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化合物氟硼酸銣和氟硼酸銣非線性光學(xué)晶體及制備方法和用途與流程

文檔序號(hào):11765211閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種化合物氟硼酸銣和氟硼酸銣非線性光學(xué)晶體及制備方法和用途,所述化合物的化學(xué)式為RbB4O6F,分子量為243.71,采用固相合成法或真空封裝法制成;該晶體的化合物的化學(xué)式為RbB4O6F,分子量為243.71,屬于正交晶系,空間群為Pna21,晶胞參數(shù)為a=7.6742?,b=11.228??,c=6.6218??,α=β=γ=90°,單胞體積為570.57??3,晶體的倍頻效應(yīng)約為KH2PO4?(KDP)?的1.9倍,紫外吸收邊短于190nm,采用熔體法,高溫熔液法,真空封裝法,水熱法或室溫溶液法生長(zhǎng)晶體,該晶體的化學(xué)穩(wěn)定性好,可作為紫外、深紫外非線性光學(xué)晶體在全固態(tài)激光器中獲得應(yīng)用。

技術(shù)研發(fā)人員:潘世烈;王穎;張方方
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國(guó)科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所
技術(shù)研發(fā)日:2017.07.04
技術(shù)公布日:2017.10.20
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