專利名稱：浸蝕裝置、浸蝕方法及用該方法制得的線路板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種浸蝕金屬薄膜的裝置、用該裝置制得的線路板和制造該線路板的方法。更具體地說，本發(fā)明涉及在將金屬薄膜的斷面加工成一定角度的錐形的濕式浸蝕法中用于控制浸蝕液濃度的裝置、用該裝置制得的線路板和該線路板的制造方法。
用已有的濕式浸蝕法對鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜進行錐形加工的技術(shù)例如在日本公開特許公報1994年第122982號中有揭示。
下面描述用已有的使用浸蝕液的濕式浸蝕法對鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜進行錐形加工的技術(shù)。圖6是顯示已有的錐形加工技術(shù)的機理的各步驟的剖視圖。在圖6(A)中，用玻璃基板1作為基板，將鋁金屬薄膜2堆積在玻璃基板1的整個表面上，膜厚約300nm。堆積法為噴鍍法或電子束蒸發(fā)沉積法。用通常的光蝕法，在鋁金屬薄膜2上形成所需的抗蝕劑圖案3。此時，光致抗蝕劑的后焙燒溫度對浸蝕形狀具有很大的影響，例如在約135℃進行后焙燒。
因此，在圖6(B)中，將16體積份的85重量％磷酸、4體積份的61重量％硝酸、4體積份的乙酸和1體積份的水混合，制得浸蝕液。用該浸蝕液在40℃形成金屬膜圖案。使用分批浸蝕式或噴涂式浸蝕裝置。在浸蝕的初期，作為濕式浸蝕的特征，在縱向和橫向上均勻地浸蝕膜厚約300nm的鋁金屬薄膜。隨著浸蝕的進行，浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)硝酸滲入抗蝕劑與鋁金屬薄膜的界面，該硝酸使抗蝕劑膨潤，由此，如箭頭8和9所示，橫向上的浸蝕超過縱向上的浸蝕。該浸蝕時間例如為90秒鐘，加上30％的過浸蝕時間，約為2分鐘。
進一步地，如圖6(C)所示，金屬薄膜被浸蝕。最終，將光致抗蝕劑除去，如圖6(D)所示，形成尖角約為60°的鋁金屬薄膜的圖案4。
在這樣的鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜的錐形加工技術(shù)中，隨著浸蝕的進行，浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)產(chǎn)生濃度變化的差異。例如，浸蝕物質(zhì)硝酸的濃度在浸蝕過程中發(fā)生變化。由于該浸蝕物質(zhì)的濃度變化，被浸蝕的浸蝕薄膜的尖角發(fā)生變化。在隨著近年來的玻璃基板的大型化而成為濕式浸蝕的主流的噴涂式浸蝕裝置中該濃度變化大于分批浸蝕式浸蝕裝置中的濃度變化。在該噴涂式浸蝕裝置中，由于與浸蝕液的尖角相關(guān)的硝酸濃度變化，與供給浸蝕液的初期相比，尖角顯著變化。此外，浸蝕液中所含的乙酸的濃度也變化，由于該乙酸濃度的變化，與供給浸蝕液的初期相比，浸蝕速度極度變化。
本發(fā)明的加工金屬薄膜的浸蝕器包括(a)含浸蝕物質(zhì)的浸蝕液、
(b)將浸蝕液與金屬薄膜接觸的浸蝕裝置、和(c)控制浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度的控制裝置。
控制裝置包括(1)測定浸蝕物質(zhì)濃度的濃度測定裝置、(2)根據(jù)濃度測定裝置所測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量的計算裝置、和(3)將計算裝置算出的追加量供給到浸蝕液中的添加裝置。
較好的是，濃度測定裝置以一定的時間間隔自動地測定浸蝕物質(zhì)的濃度，計算裝置自動地計算出追加量，添加裝置自動地將追加量供給到浸蝕液中。
本發(fā)明的將金屬薄膜加工成具有所需角度的錐形斷面的金屬布線的浸蝕方法包括(a)在金屬薄膜表面上設(shè)置具有所需圖案形狀的抗蝕劑的步驟、(b)使浸蝕液與具有所需圖案形狀的金屬薄膜接觸的步驟、(c)將浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟、和(d)用浸蝕液浸蝕金屬薄膜中除被抗蝕劑覆蓋的部分以外的區(qū)域的步驟。
將浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟包括(1)測定浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度的步驟、(2)根據(jù)測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量的步驟、和(3)將追加量供給到浸蝕液中的步驟。
較好的是，在步驟(1)中以一定的時間間隔自動地測出浸蝕物質(zhì)，在步驟(2)中自動地計算追加量和在步驟(3)中自動地將追加量供給到浸蝕液中。
本發(fā)明的線路板系用上述浸蝕器或浸蝕方法制得。
在該構(gòu)成中，浸蝕液的組成可始終保持穩(wěn)定。即，可控制浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)的濃度。通過控制浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)的濃度，可將金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀，并可控制浸蝕速度，將浸蝕速度穩(wěn)定化。用該構(gòu)成制得的線路板具有形狀穩(wěn)定的布線性能。尤其是，用該構(gòu)成制得的液晶裝置的柵極布線(gate wiring)和源極布線(source wiring)可提供極穩(wěn)定的顯示性能。


圖1是本發(fā)明實施例中浸蝕液濃度的控制裝置的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
圖2是本發(fā)明實施例中浸蝕方法的工藝圖。
圖3(A)是本發(fā)明實施例的浸蝕液和現(xiàn)有技術(shù)的浸蝕液在交換前后的硝酸濃度變化，圖3(B)是乙酸濃度變化的曲線圖，圖3(C)是磷酸濃度變化的曲線圖，圖3(D)是浸蝕完畢時間變化的曲線圖。
圖4是磷酸、硝酸、乙酸和水混合而成的浸蝕液中所含的硝酸濃度與浸蝕的鋁金屬薄膜的尖角的相關(guān)圖。
圖5(A)、圖5(B)和圖5(C)是觀察鋁金屬薄膜的錐形的電子顯微鏡照片，圖5(A)是觀察硝酸濃度為5重量％時鋁金屬薄膜的錐形的圖，圖5(B)是觀察硝酸濃度為9重量％時的圖，圖5(C)是觀察硝酸濃度為11重量％時的圖。
圖6是顯示現(xiàn)有技術(shù)中錐形加工技術(shù)機理的各步驟的剖視圖，(A)是在玻璃基板上形成Al金屬薄膜，再在其上面形成光致抗蝕劑的圖，(B)是浸蝕過程中的圖，(C)是浸蝕完畢時的圖，(D)是顯示除去抗蝕劑之后的金屬薄膜斷面形狀的圖。
符號說明1 玻璃基板2 金屬薄膜3 光致抗蝕劑11 浸蝕器12 濃度測定裝置13 計算裝置14 添加液體裝置15 浸蝕裝置16 槽21 基板22 金屬薄膜23 抗蝕劑本發(fā)明的加工金屬薄膜的浸蝕器包括(a)含浸蝕物質(zhì)的浸蝕液、(b)將浸蝕液與金屬薄膜接觸的浸蝕裝置、和(c)控制浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度的控制裝置。
控制裝置包括(1)測定浸蝕物質(zhì)濃度的濃度測定裝置、(2)根據(jù)濃度測定裝置所測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量的計算裝置、和(3)將計算裝置算出的追加量供給到浸蝕液中的添加裝置。
較好的是，濃度測定裝置以一定的時間間隔自動地測定浸蝕物質(zhì)的濃度，計算裝置自動地計算出追加量，添加裝置自動地將追加量供給到浸蝕液中。
較好的是，控制裝置將測得的濃度轉(zhuǎn)換成電信號，傳輸至儲存設(shè)定濃度的計算機中，再將測得的濃度與設(shè)定濃度之間的差轉(zhuǎn)換成電信號并計算出追加量。
較好的是，在金屬薄膜上施加第一圖案形狀的抗蝕劑，用浸蝕液浸蝕除被抗蝕劑覆蓋部分以外的區(qū)域，將被抗蝕劑覆蓋部分的金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀。
較好的是，金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種。
較好的是，浸蝕物質(zhì)含至少一種選自硝酸、乙酸和磷酸的物質(zhì)。
較好的是，浸蝕物質(zhì)含硝酸和乙酸，濃度測定裝置測定硝酸和乙酸中的至少一種浸蝕物質(zhì)的濃度，計算裝置計算出至少一種浸蝕物質(zhì)的追加量，添加裝置將追加量供給到浸蝕液中。
較好的是，用上述浸蝕器或浸蝕方法制得的線路板具有液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線。
下面描述本發(fā)明的典型的實施例。
圖1是本發(fā)明實施例中浸蝕器的結(jié)構(gòu)圖。在圖1中，浸蝕器11具有浸蝕金屬薄膜的浸蝕裝置11、作為自動測定浸蝕液濃度的裝置的離子色譜儀12、計算浸蝕液追加量的計算裝置13、追加浸蝕物質(zhì)的添加裝置14和含浸蝕液的槽16。
浸蝕裝置15浸蝕玻璃基板上鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜。離子色譜儀12測定浸蝕液濃度。計算裝置13將離子色譜儀12的測定結(jié)果轉(zhuǎn)換成電信號，傳輸至計算機中并將測得的濃度與設(shè)定濃度范圍的差轉(zhuǎn)換成電信號，計算出必需的浸蝕物質(zhì)的追加量。添加裝置14根據(jù)從計算裝置13發(fā)出的電信號，將必需的浸蝕物質(zhì)自動地添加到槽16中。
在上述結(jié)構(gòu)的實施例的浸蝕器中，其操作步驟如下所述。
噴涂式浸蝕器11是對鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜進行精加工的濕式浸蝕器。浸蝕液是磷酸、硝酸、乙酸和水的混合液體，為16體積份的85重量％磷酸、4體積份的61重量％硝酸、4體積份的99.8重量％乙酸和1體積份的水的混合溶液。用該浸蝕液，通過錐形浸蝕加工技術(shù)于40℃在鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜上形成圖案。
浸蝕方法如圖2所示。在圖2中，將金屬薄膜22置于玻璃基板21上，在金屬薄膜22上以一定的形狀設(shè)置光致抗蝕劑23。使用特定的侵蝕器11開始浸蝕。隨著浸蝕的進行，作為濃度測定裝置的離子色譜儀12直插式地從槽16采取浸蝕液，并以可任意設(shè)定的測定間隔測出磷酸、硝酸和乙酸的濃度。在本實施例中，測定間隔設(shè)為每隔8小時。
計算裝置13將離子色譜儀測得的結(jié)果轉(zhuǎn)換成電信號，傳輸至計算機，將測得的濃度與設(shè)定的濃度范圍的差轉(zhuǎn)換成電信號并計算出必需的浸蝕物質(zhì)的追加量。添加裝置14根據(jù)計算裝置13的計算結(jié)果將必需量的70重量％硝酸和99.8重量％乙酸供給和補充進槽16中。
用此方法，在控制浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)的濃度的同時，繼續(xù)金屬薄膜的浸蝕操作。
其間，在浸蝕鋁或鋁合金的金屬薄膜時，浸蝕液最好是含水和浸蝕物質(zhì)(如約30-80重量％的磷酸、約5-30重量％的硝酸和約0-30重量％的乙酸)的混合液體。若浸蝕物質(zhì)的濃度在規(guī)定的范圍之外，則浸蝕能力略差。較好的是，應(yīng)含約8-30重量％的硝酸。若硝酸濃度大于約30重量％，則浸蝕的金屬薄膜的尖角較小，而若硝酸濃度小于約5重量％，則浸蝕性能較差。若乙酸濃度大于約30重量％，則浸蝕速度較慢。
圖4顯示的是浸蝕液中所含硝酸的濃度與浸蝕的鋁金屬薄膜的尖角之間的關(guān)系。浸蝕液是水與浸蝕物質(zhì)(如磷酸、硝酸和乙酸)的混合液體。在圖4中，浸蝕的金屬薄膜的尖角取決于硝酸濃度。這是因為抗蝕劑的粘附取決于硝酸濃度。因此，通過控制硝酸濃度，可將金屬薄膜斷面的錐形控制在約20°-80°的范圍內(nèi)。
圖5(A)、圖5(B)和圖5(C)是以各種硝酸濃度的浸蝕液浸蝕鋁金屬薄膜時用電子顯微鏡所觀察到的剖視圖。圖5(A)是硝酸濃度為5重量％時的剖視圖，圖5(B)是硝酸濃度為9重量％時的剖視圖，圖5(C)是硝酸濃度為11重量％時的剖視圖。當硝酸濃度上升時，置于基板21之上的鋁金屬薄膜的尖角變小。即，通過控制浸蝕液中所含硝酸濃度，可控制鋁金屬薄膜的錐形。
圖3(A)至圖3(D)是顯示實施例中的浸蝕液和現(xiàn)有技術(shù)的浸蝕液在交換前后的變化的曲線圖，即，圖3(A)顯示的是硝酸濃度的變化，圖3(B)是乙酸濃度的變化，圖3(C)是磷酸濃度的變化，圖3(D)是適當浸蝕(justetching)時間的變化。
在圖3(A)中，本實施例的浸蝕槽內(nèi)硝酸濃度并不隨著浸蝕時間的推移而變化，始終保持在一定的濃度。而在現(xiàn)有技術(shù)中，硝酸濃度隨著浸蝕時間的推移而顯著下降。
在圖3(B)中，本實施例的浸蝕槽內(nèi)乙酸濃度并不隨著浸蝕時間的推移而變化，始終保持在一定的濃度。而在現(xiàn)有技術(shù)中，乙酸濃度隨著浸蝕時間的推移而顯著下降。
在圖3(C)中，本實施例的浸蝕槽內(nèi)磷酸濃度并不隨著浸蝕時間的推移而變化，始終保持在一定的濃度。而在現(xiàn)有技術(shù)中，磷酸濃度隨著浸蝕時間的推移而顯著下降。
在圖3(D)中，本實施例的適當浸蝕時間的變化比現(xiàn)有技術(shù)中的適當浸蝕時間的變化小。
即，從圖3(A)至圖3(D)可知，根據(jù)本實施例的方法，浸蝕槽中組分的濃度變化較小，始終維持在一定的濃度。浸蝕的金屬薄膜的斷面形狀取決于槽中浸蝕液的濃度。因此，在本實施例中，由于槽中浸蝕液的濃度保持在一定的濃度，浸蝕的金屬薄膜的斷面形狀始終維持著一定的形狀，并不隨著時間的推移而變化。而且，在本實施例中，可控制浸蝕液中所含各組分的濃度。通過控制各組分的濃度，可將金屬薄膜浸蝕成具有所需尖角的斷面形狀。此外，如圖3(D)中的試驗結(jié)果所表明的，可對浸蝕速度進行控制并使之穩(wěn)定化。
因此，根據(jù)本實施例，對鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜進行精加工的濕式浸蝕器具有離子色譜儀12、計算裝置13和添加裝置14，其中，離子色譜儀12自動測定浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度，計算裝置13將測定結(jié)果轉(zhuǎn)換成電信號并傳輸至計算機，與濃度測定范圍進行比較后將所得的差轉(zhuǎn)換成電信號并從所需離子濃度計算出浸蝕液的追加量，添加裝置14將必需的浸蝕物質(zhì)供給到槽16中。
在該構(gòu)成中，根據(jù)槽16內(nèi)浸蝕液中浸蝕物質(zhì)在浸蝕過程中的濃度變化，添加必需量的浸蝕物質(zhì)(如硝酸和乙酸)，并可在浸蝕過程中控制浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)的濃度。通過浸蝕物質(zhì)的濃度控制，可對浸蝕形狀和浸蝕速度進行控制并使之穩(wěn)定化。尤其是，通過控制浸蝕液中所含硝酸濃度，可將金屬薄膜的錐形控制在所需的角度。而且，通過控制浸蝕液中所含乙酸的濃度，可將金屬薄膜的浸蝕速度控制在所需的速度。還有，若浸蝕物質(zhì)的濃度超過所需的濃度范圍，則可以任意的添加間隔將可任意設(shè)定的添加量的硝酸和乙酸供給到槽中。
在本實施例中，使用離子色譜儀作為濃度測定裝置12，但并不限于離子色譜儀，也可使用根據(jù)吸光測定法的濃度測定裝置。添加裝置14是添加硝酸和乙酸的機械裝置，但并不限于此，它可獨立地添加浸蝕物質(zhì)(如磷酸、硝酸和乙酸)，或者，它也可添加浸蝕物質(zhì)(如硝酸和乙酸)的混合溶液。在這些情況下，可得到與上述相同的效果。
如此處所描述的，根據(jù)本發(fā)明，可使浸蝕液組成穩(wěn)定化并可控制浸蝕液的濃度，從而可控制金屬薄膜的錐形和浸蝕速度，并可使金屬薄膜的錐形和浸蝕速度穩(wěn)定化，其在工業(yè)上的實用效果突出。
具有用本發(fā)明的浸蝕器或浸蝕方法制得的布線的線路板可用作液晶顯示裝置中所用的柵極布線和源極布線。在此情況下，可得到特別優(yōu)異的效果并可得到具有性能穩(wěn)定的液晶顯示。
權(quán)利要求
1．加工金屬薄膜的浸蝕器，它包括(a)含浸蝕物質(zhì)的浸蝕液、(b)將浸蝕液與金屬薄膜接觸的浸蝕裝置、和(c)控制浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度的控制裝置；所述控制裝置包括(1)測定浸蝕物質(zhì)濃度的濃度測定裝置、(2)根據(jù)濃度測定裝置所測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量的計算裝置、和(3)將計算裝置算出的追加量供給到浸蝕液中的添加裝置。
2．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述濃度測定裝置以一定的時間間隔自動地測定浸蝕物質(zhì)的濃度，所述計算裝置自動地計算出追加量，所述添加裝置自動地將追加量供給到浸蝕液中。
3．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述控制裝置將測得的濃度轉(zhuǎn)換成電信號，傳輸至儲存設(shè)定濃度的計算機中，再將測得的濃度與設(shè)定濃度之間的差轉(zhuǎn)換成電信號并計算出追加量。
4．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，在所述金屬薄膜上施加所需圖案形狀的抗蝕劑，用浸蝕液浸蝕除被抗蝕劑覆蓋部分以外的區(qū)域，將被抗蝕劑覆蓋部分的金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀。
5．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種。
6．權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述浸蝕物質(zhì)至少包括硝酸和磷酸。
7．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述浸蝕物質(zhì)包括硝酸和乙酸，所述濃度測定裝置測定硝酸和乙酸中的至少一種浸蝕物質(zhì)的濃度，所述計算裝置計算出至少一種浸蝕物質(zhì)的追加量，所述添加裝置將追加量供給到浸蝕液中。
8．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種，所述浸蝕物質(zhì)包括硝酸和乙酸，所述濃度測定裝置測定硝酸和乙酸的各自濃度，所述計算裝置計算出硝酸和乙酸的各自追加量，所述添加裝置將硝酸和乙酸的各自追加量供給到浸蝕液中。
9．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種，所述浸蝕物質(zhì)含磷酸、硝酸和乙酸，所述浸蝕液包括30-80重量％的磷酸、5-30重量％的硝酸、0-30重量％的乙酸和水。
10．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述濃度測定裝置是離子色譜儀。
11．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，通過所述控制裝置的作用，浸蝕物質(zhì)的濃度維持在所需的濃度，由于所需濃度得到維持，金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀。
12．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述浸蝕液裝在槽中。
13．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述浸蝕裝置將浸蝕液以噴霧狀態(tài)與金屬薄膜接觸。
14．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述浸蝕液裝在槽中，所述追加量的浸蝕物質(zhì)供給到槽中。
15．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，所述濃度測定裝置采取部分浸蝕液作為試樣并測定該浸蝕液試樣的濃度。
16．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，它設(shè)計成用于制造線路板。
17．如權(quán)利要求1所述的浸蝕器，其特征在于，它設(shè)計成用于制造液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線。
18．將金屬薄膜加工成具有所需角度的錐形斷面的金屬布線的浸蝕方法，它包括以下步驟(a)在金屬薄膜表面上設(shè)置具有所需圖案形狀的抗蝕劑；(b)使浸蝕液與具有所需圖案形狀的金屬薄膜接觸；(c)將浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度，該將浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟包括(1)測定浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度、(2)根據(jù)測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量、和(3)將追加量供給到浸蝕液中；(d)用浸蝕液浸蝕金屬薄膜中除被抗蝕劑覆蓋的部分以外的區(qū)域。
19．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，在步驟(1)中以一定的時間間隔自動地測出浸蝕物質(zhì)，在步驟(2)中自動地計算追加量和在步驟(3)中自動地將追加量供給到浸蝕液中。
20．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，在所述將浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟中，將測得的濃度轉(zhuǎn)換成電信號并將其傳輸至儲存設(shè)定濃度的計算機中，再將測得的濃度與設(shè)定濃度之間的差轉(zhuǎn)換成電信號并計算出追加量。
21．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種。
22．權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，所述浸蝕物質(zhì)至少包括硝酸和磷酸。
23．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，通過將含維持在所需濃度的浸蝕物質(zhì)的浸蝕液與被抗蝕劑覆蓋的金屬薄膜接觸的步驟，將金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀，并形成具有所需圖案形狀的布線。
24．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，所述浸蝕液以噴霧狀態(tài)與金屬薄膜接觸。
25．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，所述浸蝕液裝在槽中，將所述追加量的浸蝕物質(zhì)供給到槽中。
26．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，采取部分浸蝕液作為試樣，并測定該浸蝕液試樣的濃度。
27．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種，所述浸蝕物質(zhì)包括磷酸、硝酸和乙酸，所述浸蝕液包括30-80重量％的磷酸、5-30重量％的硝酸、0-30重量％的乙酸和水。
28．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，它設(shè)計成用于制造線路板。
29．如權(quán)利要求18所述的浸蝕方法，其特征在于，它設(shè)計成用于制造在液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線。
30．線路板，其特征在于，它是用權(quán)利要求1中所述的浸蝕器制得的。
31．線路板，其特征在于，它是用權(quán)利要求1所述的浸蝕器制得的，具有液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線。
32．線路板，其特征在于，它是用權(quán)利要求18所述的浸蝕方法制得的。
33．線路板，其特征在于，它是用權(quán)利要求18所述的浸蝕方法制得的，具有液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線。
34．線路板，它包括(a)基板、和(b)位于基板上的金屬布線，該布線具有所需圖案，該所需圖案具有所需角度的錐形斷面，其中，所述金屬布線用具有以下步驟的浸蝕方法加工成所需角度的錐形斷面(1)在金屬薄膜表面上設(shè)置具有所需圖案形狀的抗蝕劑；(2)使浸蝕液與具有所需圖案形狀的金屬薄膜接觸；(3)將浸蝕液中所含的浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度，該將浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟包括1)測定浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度、2)根據(jù)測得的濃度計算浸蝕物質(zhì)追加量、和3)將追加量供給到浸蝕液中；(4)用浸蝕液浸蝕金屬薄膜中除被抗蝕劑覆蓋的部分以外的區(qū)域。
35．如權(quán)利要求34所述的線路板，其特征在于，在步驟(1)中以一定的時間間隔自動地測出浸蝕物質(zhì)的濃度，在步驟(2)中自動地計算追加量和在步驟(3)中自動地將追加量供給到浸蝕液中。
36．如權(quán)利要求34所述的線路板，其特征在于，在所述將浸蝕物質(zhì)維持在所需濃度的步驟中，將測得的濃度轉(zhuǎn)換成電信號并將其傳輸至儲存設(shè)定濃度的計算機中，再將測得的濃度與設(shè)定濃度之間的差轉(zhuǎn)換成電信號并計算出追加量。
37．如權(quán)利要求34所述的線路板，其特征在于，所述金屬薄膜是(ⅰ)鋁和(ⅱ)主要由鋁組成的合金中的至少一種。
38．如權(quán)利要求34所述的線路板，其特征在于，所述金屬布線包括液晶顯示裝置的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線中的至少一種。
39．如權(quán)利要求34所述的線路板，其特征在于，所述浸蝕物質(zhì)至少包括硝酸和磷酸。
40．如權(quán)利要求34所述的線路板，特征在于，通過將含維持在所需濃度的浸蝕物質(zhì)的浸蝕液與被抗蝕劑覆蓋的金屬薄膜接觸的步驟，將金屬薄膜加工成所需角度的錐形斷面形狀，并形成具有所需圖案形狀的布線。
全文摘要
一種對鋁或主要由鋁組成的金屬薄膜進行精加工的濕式浸蝕器11,它具有自動測定浸蝕液中所含浸蝕物質(zhì)濃度的離子色譜儀12、根據(jù)測定結(jié)果計算追加量的計算裝置13和根據(jù)計算結(jié)果將所需量的浸蝕物質(zhì)供給到槽16中的添加裝置14。因此,可將浸蝕液15中浸蝕物質(zhì)的濃度控制在所需范圍內(nèi),從而可控制金屬薄膜的浸蝕形狀和浸蝕速度并使之穩(wěn)定化。用該裝置或方法制得的線路板可用作液晶顯示的陣列基板中所用的柵極布線和源極布線并可得到性能穩(wěn)定的液晶顯示。
文檔編號C23F1/02GK1217391SQ98119690
公開日1999年5月26日 申請日期1998年9月21日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月22日
發(fā)明者巖崎勝男 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社