1.一種晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：包括，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述第一工作位和第二工作位沿著所述箱體的長度方向間隔設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述移動機(jī)構(gòu)包括靠近箱體設(shè)置的軌道，可沿軌道平移的升降單元，及連接于升降單元的承托部，所述片盒置于承托部，所述軌道自第一工作位延伸至第二工作位。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述承托部具有轉(zhuǎn)動限位件，該轉(zhuǎn)動限位件具有可與片盒相鄰側(cè)壁相抵的第一限位部和第二限位部，所述第一限位部或/和第二限位部具有調(diào)節(jié)槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述腔體槽頂部開放，所述片盒傾斜放置，以使得腔體槽內(nèi)的晶圓傾斜設(shè)置，其與豎直方向的傾斜夾角為2-20°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述箱體包括內(nèi)箱體和外箱體，所述片盒置于內(nèi)箱體，內(nèi)箱體的流體介質(zhì)溢流至外箱體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：還包括用于監(jiān)測晶圓位置和狀態(tài)的傳感器，其發(fā)射的信號與腔體槽內(nèi)的晶圓所在平面平行或趨于平行。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述傳感器位于箱體的流體介質(zhì)以下位置，或者，所述傳感器位于流體介質(zhì)以上位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述傳感器和腔體槽均位于流體介質(zhì)中；或者，所述傳感器和腔體槽均位于流體介質(zhì)以外區(qū)域；或者，所述傳感器位于流體介質(zhì)以外區(qū)域，所述腔體槽位于流體介質(zhì)中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述箱體設(shè)有液位傳感器。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述流體介質(zhì)為透明液體，該透明液體為純水，或者為氫氧化鈉溶液。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于：所述轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)至少包括基座，連接于基座的第一轉(zhuǎn)動體，第二轉(zhuǎn)動體，及用于獲取晶圓的夾爪。
14.一種拋光系統(tǒng)，其特征在于，包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的拋光系統(tǒng)，其特征在于：
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的拋光系統(tǒng)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)位于兩個箱體之間。
17.一種拋光工藝，依托于如權(quán)利要求15所述的拋光系統(tǒng)，其特征在于：包括以下步驟，
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的拋光工藝，其特征在于：所述步驟s2之后還包括步驟s21，檢測晶圓位于第一片盒內(nèi)腔體槽的位置，并將該位置信號傳輸至轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的拋光工藝，其特征在于：所述步驟s1之后還包括步驟s11，液位傳感器檢測箱體內(nèi)液位變化，以判斷片盒內(nèi)晶圓是否完全浸沒在流體介質(zhì)內(nèi)，和/或判斷片盒內(nèi)晶圓數(shù)量是否正確。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的拋光工藝，其特征在于：所述步驟s1中將第一片盒置入第一箱體內(nèi)的運(yùn)動軌跡投影落在第一片盒中第一工作位和第二工作位的連線上。
21.一種拋光工藝，依托于如權(quán)利要求15所述的拋光系統(tǒng)，其特征在于：包括以下步驟，