硅與前述的為了提高消光性而含有的二氧化硅不同。微粒的含有率在遮光膜中優(yōu)選設(shè)定為2. 5重量％ 40重量％，更優(yōu)選設(shè)定為10重量％ 35重量％。通過(guò)在遮光膜中設(shè)定為2. 5重量％以上，能夠進(jìn)一步增強(qiáng)硬挺度，通過(guò)設(shè)定為40重量％以下，能夠提高炭黑的相對(duì)的含量，能夠在得到硬挺度的同時(shí)防止遮光性降低。此外，關(guān)于上述微粒相對(duì)于上述粘合劑樹(shù)脂的含有比例，相對(duì)于上述粘合劑樹(shù)脂100重量份，優(yōu)選含有30 200重量份的上述微粒，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定為50 150重量份。通過(guò)設(shè)定為這樣的含有比例，能夠制成維持遮光性、并且遮光膜中的上述微粒的分散平衡進(jìn)一步得到改善、硬挺度更優(yōu)異的遮光部件。形成于基材的至少單面上的遮光膜中，只要是不損害本發(fā)明的功能的情況，可以含有阻燃劑、抗菌劑、防霉劑、抗氧化劑、增塑劑、流平劑、流動(dòng)調(diào)整劑、消泡劑、分散劑等各種添加劑。遮光膜的厚度優(yōu)選3 ii m 30 ii m,更優(yōu)選設(shè)定為5 ii m 20 ii m。通過(guò)設(shè)定為3 y m以上，能夠防止遮光膜中產(chǎn)生針孔等，能夠得到充分的遮光性。此外，通過(guò)設(shè)定為30i!m以下，能夠防止遮光膜中產(chǎn)生裂紋。本實(shí)施方式的光學(xué)設(shè)備用遮光部件可以通過(guò)在基材的單面或兩面上，利用浸潰涂布、輥涂、棒涂、模涂、刮刀涂布、氣刀涂布等以往公知的涂布方法涂布上述那樣的含有羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂、炭黑及平均粒徑低于Ium的微粒等的遮光膜用涂布液，使其干燥后，根據(jù)需要進(jìn)行加熱 加壓等而得到。涂布液的溶劑可以使用水或有機(jī)溶劑、水與有機(jī)溶劑的混合物等。如上所述，本實(shí)施方式的光學(xué)設(shè)備用遮光部件由于在基材的至少單面上包含特定的遮光膜，所以保持了遮光性、導(dǎo)電性等的遮光膜的物性，因此適宜作為高性能單反式照相機(jī)、微型照相機(jī)、攝像機(jī)、手機(jī)、放映機(jī)等光學(xué)設(shè)備的快門(mén)、光圈部件使用。特別是本實(shí)施方式的遮光膜由于含有羥值為100 (mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂和平均粒徑低于I U m的微粒，所以能夠使微粒在遮光膜中均一地分散，因此能夠制成即使薄型化也具有硬挺度、不易產(chǎn)生薄膜的破損等的遮光部件。其結(jié)果是，特別適宜用于近年來(lái)特別要求薄型化的帶照相機(jī)的手機(jī)的快門(mén)、光圈部件等中。進(jìn)而，由于不易局部地產(chǎn)生彎曲 變形，所以能夠制成不易引起熱變形的遮光部件。
實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行說(shuō)明。另外，“份”、只要沒(méi)有特別指示則為重量基準(zhǔn)。I.遮光部件的制作[實(shí)施例I]作為基材使用厚度25 ii m的黑色聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(LumirrorX30 :東麗公司)，在該基材的兩面按照干燥時(shí)的厚度分別達(dá)到10 的方式分別通過(guò)棒涂法涂布下述配方的遮光膜用涂布液并進(jìn)行干燥而形成遮光膜，制作了實(shí)施例I的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。<實(shí)施例I的遮光膜用涂布液>
聚酯多元醇9.68份
(BURNOCK 11-408 DIC公司、羥位2()0(mgKOH/g)、N體成分70%)
異氰酸酯9.37份
(BURNOCK DN980 DlC公Hj、固體成分75%)
炭黑4.57份
(VULCAN XC-72 Cabot Corporation)
.二氧化硅0.89份
(TS100 Evonik Degussa Japan Co., Ltd.、' 個(gè)均粒徑4fxm)
微粒(碳酸媽)7.50份 (Sunlight SL-700竹原化學(xué)工業(yè)社、f 均粒徑0.74〖im)
甲基乙基酮36.93份 甲苯15.83份[實(shí)施例2]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將聚酯多元醇變更為聚酯多元醇(BURNOCKJ-517 DIC公司、羥值140 (mgKOH/g)、固體成分70% )，將異氰酸酯的添加量設(shè)定為6. 56重量份，除此以外與實(shí)施例I同樣地，制作了實(shí)施例2的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。[實(shí)施例3]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將聚酯多元醇變更為聚酯多元醇(BURNOCKD-144-65BA =DIC公司、羥值100 (mgKOH/g)、固體成分65% )并將添加量設(shè)定為10. 42重量份，進(jìn)一步將異氰酸酯的添加量設(shè)定為5. 04重量份，除此以外與實(shí)施例I同樣地，制作了實(shí)施例3的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。[實(shí)施例4]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將微粒(碳酸鈣)變更為微粒(氧化鈦、A-100 :石原產(chǎn)業(yè)社、平均粒徑0. 15 ym)，除此以外與實(shí)施例I同樣地，制作了實(shí)施例4的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。[實(shí)施例5]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將微粒(碳酸鈣)變更為微粒(丙烯酸粒子、Chemisnow MP-1600 :綜研化學(xué)社、平均粒徑0. 8 y m),除此以外與實(shí)施例I同樣地,制作了實(shí)施例5的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。[比較例I]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將聚酯多元醇變更為丙烯酸多元醇(ACRYDIC A-801P =DIC公司、羥值50 (mgKOH/g)、固體成分50% )并將添加量設(shè)定為13. 55重量份，將異氰酸酯的添加量設(shè)定為3. 28重量份，除此以外與實(shí)施例I同樣地，制作了比較例I的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。[比較例2]實(shí)施例I中使用的遮光膜用涂布液中，將微粒(碳酸鈣)變更為粒子(硫酸鋇、BMH :堺化學(xué)工業(yè)公司、平均粒徑2. 5 y m)，除此以外與實(shí)施例I同樣地，制作了比較例2的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。2.評(píng)價(jià)對(duì)于如上所述實(shí)施例I 5及比較例I 2中得到的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，通過(guò)下述的方法進(jìn)行物性的評(píng)價(jià)。將各自的結(jié)果示于表I中。(I)遮光性對(duì)于上述實(shí)施例I 5及比較例I 2中得到的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，依據(jù)JISK7651 1988使用光學(xué)濃度計(jì)(TD-904 =GretagMacbeth公司)測(cè)定光學(xué)濃度。將光學(xué)濃度超過(guò)4.0，達(dá)到無(wú)法測(cè)定區(qū)域的濃度者設(shè)為“〇”，將光學(xué)濃度為4.0以下者設(shè)為“ X ”。另夕卜，測(cè)定使用UV濾色器。將測(cè)定結(jié)果示于表I中。(2)硬挺度由實(shí)施例I 5及比較例I 2中得到的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，采集寬I. 5cm且長(zhǎng)20cm的實(shí)施例I 5及比較例I 2的樣品，將該樣品分別沿長(zhǎng)度方向繞2周而制成圓筒狀，在該圓筒狀的樣品的存在于最表面的樣品端邊成為中心的位置用聚酯膠帶(米其邦公司)粘接寬I. 5cm且長(zhǎng)I. 8cm使得該樣品不重疊成三層，制作寬度(高度)I. 5cm、直徑約
3.2cm的圓筒狀的實(shí)施例I 5及比較例I 2的樣品。接著，準(zhǔn)備由包含市售的由電子天平(BX3200D :島津制作所社)的測(cè)量部3和上部固定部2構(gòu)成、且上述測(cè)量部3與上述上部固定部的間隙為2cm的圖I那樣的測(cè)定裝置10。在所述測(cè)定裝置10的測(cè)量部3與上部固定部2的間隙中，按照該圓筒狀的側(cè)面與該測(cè)量裝置10的測(cè)量部3及上部固定部2接觸的方式載置上述的直徑約3. 2cm的圓筒狀的實(shí)施例I 5及比較例I 2的樣品1，測(cè)定樣品I的基于彈性力的10秒后的測(cè)量部3的電子天平的計(jì)量量。將測(cè)定的結(jié)果、計(jì)量量為Ig以上者設(shè)為“◎”，將計(jì)量量為0. 7g以上 低于Ig者設(shè)為“〇”，將計(jì)量量低于0. 7g者設(shè)為“ X ”。將測(cè)定結(jié)果示于表I中。(3)耐久性使用實(shí)施例I 5及比較例I 2中得到的光學(xué)設(shè)備用遮光部件作為照相機(jī)的光圈部件，使其工作2萬(wàn)5千次并通過(guò)目視確認(rèn)該光學(xué)設(shè)備用遮光部件有無(wú)變形或破損。將沒(méi)有變形或破損者設(shè)為“〇”，將有變形或破損者設(shè)為“ X ”。此外，對(duì)于沒(méi)有變形或破損的遮
光部件，將使其再次工作2萬(wàn)5千次后通過(guò)目視確認(rèn)時(shí)也沒(méi)有變形或破損者設(shè)為“ ◎”。將測(cè)定結(jié)果示于表I中。(4)熱變形準(zhǔn)備在基材的一個(gè)面上設(shè)置有上述實(shí)施例I 5及比較例I 2的遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。裁斷成縱橫IOcmX IOcm，在80°C、5分鐘的環(huán)境中靜置，測(cè)定端部的卷曲量。將卷曲量的四角的合計(jì)為Omm以上 低于30mm者設(shè)為將為30mm以上者設(shè)為“X”。將測(cè)定結(jié)果示于表I中。(5)粘接性依據(jù)JIS 5600-5-6中的劃格膠帶法測(cè)定上述實(shí)驗(yàn)例I 5及比較例I 2中得到的光學(xué)設(shè)備用遮光部件的遮光膜與基材的粘接性并進(jìn)行評(píng)價(jià)。將劃格部分的面積剝離10%以上者設(shè)為“ X ”，將剝離5%以上且低于10%者設(shè)為“A”，將剝離低于5%者設(shè)為“〇”。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于，其是包含由合成樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的基材、和形成于所述基材的至少單面上的遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光部件， 所述遮光膜含有羥值為100mgK0H/g以上的粘合劑樹(shù)脂、炭黑及平均粒徑低于I y m的微粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于， 所述微粒為無(wú)機(jī)微粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于， 所述微粒為碳酸鈣。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于， 所述遮光膜含有二氧化硅。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供即使薄型化也具有硬挺度、不易產(chǎn)生薄膜的破損等的光學(xué)設(shè)備用遮光部件。本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，其特征在于，其是包含由合成樹(shù)脂薄膜構(gòu)成的基材、和形成于上述基材的至少單面上的遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光部件，上述遮光膜含有羥值為100(mgKOH/g)以上的粘合劑樹(shù)脂、炭黑及平均粒徑低于1μm的微粒。此外，其特征在于，上述微粒為無(wú)機(jī)微粒。
文檔編號(hào)C08K3/26GK102985854SQ20118003400
公開(kāi)日2013年3月20日 申請(qǐng)日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月9日
發(fā)明者堀川晃, 原田正裕 申請(qǐng)人:木本股份有限公司