相關(guān)申請的交叉引用
于2016年3月30日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的且標(biāo)題為“用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法、用于制造顯示設(shè)備的方法及顯示設(shè)備”的第10-2016-0038599號韓國專利申請通過引用以其整體并入本文。
實(shí)施方式涉及用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法、用于制造顯示設(shè)備的方法以及顯示設(shè)備。
背景技術(shù):
通常,在用于顯示設(shè)備的顯示面板、觸摸感測單元、窗口部等中設(shè)置強(qiáng)化玻璃基板。近年來,由于對具有薄厚度的顯示設(shè)備的興趣增加,所以已進(jìn)行了針對設(shè)置有均勻強(qiáng)度且具有薄厚度的玻璃基板的研究。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
實(shí)施方式針對用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法,該方法包括在平板玻璃的至少一個表面中形成多個凹槽圖案、對形成有凹槽圖案的至少一個表面施加離子交換漿體、對涂覆有離子交換漿體的平板玻璃施加電場以形成強(qiáng)化平板玻璃以及切割強(qiáng)化平板玻璃以形成強(qiáng)化玻璃基板。
形成凹槽圖案可通過對至少一個表面施加激光或熱能來執(zhí)行。
形成凹槽圖案可包括在平板玻璃的第一表面上形成多個第一凹槽圖案,多個第一凹槽圖案在第一方向上延伸并且在與第一方向交叉的第二方向上彼此間隔開。
當(dāng)從平板玻璃的上側(cè)觀察時,第一凹槽圖案中的每個可形成為凹的。
形成凹槽圖案還可包括在平板玻璃的第二表面上形成多個第二凹槽圖案,第二表面是平板玻璃的與第一表面相對的相對面。
形成第二凹槽圖案可包括將第二凹槽圖案形成為在第一方向上延伸并且在第二方向上彼此間隔開。
當(dāng)從平板玻璃的下側(cè)觀察時,第二凹槽圖案中的每個可形成為凹的。
第二凹槽圖案中的每個可形成為與第一凹槽圖案中的對應(yīng)一個重疊。
施加離子交換漿體可包括施加離子交換漿體以接觸形成有第一凹槽圖案的第一表面,由此形成第一離子交換漿體層;以及施加離子交換漿體以接觸形成有第二凹槽圖案的第二表面,由此形成第二離子交換漿體層。
形成強(qiáng)化平板玻璃可包括將第一離子交換漿體層連接至第一電極、將第二離子交換漿體層連接至第二電極以及對第一電極和第二電極中的至少一個施加電壓。
施加的離子交換漿體可包含k+離子。
形成強(qiáng)化玻璃基板可包括施加激光能量或切割輪來切割強(qiáng)化平板玻璃,由此形成強(qiáng)化玻璃基板。
形成強(qiáng)化玻璃基板可包括沿著與多個凹槽圖案中的至少一個重疊的切割參考線切割強(qiáng)化平板玻璃,以形成強(qiáng)化玻璃基板。
強(qiáng)化玻璃基板可包括接收張應(yīng)力的張應(yīng)力層、接觸張應(yīng)力層的一個表面以接收壓應(yīng)力的第一壓應(yīng)力層、以及接觸張應(yīng)力層的另一表面以接收壓應(yīng)力的第二壓應(yīng)力層。
形成強(qiáng)化玻璃基板可包括將強(qiáng)化玻璃基板形成為至少一端的厚度小于鄰近于強(qiáng)化玻璃基板的重心的區(qū)域的厚度。
附圖說明
通過參照附圖詳細(xì)描述示例性實(shí)施方式,特征將對本領(lǐng)域技術(shù)人員變得明顯,在附圖中:
圖1示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的流程圖;
圖2a、圖3a、圖4a、圖5a、圖6a、圖7a和圖8a示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的各階段的立體圖;
圖2b、圖3b、圖4b、圖5b、圖6b、圖7b和圖8b示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的各階段的剖視圖;
圖9示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的制造顯示設(shè)備的方法的流程圖;
圖10a和圖10b示出了根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備的示意性立體圖;
圖11示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的顯示面板的示意性剖視圖;
圖12a和圖12b示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的觸摸感測單元的示意性立體圖;
圖13示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的窗口部的示意性剖視圖;
圖14a、圖14b、圖14c和圖14d示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的強(qiáng)化玻璃基板的示意性剖視圖;以及
圖15示出了根據(jù)相關(guān)技術(shù)的在顯示設(shè)備中設(shè)置的強(qiáng)化玻璃基板的示意性剖視圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)將在下文中參照附圖更全面地描述示例性實(shí)施方式;然而,實(shí)施方式可以不同的形式實(shí)施,并且不應(yīng)解釋為受限于本文中所闡述的實(shí)施方式。相反,這些實(shí)施方式被提供以使得本公開將是徹底和完整的,并且將示例性實(shí)現(xiàn)方案充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。
在附圖中,為了清楚地圖示,可能夸大層和區(qū)域的尺寸。還應(yīng)理解,當(dāng)層或元件被指示為位于另一層或基板“上”時,其可直接地位于另一層或基板上,或者也可能存在中間層。在整個說明書中相同的參考標(biāo)記指示相同的元件。
圖1示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的流程圖。圖2a、圖3a、圖4a、圖5a、圖6a、圖7a和圖8a示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的各階段的立體圖。圖2b、圖3b、圖4b、圖5b、圖6b、圖7b和圖8b示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的各階段的剖視圖。
參照圖1、圖2a至圖8a以及圖2b至圖8b,根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板tgs的方法包括:在平板玻璃gd的至少一個表面中形成多個凹槽圖案pt1和pt2的過程(s100);對其中形成有凹槽圖案pt1和pt2的表面施加離子交換漿體的過程(s200);對涂覆有離子交換漿體的平板玻璃gd施加電場以形成強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程(s300);以及切割強(qiáng)化平板玻璃tgd以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs的過程(s400)。
參照圖1、圖2a、和圖2b,平板玻璃gd被制備。平板玻璃gd可表示在切割之前具有平板形狀的玻璃,其可能在使用中存在困難。
參照圖1、圖3a、圖3b、圖4a、和圖4b,形成凹槽圖案pt1和pt2的過程(s100)可包括以下過程:在平板玻璃gd的第一表面sf1上,形成在第一方向dr1上延伸并且在與第一方向dr1交叉的第二方向dr2上彼此間隔開的多個第一凹槽圖案pt1。形成凹槽圖案pt1和pt2的過程(s100)可包括在第二表面sf2上形成多個第二凹槽圖案pt2的過程,其中第二表面sf2是平板玻璃gd的與第一表面sf1相對的相對面。
參照圖1、圖3a和圖3b,多個第一凹槽圖案pt1可形成在平板玻璃gd的第一表面sf1上(s100)。例如,第一表面sf1可以是平板玻璃gd的頂面。形成第一凹槽圖案pt1的過程(s100)可例如通過向第一表面sf1提供激光或熱能來實(shí)施。
第一凹槽圖案pt1可在第一方向dr1上延伸并且在與第一方向dr1交叉的第二方向dr2上彼此間隔開。如圖3a和圖3b所示,第一凹槽圖案pt1的二者之間可具有相同的距離。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第一凹槽圖案pt1之間的距離中的至少之一可不同。
第一凹槽圖案pt1可從第一表面sf1凹陷。當(dāng)從上側(cè)(例如,第三方向dr3)觀察時,第一凹槽圖案pt1可以是凹的。如圖3a和圖3b所示,第一凹槽圖案pt1中的每個可具有構(gòu)成圓或橢圓的一部分的形狀。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第一凹槽圖案pt1可在剖視圖中具有各種其他形狀,諸如構(gòu)成三角形的一部分、或四邊形的一部分的形狀。
參照圖1、圖4a和圖4b,根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板tgs的方法還可包括在第二表面sf2上形成多個第二凹槽圖案pt2的過程,其中第二表面sf2在平板玻璃gd的相對面上面向第一表面sf1。例如,第二表面sf2可以是平板玻璃gd的底面。形成第二凹槽圖案pt2的過程可包括例如向第二表面sf2提供激光或熱能。
第二凹槽圖案pt2可在第一方向dr1上延伸并且可在與第一方向dr1交叉的第二方向dr2上彼此間隔開。如圖4a和圖4b所示,第二凹槽圖案pt2的二者之間可具有相同的距離。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第二凹槽圖案pt2之間的距離中的至少之一可不同。
第二凹槽圖案pt2可從第二表面sf2凹陷。當(dāng)從下側(cè)(例如,第四方向dr4)觀察時,第二凹槽圖案pt2可以是凹的。當(dāng)從上側(cè)(例如,第三方向dr3)觀察時,第二凹槽圖案pt2可以是凸的。如圖4a和圖4b所示,第二凹槽圖案pt2中的每個可具有構(gòu)成圓或橢圓的一部分的形狀。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第二凹槽圖案pt2可在剖視圖中具有各種其他形狀,諸如分別構(gòu)成三角形的一部分、或四邊形的一部分的形狀。
第二凹槽圖案pt2可與第一凹槽圖案pt1重疊。如圖4a和圖4b所示,一個第二凹槽圖案pt2可與第一凹槽圖案pt1中的對應(yīng)一個重疊。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,一個第二凹槽圖案可與一個第一凹槽圖案的部分重疊。
參照圖1、圖5a和圖5b,可向形成有第一凹槽圖案pt1和第二凹槽圖案pt2的一個表面施加離子交換漿體(s200)。離子交換漿體可包含k+離子。施加離子交換漿體的過程(s200)可包括向第一表面sf1施加離子交換漿體以形成第一離子交換漿體層ip1的過程。施加離子交換漿體的過程(s200)還可包括向形成有第二凹槽圖案pt2的第二表面sf2的底面施加離子交換漿體的過程??上虻诙砻鎠f2的底面施加離子交換漿體以形成第二離子交換漿體層ip2。
參照圖1、圖6a和圖6b,可向涂覆有離子交換漿體的平板玻璃gd施加電場以形成強(qiáng)化平板玻璃(見圖7a的參考標(biāo)記tgd)(s300)。第一離子交換漿體層ip1可連接至第一電極el1。第二離子交換漿體層ip2可連接至第二電極el2??上虻谝浑姌Oel1和第二電極el2中的至少一個施加電壓,以在第一電極el1和第二電極el2之間產(chǎn)生電場。當(dāng)向涂覆有離子交換漿體的平板玻璃gd施加電場時,可移除平板玻璃gd的表面中的na+離子。然后,可注入k+離子以替換,從而形成強(qiáng)化平板玻璃(見圖7a的參考標(biāo)記tgd)。
參照圖1、圖7a和圖7b,通過施加電場形成的強(qiáng)化平板玻璃tgd可在強(qiáng)化平板玻璃tgd的上部和下部中接收壓應(yīng)力(compressivestress),并且可在強(qiáng)化平板玻璃tgd的內(nèi)部中接收張應(yīng)力。當(dāng)na+離子經(jīng)過強(qiáng)化平板玻璃tgd的表面被移除時,強(qiáng)化平板玻璃tgd可擴(kuò)張。在k+離子被注入以替換之后,強(qiáng)化平板玻璃tgd可收縮,從而在強(qiáng)化平板玻璃tgd的上部和下部中產(chǎn)生壓應(yīng)力以及在強(qiáng)化平板玻璃tgd的內(nèi)部中產(chǎn)生張應(yīng)力。
例如,強(qiáng)化平板玻璃tgd可包括張應(yīng)力層cs、第一壓應(yīng)力層ts1以及第二壓應(yīng)力層ts2。第一壓應(yīng)力層ts1可位于張應(yīng)力層cs的頂面上。第二壓應(yīng)力層ts2可位于張應(yīng)力層cs的底面上。第一壓應(yīng)力層ts1和第二壓應(yīng)力層ts2中的每個可位于強(qiáng)化平板玻璃tgd的表面上。張應(yīng)力層cs可位于強(qiáng)化平板玻璃tgd內(nèi)。
根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板tgs的方法還可包括清潔強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程。在清潔強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程中,可移除存在于強(qiáng)化平板玻璃tgd的第一表面sf1上的第一離子交換漿體層(見圖6a的參考標(biāo)記ip1)、外來雜質(zhì)、污染物和玻璃顆粒。在清潔強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程中,可移除存在于強(qiáng)化平板玻璃tgd的第二表面sf2上的第二離子交換漿體層(見圖6a的參考標(biāo)記ip2)、外來雜質(zhì)、污染物和玻璃顆粒。
參照圖1、圖7a、7b、圖8a和圖8b,在步驟s400中可切割強(qiáng)化平板玻璃tgd以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs。作為示例,可通過施加激光能量或切割輪來切割強(qiáng)化平板玻璃tgd以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs。
在形成強(qiáng)化玻璃基板tgs的過程(s400)中,可相對于與第一凹槽圖案pt1和第二凹槽圖案pt2中的至少一個重疊的切割參考線ctl來切割強(qiáng)化平板玻璃tgd,以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs。當(dāng)相對于一個第一凹槽圖案pt1切割強(qiáng)化平板玻璃tgd時,可形成在強(qiáng)化玻璃基板tgs中設(shè)置的第一上部凹圖案(見圖14a的參考標(biāo)記cup1)和第二上部凹圖案(見圖14a的參考標(biāo)記cup2)??上鄬τ谝粋€第二凹槽圖案pt2切割強(qiáng)化平板玻璃tgd,并且可形成在強(qiáng)化玻璃基板tgs中設(shè)置的、第一下部凹圖案(見圖14a的參考標(biāo)記clp1)和第二下部凹圖案(見圖14a的參考標(biāo)記clp2)。
強(qiáng)化玻璃基板tgs可在強(qiáng)化平板玻璃tgd的上部和下部中接收壓應(yīng)力,并且可在強(qiáng)化平板玻璃tgd的內(nèi)部中接收張應(yīng)力。例如,強(qiáng)化玻璃基板tgs可包括張應(yīng)力層csp、第一壓應(yīng)力層tsp1和第二壓應(yīng)力層tsp2。第一壓應(yīng)力層tsp1可位于張應(yīng)力層csp的頂面上。第二壓應(yīng)力層tsp2可位于張應(yīng)力層csp的底面上。第一壓應(yīng)力層tsp1和第二壓應(yīng)力tsp2中的每個可位于強(qiáng)化玻璃基板tgs的上部和下部中。張應(yīng)力層csp可位于強(qiáng)化玻璃基板tgs中。
形成的強(qiáng)化玻璃基板tgs可用于如以下將描述的窗口部wd、觸摸感測單元tsu和顯示面板dp中的至少一個。
在形成強(qiáng)化玻璃基板tgs的過程(s400)中,強(qiáng)化玻璃基板tgs可具有厚度小于其與強(qiáng)化玻璃基板tgs的重心相鄰的部分的厚度的至少一個端部。
在下文中,將描述根據(jù)實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法和根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備。在下文中,將強(qiáng)調(diào)根據(jù)上述實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法的不同的各個方面,并且將不重復(fù)與根據(jù)上述實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法有關(guān)的所有描述。
圖9示出了順序描述根據(jù)實(shí)施方式的制造顯示設(shè)備的方法的流程圖。圖10a和10b示出了根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備的示意性立體圖。
參照圖1、圖2a至圖8a、圖2b至圖8b、圖9、圖10a和圖10b,根據(jù)實(shí)施方式的制造顯示設(shè)備10的方法可包括:在平板玻璃gd的至少一個表面中形成多個凹槽圖案pt1和pt2的過程(s100);對形成有凹槽圖案pt1和pt2的表面施加離子交換漿體的過程(s200);對涂覆有離子交換漿體的平板玻璃gd施加電場以形成強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程(s300);切割強(qiáng)化平板玻璃tgd以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs的過程(s400);以及提供強(qiáng)化玻璃基板tgs以形成顯示設(shè)備10的過程(s500)。在平板玻璃gd的至少一個表面中形成多個凹槽圖案pt1和pt2的過程(s100)、對形成有凹槽圖案的表面施加離子交換漿體的過程(s200)、對涂覆有離子交換漿體的平板玻璃施加電場以形成強(qiáng)化平板玻璃tgd的過程(s300)、以及切割強(qiáng)化平板玻璃tgd以形成強(qiáng)化玻璃基板tgs的過程(s400)可與用于制造強(qiáng)化玻璃基板tgs的方法中說明的過程相同。下文將詳細(xì)描述提供強(qiáng)化玻璃基板tgs以形成顯示設(shè)備10的過程s500。
在形成顯示設(shè)備10的過程(s500)中形成的顯示設(shè)備10可以是便攜式顯示設(shè)備(諸如,智能電話),或中到大型顯示設(shè)備(諸如,電視、膝上型計(jì)算機(jī)和監(jiān)視器)。形成顯示設(shè)備10的過程(s500)可包括以下過程中的至少之一:形成窗口部wd的過程、形成觸摸感測單元tsu的過程以及形成顯示面板dp的過程。包括窗口部wd和顯示面板dp中的全部的顯示設(shè)備10在圖10a中示出,并且包括窗口部wd、觸摸感測單元tsu和顯示面板dp中的全部的顯示設(shè)備10在圖10b中示出。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,圖10a中可省略窗口部wd或顯示面板dp,或者圖10b中可省略窗口部wd、觸摸感測單元tsu和顯示面板dp中的至少一個。
在下文中,如圖11、圖12a、圖12b和圖13所示,將對設(shè)置在顯示面板dp中的強(qiáng)化玻璃基板tgs、設(shè)置在觸摸感測單元tsu中的強(qiáng)化玻璃基板tgs和設(shè)置在窗口部wd中的強(qiáng)化玻璃基板tgs中的每個進(jìn)行說明。以下將參照圖14a、圖14b、圖14c和圖14d詳細(xì)說明強(qiáng)化玻璃基板tgs。
圖11示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的顯示面板的示意性剖視圖。
參照圖10a、圖10b和圖11,顯示面板dp顯示圖像。顯示面板dp可以是柔性的。術(shù)語“柔性”可指的是能夠彎曲的特性。例如,術(shù)語“柔性”可適用于從完全可折疊結(jié)構(gòu)到可切割且可彎折到幾納米程度的結(jié)構(gòu)的全部結(jié)構(gòu)范圍。
例如,顯示面板dp可以是有機(jī)發(fā)光顯示面板、液晶顯示面板、等離子顯示面板、電泳顯示面板、微機(jī)電系統(tǒng)(mems)顯示面板或電潤濕顯示面板。在圖11中,將有機(jī)發(fā)光顯示面板作為顯示面板dp的示例進(jìn)行描述。
參照圖10a、圖10b和圖11,顯示面板dp可包括像素。像素中的每個可連接至包括柵極線、數(shù)據(jù)線和驅(qū)動電壓線dvl的布線部分。像素中的每個可包括連接至布線部分的薄膜晶體管、連接至薄膜晶體管的有機(jī)電致發(fā)光器件、以及電容器。像素中的每個可發(fā)出具有特定顏色的光,例如紅光、綠光、藍(lán)光、白光、黃光和青色光之一。
顯示面板dp可包括強(qiáng)化玻璃基板tgs、薄膜晶體管和有機(jī)電致發(fā)光器件oel。強(qiáng)化玻璃基板tgs可在上部和下部中接收壓應(yīng)力以及在內(nèi)部中接收張應(yīng)力。例如,強(qiáng)化玻璃基板tgs可包括張應(yīng)力層csp、第一壓應(yīng)力層tsp1和第二壓應(yīng)力層tsp2。
半導(dǎo)體層sm可布置在強(qiáng)化玻璃基板tgs上。柵極絕緣層gi可布置在半導(dǎo)體層sm上。柵電極ge布置在柵極絕緣層gi上。源電極se和漏電極de可布置在層間絕緣層il1上。漏電極de可通過在柵極絕緣層gi和層間絕緣層il1中限定的接觸孔ch1接觸半導(dǎo)體層sm的漏極區(qū)da,以及源電極se可通過在柵極絕緣層gi和層間絕緣層il1中限定的第二接觸孔ch2接觸半導(dǎo)體層sm的源極區(qū)sa。
鈍化層pl可布置在源電極se和漏電極de上。有機(jī)電致發(fā)光器件oel可布置在鈍化層pl上。有機(jī)電致發(fā)光器件oel可包括陽極an、空穴傳輸區(qū)htr、發(fā)光層eml、電子傳輸區(qū)etr和陰極cat。
陽極an可例如為像素電極或正電極。陽極an可通過在鈍化層pl中限定的第三接觸孔ch3連接至漏電極de??昭▊鬏攨^(qū)htr可布置在陽極an上??昭▊鬏攨^(qū)htr可包括空穴注入層、空穴傳輸層、緩沖層和電子阻擋層中的至少一個。發(fā)光層eml可布置在空穴傳輸區(qū)htr上。電子傳輸區(qū)etr可布置在發(fā)光層eml上。電子傳輸區(qū)etr可包括空穴阻擋層、電子傳輸層和電子注入層中的至少一個。陰極cat可布置在電子傳輸區(qū)etr上。陰極cat可以是公共電極或負(fù)電極。
封裝層sl可布置在陰極cat上。封裝層sl可例如為薄膜封裝層。封裝層sl可保護(hù)有機(jī)電致發(fā)光器件oel。
圖12a和圖12b是根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的觸摸感測單元的示意性剖視圖。
參照圖10b、圖12a和圖12b,觸摸感測單元tsu可布置在顯示面板dp上。觸摸感測單元tsu可通過粘附層連接至顯示面板dp。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,觸摸感測單元tsu可在不使用粘附層的情況下連續(xù)地布置在顯示面板dp的部件的一部分,例如封裝層(見圖11的參考標(biāo)記sl)上。觸摸感測單元tsu可包括強(qiáng)化玻璃基板tgs、第一檢測電極tx和第二檢測電極rx。強(qiáng)化玻璃基板tgs可在上部和下部中接收壓應(yīng)力以及在內(nèi)部中接收張應(yīng)力。例如,強(qiáng)化玻璃基板tgs可包括張應(yīng)力層csp、第一壓應(yīng)力層tsp1和第二壓應(yīng)力層tsp2。
觸摸感測單元tsu可識別用戶的直接觸摸或用戶的間接觸摸,和/或物體的直接觸摸或物體的間接觸摸。術(shù)語“間接觸摸”可指的是即使用戶或物體不直接觸摸觸摸感測單元tsu,觸摸感測單元tsu也識別用戶或?qū)ο蟮挠|摸的能力。
當(dāng)出現(xiàn)直接觸摸或間接觸摸時,在第一檢測電極tx與第二檢測電極rx之間的電容中出現(xiàn)變化。根據(jù)電容中的變化,施加于第一檢測電極tx的感測信號可延遲并傳輸?shù)降诙z測電極rx。觸摸感測單元tsu可通過感測信號的延遲值感測觸摸坐標(biāo)。
參照圖10b和圖12a,第一檢測電極tx和第二檢測電極rx可布置在彼此不同的層上。例如,第一檢測電極tx可布置在強(qiáng)化玻璃基板tgs上,以及絕緣層il2可布置在第一檢測電極tx上。第二檢測電極rx可布置在第一檢測電極tx上。
參照圖10b和圖12b,第一檢測電極tx和第二檢測電極rx可布置在相同的層上。第一檢測電極tx和第二檢測電極rx中的每個可布置在強(qiáng)化玻璃基板tgs上。
如圖10b、圖12a和圖12b所示,描述了作為示例的包括強(qiáng)化玻璃基板tgs的觸摸感測單元tsu。在其他實(shí)現(xiàn)方案中,當(dāng)窗口部wd或顯示面板dp包括強(qiáng)化玻璃基板tgs時,觸摸感測單元tsu可以不包括強(qiáng)化玻璃基板tgs。例如,第一檢測電極tx可設(shè)置在圖10a中的顯示面板dp的封裝層(見圖11的參考標(biāo)記sl)上。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第一檢測電極tx和第二檢測電極rx可布置在顯示面板dp的封裝層(見圖11的參考標(biāo)記sl)上。
圖13示出了根據(jù)實(shí)施方式的在顯示設(shè)備中設(shè)置的窗口部的示意性剖視圖。
參照圖10a、圖10b和圖13,窗口部wd可布置在觸摸感測單元tsu上。窗口部wd可布置在顯示設(shè)備10的最上部分處。強(qiáng)化玻璃基板tgs可用作設(shè)置在窗口部wd中的覆蓋玻璃。強(qiáng)化玻璃基板tgs可在上部和下部中接收壓應(yīng)力以及在內(nèi)部中接收張應(yīng)力。例如,強(qiáng)化玻璃基板tgs包括張應(yīng)力層csp、第一壓應(yīng)力層tsp1和第二壓應(yīng)力層tsp2。
圖14a、圖14b、圖14c和圖14d示出了根據(jù)實(shí)施方式的強(qiáng)化玻璃基板的示意性橫剖視圖。
參照圖10a至圖13和圖14a,根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備10可包括如上所述的顯示面板dp和窗口部wd。根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備10可包括顯示面板dp、觸摸感測單元tsu和窗口部wd。
顯示面板dp和窗口部wd中的至少一個可包括強(qiáng)化玻璃基板tgs。顯示面板dp、觸摸感測單元tsu和窗口部wd中的至少一個可包括強(qiáng)化玻璃基板tgs。
參照圖14a,強(qiáng)化玻璃基板tgs可包括中間部分inp、第一末端部分tp1和第二末端部分tp2。中間部分inp、第一末端部分tp1和第二末端部分tp2可彼此連接并且因此可作為一個整體提供。第一末端部分tp1的厚度t1和第二末端部分tp2的厚度t3中的至少一個可小于中間部分inp的厚度t2。
中間部分inp可設(shè)置成鄰近于強(qiáng)化玻璃基板tgs的重心。中間部分inp可具有連接至第一末端部分tp1和第二末端部分tp2的側(cè)面。中間部分inp的側(cè)面可以不暴露至外側(cè)。中間部分inp可包括張應(yīng)力層、第一壓應(yīng)力層和第二壓應(yīng)力層。第一壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的頂面上。第二壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的底面上。
第一末端部分tp1可連接至中間部分inp。第一末端部分tp1可包括暴露于外側(cè)的一個端部。參照圖14a和圖14b,第一末端部分tp1可包括具有彎曲形狀的上表面tuf1。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,如圖14c和圖14d所示,第一末端部分tp1可包括具有平面形狀的上表面。參照圖14a和圖14b,第一末端部分tp1可包括具有彎曲形狀的下表面tlf1。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,參照圖14c和圖14d,第一末端部分tp1可包括具有平面形狀的下表面。
第一末端部分tp1可包括張應(yīng)力層、第一壓應(yīng)力層和第二壓應(yīng)力層。第一壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的上表面上。第二壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的下表面上。
第一末端部分tp1可包括第一凹圖案cup1和clp1。第一凹圖案cup1和clp1可相對于中間部分inp的外表面iuf和ilf凹陷。第一凹圖案cup1和clp1可包括第一上部凹圖案cup1和第一下部凹圖案clp1。第一上部凹圖案cup1可位于第一末端部分tp1的上部中。當(dāng)從上側(cè)觀察時,第一上部凹圖案cup1可以是凹的。第一下部凹圖案clp1可位于第一末端部分tp1的下部中。當(dāng)從下側(cè)觀察時,第一下部凹圖案clp1可以是凹的。雖然作為示例描述了具有第一上部凹圖案cup1和第一下部凹圖案clp1二者的第一凹圖案cup1和clp1,但是在一些實(shí)現(xiàn)方案中,第一凹圖案cup1和clp1可包括第一上部凹圖案cup1和第一下部凹圖案clp1中的一個。
第一凹圖案cup1和clp1可具有各種形狀。例如,第一凹圖案cup1和clp1可在剖視圖上具有構(gòu)成圓的一部分、橢圓的一部分、三角形的一部分或四邊形的一部分的形狀。例如,參照圖14a,第一凹圖案cup1和clp1可在剖視圖中具有構(gòu)成圓的一部分的形狀。參照圖14b,第一凹圖案cup1和clp1可在剖視圖中具有構(gòu)成橢圓的一部分的形狀。參照圖14c,第一凹圖案cup1和clp1中的每個可在剖視圖中具有構(gòu)成三角形的一部分的形狀。參照圖14d,第一凹圖案cup1和clp1中的每個可在剖視圖中具有構(gòu)成四邊形的一部分的形狀。
第二末端部分tp2可連接至中間部分inp。第二末端部分tp2可與第一末端部分tp1間隔開。第二末端部分tp2可包括暴露于外側(cè)的一個端部。參照圖14a和圖14b,第二末端部分tp2可包括具有彎曲形狀的上表面tuf2。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,參照圖14c和圖14d,第二末端部分tp2可包括具有平面形狀的上表面。參照圖14a和圖14b,第二末端部分tp2可包括具有彎曲形狀的下表面tlf2。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,參照圖14c和圖14d,第二末端部分tp2可包括具有平面形狀的下表面。
第二末端部分tp2可包括張應(yīng)力層、第一壓應(yīng)力層和第二壓應(yīng)力層。第一壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的上表面上。第二壓應(yīng)力層可布置在張應(yīng)力層的下表面上。
第二末端部分tp2可包括第二凹圖案cup2和clp2。第二凹圖案cup2和clp2可相對于中間部分inp的外表面iuf和ilf凹陷。第二凹圖案cup2和clp2可包括第二上部凹圖案cup2和第二下部凹圖案clp2。第二上部凹圖案cup2可位于第二末端部分tp2的上部中。當(dāng)從上側(cè)觀察時,第二上部凹圖案cup2可以是凹的。第二下部凹圖案clp2可位于第二末端部分tp2的下部中。當(dāng)從下側(cè)觀察時,第二下部凹圖案clp2可以是凹的。作為示例描述了包括第二上部凹圖案cup2和第二下部凹圖案clp2二者的第二凹圖案cup2和clp2。在一些實(shí)現(xiàn)方案中,例如,第二凹圖案cup2和clp2可僅包括第二上部凹圖案cup2和第二下部凹圖案clp2中的一個。
第二凹圖案cup2和clp2可具有各種形狀。例如,第二凹圖案cup2和clp2可在剖視圖上具有構(gòu)成圓的一部分、橢圓的一部分、三角形的一部分或四邊形的一部分的形狀。例如,參照圖14a,第二凹圖案cup2和clp2可在剖視圖中具有構(gòu)成圓的一部分的形狀。參照圖14b,第二凹圖案cup2和clp2可在剖視圖中具有構(gòu)成橢圓的一部分的形狀。參照圖14c,第二凹圖案cup2和clp2可在剖視圖中具有構(gòu)成三角形的一部分的形狀。參照圖14d,第二凹圖案cup2和clp2中的每個可在剖視圖中具有構(gòu)成四邊形的一部分的形狀。
通過總結(jié)和回顧,圖15示出了包含在常規(guī)顯示設(shè)備中的強(qiáng)化玻璃基板的示意性剖視圖。
參照圖14a和圖15,常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板tgs’具有均勻厚度。更詳細(xì)地,第一壓應(yīng)力層tsp1’、第二壓應(yīng)力層tsp2’和張應(yīng)力層csp’中的每個具有均勻厚度。因此,當(dāng)與根據(jù)實(shí)施方式的強(qiáng)化玻璃基板tgs相比較時,張應(yīng)力層csp’可能具有待被暴露至外側(cè)的較大面積。因此,常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板tgs’可能難以保持側(cè)面的強(qiáng)度。
另一方面,在根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法和根據(jù)實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法中:形成凹槽圖案,然后相對于凹槽圖案切割強(qiáng)化平板玻璃以形成包括第一上部凹圖案cup1、第二上部凹圖案cup2、第一下部凹圖案clp1和第二下部凹圖案clp2的強(qiáng)化玻璃基板tgs。因此,可獲得以下強(qiáng)化玻璃基板tgs,該強(qiáng)化玻璃基板tgs的第一末端部分tp1和第二末端部分tp2中的至少一個的厚度小于鄰近于強(qiáng)化玻璃基板tgs的重心的中間部分inp的厚度t2。而且,當(dāng)與典型的強(qiáng)化玻璃基板tgs’相比較時,根據(jù)實(shí)施方式的強(qiáng)化玻璃基板tgs可在被暴露至外側(cè)的側(cè)面的部分中具有減小的面積。因此,強(qiáng)化玻璃基板tgs的側(cè)面可在強(qiáng)度方面有改善。
此外,在根據(jù)實(shí)施方式的用于制造強(qiáng)化玻璃基板的方法和根據(jù)實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法中,形成凹槽圖案的過程以及相對于凹槽圖案進(jìn)行切割的過程可添加到用于制造典型的強(qiáng)化玻璃基板的方法中,從而在不執(zhí)行單獨(dú)的側(cè)面強(qiáng)化過程的情況下通過簡化的過程來獲得具有改善的側(cè)面強(qiáng)度的強(qiáng)化玻璃基板tgs。
在通過使用用于制造常規(guī)顯示設(shè)備的方法制造的顯示設(shè)備中提供的常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板具有均勻厚度。因此,當(dāng)與通過使用根據(jù)實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法制造的強(qiáng)化玻璃基板比較時,常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板可具有比強(qiáng)化玻璃基板的側(cè)面的面積相對更大的側(cè)面面積。因此,對于常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板,當(dāng)與上表面和下表面的強(qiáng)度相比時,強(qiáng)化玻璃基板的側(cè)面可具有相對弱的強(qiáng)度并且其可能難以保持側(cè)面的強(qiáng)度。
然而,在根據(jù)實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法中,形成凹槽圖案,然后相對于凹槽圖案切割強(qiáng)化平板玻璃以形成強(qiáng)化玻璃基板。因此,可獲得這樣的強(qiáng)化玻璃基板,其至少一端的厚度小于鄰近于重心的區(qū)域的厚度。當(dāng)與通過使用用于制造典型顯示設(shè)備的方法制造的常規(guī)強(qiáng)化玻璃基板相比較時,在通過使用根據(jù)實(shí)施方式用于制造顯示設(shè)備的方法制造的顯示設(shè)備中提供的強(qiáng)化玻璃基板可減少張應(yīng)力層通過側(cè)面被暴露的面積。因此,強(qiáng)化玻璃基板可具有改善的側(cè)面強(qiáng)度。
此外,在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于制造顯示設(shè)備的方法中,形成凹槽圖案的過程以及相對于凹槽圖案進(jìn)行切割的過程可添加到用于制造典型強(qiáng)化玻璃基板的方法中,從而在不執(zhí)行單獨(dú)的側(cè)面強(qiáng)化過程的情況下通過簡化的過程來獲得具有改善的側(cè)面強(qiáng)度的強(qiáng)化玻璃基板tgs。
在根據(jù)實(shí)施方式的制造強(qiáng)化玻璃基板的方法中,可制造具有增大的側(cè)面強(qiáng)度的強(qiáng)化玻璃基板。
在根據(jù)實(shí)施方式的制造顯示設(shè)備的方法中,可制造包括具有增大的側(cè)面強(qiáng)度的強(qiáng)化玻璃基板的顯示設(shè)備。
在根據(jù)實(shí)施方式的顯示設(shè)備中,可提供具有增大的側(cè)面強(qiáng)度的強(qiáng)化玻璃基板以改善顯示設(shè)備的耐用性。
本文中已公開了示例性實(shí)施方式,并且雖然使用了特定的術(shù)語,但是這些特定術(shù)語僅以一般的和說明性的含義來使用并解釋,而不用于限制的目的。在一些情況下,如將對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員明顯的是,自提交本申請起,除非另外地特別指示,否則結(jié)合具體實(shí)施方式描述的特征、特性和/或元件可以單獨(dú)地使用或者與結(jié)合其他實(shí)施方式描述的特征、特性和/或元件組合的方式使用。因此,本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解,在不脫離如所附權(quán)利要求中所闡述的本發(fā)明的精神和范圍的情況下,可以對形式和細(xì)節(jié)進(jìn)行各種改變。