本發(fā)明屬于研磨拋光技術領域,具體涉及一種新型固結納米鉆石烯研磨盤及其制備工藝。
背景技術:
進入21世紀以來,以ic產業(yè)為代表的信息產業(yè)進入了飛速發(fā)展階段,ic芯片的特征線寬也從微米級邁入了納米級,目前ic芯片的特征線寬僅為22nm,晶圓尺寸也進入了300mm和400mm時代,并向更大尺寸發(fā)展,以滿足提高ic芯片產量的需要,同時隨著電子通訊產品的日益輕便化、復合化和智能化,要求ic芯片厚度微小化,而芯片表表面狀態(tài)將直接影響器件的線寬容量。目前ic芯片表面平整化采用的是化學機械研磨拋光技術,而傳統(tǒng)的化學機械研磨拋光是以碳化硅、氧化硅等為磨料,采用游離磨料的研磨技術對工件表面進行微加工,從而獲得高質量的加工表面,但是這種游離磨料的研磨技術加工后的工件易出現亞表面損傷層,較難獲得超光滑表面,影響產品的使用性能,且這種游離磨料的研磨拋光方法在研磨拋光加工后的磨料無法回收,容易造成磨料的浪費,同時會對環(huán)境產生污染。
游離磨料研磨拋光加工原理如附圖1所示,在加工過程中,磨料1以游離方式參與研磨加工,磨料1隨機分布在研磨墊3上,與被加工件2整個表面接觸,造成了被加工件2表面不需要加工的區(qū)域也被研磨,容易導致工件幾何尺寸偏離目標尺寸,再者由于游離磨料研磨中磨料1是游離的,容易導致研磨盤中的微孔被堵塞,導致研磨盤出現釉化現象,同時在研磨過程中需要不停地添加含有磨料的研磨液,造成了磨料的浪費,大量的研磨液攜帶磨料和廢屑排出,污染環(huán)境。綜上所述,游離磨料研磨加工主要存在以下缺點:
1)研磨過程中對被加工工件表面的選擇性加工較差,全局平坦化效果差;
2)加工效率偏低,加工工藝不易控制;
3)磨料利用率低,浪費嚴重,成本高,對環(huán)境污染大;
4)研磨后易造成磨料嵌入被加工工件表面,給工件清洗和后續(xù)加工帶來麻煩。
技術實現要素:
本發(fā)明的目的是提供一種新型固結納米鉆石烯研磨盤,同時提供其制備方法是本發(fā)明的又一發(fā)明目的。
為實現上述目的,本發(fā)明采取的技術方案如下:
一種新型固結納米鉆石烯研磨盤,由基礎原料添加納米鉆石烯制成,所述基礎原料由以下重量百分比的組分制成:改性e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐55~60%、n,n-二甲基芐胺0.5~1%、增塑劑3.5~4%、填料30~35%、造孔劑5~6%,納米鉆石烯的添加量為基礎原料的15~33wt%,e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐的質量比為10:9。
納米鉆石烯的添加量為基礎原料的30~33wt%。
納米鉆石烯的添加量為基礎原料的30wt%。
所述造孔劑為石墨和食鹽的混合物,二者的混合比例為1:1~2。
所述增塑劑為鄰苯二甲酸二丁酯(dbp),填料為改性硅灰石。
所述納米鉆石烯為由50nm、100nm、200nm、250nm四種不同粒度的納米鉆石烯按質量比(1~2):(2~3):(3~4):(4~5)混合后經以下處理得到:
①超聲堿洗:將混合后的納米鉆石烯置于堿洗槽超聲堿洗并攪拌,超聲頻率為30~40khz,堿洗液為濃度10%~15%的naoh溶液,堿洗液溫度為45~55℃,攪拌速度為25~35rpm,堿洗時間為25~35min;該步驟目的是將納米鉆石烯表面附著的油污去除;
②超聲清洗:將堿洗后的納米鉆石烯置于去離子水中超聲清洗并攪拌,超聲頻率為30~35khz,攪拌速度為15~25rpm,攪拌時間為20~25min,反復清洗直至上層清液ph=7;
③酸洗活化:將清洗后的納米鉆石烯置于酸洗液中酸洗活化并攪拌,酸洗液為體積比為1:10的濃鹽酸和濃硫酸混合液,溫度為常溫,旋轉轉速為10~15rpm,攪拌時間為10~15min,該步驟目的是達到將原料表面活化的目的;
④超聲水洗:將酸洗活化后的納米鉆石烯置于去離子水超聲水洗并攪拌,超聲頻率為30~35khz,攪拌速度為15~25rpm,攪拌時間為10~15min,反復水洗直至上層清液ph=7;
⑤烘干:采用階梯式烘烤,具體是先以速率為2℃/min升溫至70℃,保溫30min后,再升溫至90℃,保溫30min,繼續(xù)升溫至120℃,保溫3h,之后自然冷卻到室溫待用。烘干的目的是將處理過的原料中的水分去除。
所述的新型固結納米鉆石烯研磨盤的制備方法,包括以下步驟:
1)前處理
將填料、造孔劑放入烘箱中于100℃下烘烤1h,將原材料中的水分去除,防止磨盤固化加熱時水分汽化造成氣孔;
2)混料
將e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐置于溫控混料裝置中于80℃下混合,再添加促進劑混合,維持體系溫度,依次將填料、納米鉆石烯、造孔劑加入到溫控混料裝置中攪拌制得成型漿料,攪拌頻率為20~40rpm,攪拌時間為10min~1h;
3)真空排泡
利用真空設備于真空度為0.1mpa下抽氣排泡10~30min,目的是排出漿料中的氣泡;
4)模具前處理
將研磨盤采用的模具的內表面涂覆脫模劑后放入烘箱中于80℃預熱2~10min;
5)澆筑
將步驟3)真空排泡后的漿料澆筑在預熱后的模具中,涂抹均勻并刮平;
6)二次排泡
將澆筑后的模板放入真空設備中于真空度為0.1mpa下抽氣排泡10~30min;
7)樹脂固化
將經過二次排泡后的模板放入烘箱中采用階梯型烘烤工藝烘烤,具體工藝是:先以升溫速率為2℃/min由常溫升至40℃保溫30min,再升溫至90℃保溫1h,繼續(xù)升溫到110℃保溫1h,升溫到120~150℃,保溫2~10h,保溫結束后自然冷卻到常溫;
8)脫模
固化完成后將研磨盤從模具上剝離,并在反面貼上雙面膠(后續(xù)使用時粘接目的),完成研磨盤的制備。
步驟4)中的模具由硫化硅橡膠制成。
本申請中,填料、造孔劑和納米鉆石烯均已經烘烤去除水份,這樣的目的是防止磨盤固化加熱時水分汽化造成氣孔。
與現有技術相比,本發(fā)明具有以下有益效果:1、加入納米鉆石烯后,研磨盤的硬度高,耐磨性強,研磨效率高;2、納米鉆石烯具有無毒副作用,對人身體無毒害作用;3、固結納米鉆石烯研磨盤研磨后的玻璃表面粗糙度低,表面質量高;4、固結納米鉆石烯研磨盤研磨加工效率高;5、固結納米鉆石烯研磨盤研磨過程中磨料利用率高,成本低,對環(huán)境污染??;6、固結納米鉆石烯研磨盤研磨后磨料不會嵌入被加工工件表面,后續(xù)的工件清洗和加工方便。
說明書附圖
圖1是游離磨料研磨拋光加工原理圖;
圖2是不同納米鉆石烯含量的研磨盤的硬度變化示意圖;
圖3為不同納米鉆石烯含量的研磨盤的研磨磨削效率變化示意圖;
圖4為不同納米鉆石烯含量的玻璃加工數量示意圖;
圖5為不同納米鉆石烯含量的研磨盤研磨玻璃表面粗糙度的示意圖。
具體實施方式
需要說明的是,本發(fā)明中所述的常溫和室溫均定義為20~30℃。
其中,改性e-54環(huán)氧樹脂為市售,購自無錫化工廠;甲基四氫苯酐(mthpa)為市售,購自無錫化工廠;n,n-二甲基芐胺為市售,購自國藥集團化學試劑有限公司;增塑劑鄰苯二甲酸二丁酯為市售,購自國藥集團化學試劑有限公司;填料改性硅灰石為市售,江西奧特礦物材料有限公司;脫模劑為環(huán)氧樹脂專用脫模劑qv5110,市售。
下面以具體實施例對本發(fā)明做進一步說明。
實施例1
一種新型固結納米鉆石烯研磨盤,由基礎原料添加納米鉆石烯制成,所述基礎原料由以下重量百分比的組分制成:改性e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐(mthpa)55%、n,n-二甲基芐胺0.5%、增塑劑(鄰苯二甲酸二丁酯)3.5%、填料(改性硅灰石)35%、造孔劑6%,納米鉆石烯的添加量為基礎原料的30wt%,e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐的質量比為10:9。
所述造孔劑為石墨和食鹽的混合物,二者的混合比例為1:1。
所述納米鉆石烯為由50nm、100nm、200nm、250nm四種不同粒度的納米鉆石烯按質量比1:2:3:4混合后經以下處理得到:
①超聲堿洗:將混合后的納米鉆石烯置于堿洗槽超聲堿洗并攪拌,超聲頻率為30khz,堿洗液為濃度10%的naoh溶液,堿洗液溫度為45℃,攪拌速度為25rpm,堿洗時間為25~35min;該步驟目的是將納米鉆石烯表面附著的油污去除;
②超聲清洗:將堿洗后的納米鉆石烯置于去離子水中超聲清洗并攪拌,超聲頻率為30khz,攪拌速度為15rpm,攪拌時間為20min,反復清洗直至上層清液ph=7;
③酸洗活化:將清洗后的納米鉆石烯置于酸洗液中酸洗活化并攪拌,酸洗液為體積比為1:10的濃鹽酸和濃硫酸混合液,溫度為常溫,旋轉轉速為10rpm,攪拌時間為10min,該步驟目的是達到將原料表面活化的目的;
④超聲水洗:將酸洗活化后的納米鉆石烯置于去離子水超聲水洗并攪拌,超聲頻率為30khz,攪拌速度為15rpm,攪拌時間為10min,反復水洗直至上層清液ph=7;
⑤烘干:采用階梯式烘烤,具體是先以速率為2℃/min升溫至70℃,保溫30min后,再升溫至90℃,保溫30min,繼續(xù)升溫至120℃,保溫3h,之后自然冷卻到室溫待用。烘干的目的是將處理過的原料中的水分去除。
所述的新型固結納米鉆石烯研磨盤的制備方法,包括以下步驟:
1)前處理
將填料、造孔劑放入烘箱中于100℃下烘烤1h,將原材料中的水分去除,防止磨盤固化加熱時水分汽化造成氣孔;
2)混料
將e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐置于溫控混料裝置中于80℃下混合,再添加促進劑混合,維持體系溫度,依次將填料、納米鉆石烯、造孔劑加入到溫控混料裝置中攪拌制得成型漿料,攪拌頻率為20rpm,攪拌時間為10min;
3)真空排泡
利用真空設備于真空度為0.1mpa下抽氣排泡10min,目的是排出漿料中的氣泡;
4)模具前處理
將研磨盤采用的模具的內表面涂覆脫模劑后放入烘箱中于80℃預熱2min;
5)澆筑
將步驟3)真空排泡后的漿料澆筑在預熱后的模具中,涂抹均勻并刮平;
6)二次排泡
將澆筑后的模板放入真空設備中于真空度為0.1mpa下抽氣排泡10min;
7)樹脂固化
將經過二次排泡后的模板放入烘箱中采用階梯型烘烤工藝烘烤,具體工藝是:先以升溫速率為2℃/min由常溫升至40℃保溫30min,再升溫至90℃保溫1h,繼續(xù)升溫到110℃保溫1h,升溫到120℃,保溫2h,保溫結束后自然冷卻到常溫;
8)脫模
固化完成后將研磨盤從模具上剝離,并在反面貼上雙面膠,完成研磨盤的制備。
步驟4)中的模具由硫化硅橡膠制成。
實施例2
一種新型固結納米鉆石烯研磨盤,由基礎原料添加納米鉆石烯制成,所述基礎原料由以下重量百分比的組分制成:改性e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐(mthpa)60%、n,n-二甲基芐胺1%、增塑劑|(鄰苯二甲酸二丁酯)4%、填料(改性硅灰石)30%、造孔劑5%,納米鉆石烯的添加量為基礎原料的33wt%,e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐的質量比為10:9。
所述造孔劑為石墨和食鹽的混合物,二者的混合比例為1:1~2。
所述納米鉆石烯為由50nm、100nm、200nm、250nm四種不同粒度的納米鉆石烯按質量比2:3:4:5混合后經以下處理得到:
①超聲堿洗:將混合后的納米鉆石烯置于堿洗槽超聲堿洗并攪拌,超聲頻率為40khz,堿洗液為濃度15%的naoh溶液,堿洗液溫度為55℃,攪拌速度為35rpm,堿洗時間為35min;該步驟目的是將納米鉆石烯表面附著的油污去除;
②超聲清洗:將堿洗后的納米鉆石烯置于去離子水中超聲清洗并攪拌,超聲頻率為35khz,攪拌速度為25rpm,攪拌時間為25min,反復清洗直至上層清液ph=7;
③酸洗活化:將清洗后的納米鉆石烯置于酸洗液中酸洗活化并攪拌,酸洗液為體積比為1:10的濃鹽酸和濃硫酸混合液,溫度為常溫,旋轉轉速為15rpm,攪拌時間為15min,該步驟目的是達到將原料表面活化的目的;
④超聲水洗:將酸洗活化后的納米鉆石烯置于去離子水超聲水洗并攪拌,超聲頻率為35khz,攪拌速度為25rpm,攪拌時間為15min,反復水洗直至上層清液ph=7;
⑤烘干:采用階梯式烘烤,具體是先以速率為2℃/min升溫至70℃,保溫30min后,再升溫至90℃,保溫30min,繼續(xù)升溫至120℃,保溫3h,之后自然冷卻到室溫待用。烘干的目的是將處理過的原料中的水分去除。
所述的新型固結納米鉆石烯研磨盤的制備方法,包括以下步驟:
1)前處理
將填料、造孔劑放入烘箱中于100℃下烘烤1h,將原材料中的水分去除,防止磨盤固化加熱時水分汽化造成氣孔;
2)混料
將e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐置于溫控混料裝置中于80℃下混合,再添加促進劑混合,維持體系溫度,依次將填料、納米鉆石烯、造孔劑加入到溫控混料裝置中攪拌制得成型漿料,攪拌頻率為40rpm,攪拌時間為1h;
3)真空排泡
利用真空設備于真空度為0.1mpa下抽氣排泡30min,目的是排出漿料中的氣泡;
4)模具前處理
將研磨盤采用的模具的內表面涂覆脫模劑后放入烘箱中于80℃預熱10min;
5)澆筑
將步驟3)真空排泡后的漿料澆筑在預熱后的模具中,涂抹均勻并刮平;
6)二次排泡
將澆筑后的模板放入真空設備中于真空度為0.1mpa下抽氣排泡30min;
7)樹脂固化
將經過二次排泡后的模板放入烘箱中采用階梯型烘烤工藝烘烤,具體工藝是:先以升溫速率為2℃/min由常溫升至40℃保溫30min,再升溫至90℃保溫1h,繼續(xù)升溫到110℃保溫1h,升溫到150℃,保溫10h,保溫結束后自然冷卻到常溫;
8)脫模
固化完成后將研磨盤從模具上剝離,并在反面貼上雙面膠,完成研磨盤的制備。
步驟4)中的模具由硫化硅橡膠制成。
實施例3
一種新型固結納米鉆石烯研磨盤,由基礎原料添加納米鉆石烯制成,所述基礎原料由以下重量百分比的組分制成:改性e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐57%、n,n-二甲基芐胺1%、增塑劑(鄰苯二甲酸二丁酯)4%、填料(改性硅灰石)33%、造孔劑5%,納米鉆石烯的添加量為基礎原料的20wt%,e-54環(huán)氧樹脂和甲基四氫苯酐的質量比為10:9。
所述造孔劑為石墨和食鹽的混合物,二者的混合比例為1:1~2。
所述納米鉆石烯同實施例1。
所述的新型固結納米鉆石烯研磨盤的制備方法,同實施例1。
性能測試:
分別制備出含有不同含量納米鉆石烯的研磨盤,制備方法同實施例1,并對其進行以下性能測試:
硬度檢測:用洛氏硬度計檢測研磨盤的硬度,其工作參數為加載壓力588n,壓頭類型為鋼球,鋼球直徑為3.175mm,測試方法為正反兩面各測5個點,其中4個邊角分別一個點,中心一個點;
研磨磨削效率檢測:研磨磨削效率用磨除率表示,指的是單位時間內磨除的工件體積或質量,測試方法是在相同的磨削條件下,每分鐘磨削同一種玻璃料的厚度;
耐磨性檢測:將研磨盤固定在研磨機上,研磨手機顯示屏,在相同的研磨條件下,以一片研磨盤開始使用到報廢,研磨玻璃產品的產量來測試研磨盤的耐磨性;
研磨玻璃產品表面質量測試:使用zygo型粗糙度測試儀對研磨后的玻璃產品進行表面檢測,采用六點法測量取平均值,測量玻璃的粗糙度。
圖2為不同納米鉆石烯含量的研磨盤的硬度變化示意圖,從圖2中可以非常明顯地看出,隨著納米鉆石烯含量的提高,研磨盤的硬度是隨著納米鉆石烯的含量的升高而提高的,當納米鉆石烯的含量低于40%時,研磨盤的硬度的提高速率不大,處于較為平穩(wěn)的增加狀態(tài),當納米鉆石烯的含量高于40%后,研磨盤的硬度提高速率很快,硬度過大會對研磨盤的使用產生不良性能,因此納米鉆石烯的含量不能超過40%為宜。
圖3為不同納米鉆石烯含量的研磨盤的研磨磨削效率變化示意圖,a:33%,b:30%,c:45%,d:15%。從圖3可以看出不同,納米鉆石烯含量的研磨盤的研磨磨削效率是不同的,當納米鉆石烯的含量為30%時(a、b),研磨盤的研磨磨削效率高,切削穩(wěn)定高,當納米鉆石烯的含量提高時(c),研磨盤的研磨磨削效率降低,切削穩(wěn)定弱,當納米鉆石烯的含量降低時(d),研磨盤的研磨磨削效率降低,切削穩(wěn)定性差。
圖4為不同納米鉆石烯含量的玻璃加工數量示意圖,a:33%,b:30%,c:45%,d:15%。從圖4中可以看出不同納米鉆石烯含量的研磨盤的玻璃加工數量是不同的,當納米鉆石烯的含量為30%時(a、b),研磨盤的硬度高,研磨磨削效率高,切削穩(wěn)定高,玻璃加工數量高,約為160000片,耐磨性高,當納米鉆石烯的含量提高時(c),研磨盤的研磨磨削效率降低,切削穩(wěn)定弱,硬度提高,研磨盤性能不穩(wěn)定,玻璃加工數量明顯降低,約為120000片,相對于a、b,玻璃產量降低了25%,耐磨性降低,當納米鉆石烯的含量降低時(d),研磨盤的研磨磨削效率降低,切削穩(wěn)定性差,玻璃加工數量明顯降低,約為120000片,相對于a、b,玻璃產量降低了25%,耐磨性降低。
圖5為不同納米鉆石烯含量的研磨盤研磨玻璃表面粗糙度的示意圖,a:33%,b:30%,c:45%,d:15%。從圖5中可以看出,不同納米鉆石烯含量的研磨盤研磨后的玻璃表面粗糙度是不同的,當納米鉆石烯的含量為33%時,表面粗糙度ra約為0.495,當納米鉆石烯的含量為30%時,表面粗糙度ra約為0.533,當納米鉆石烯的含量為45%時,表面粗糙度ra約為0.688,當納米鉆石烯的含量為15%時,表面粗糙度ra約為0.541,因此,可見納米鉆石烯的含量為15%~33%,得到的玻璃表面粗糙度低。
綜上分析,當納米鉆石烯含量為30%~33%時,其各項性能較好。