本發(fā)明涉及一種透明膜的制備方法，特別是一種適用于鐘表零件的透明耐磨膜的制備方法。

背景技術(shù)：

鐘表零件如表座、表帶等一般采用奧氏體不銹鋼材料制造，但奧氏體不銹鋼硬度不高，容易產(chǎn)生擦傷、劃傷等缺陷，一般需要采用化學熱處理來提高其硬度，但化學熱處理后基材的組織發(fā)生了變化，防腐性能會顯著下降；另外，鐘表零件因裝飾的需要，在化學處理后，一些零件還需要施加各種有色鍍(膜)層，如玫瑰金層(主要成份是金)，這些鍍(膜)層不耐磨，亦容易出現(xiàn)擦傷、劃傷、變色、掉色等情況。鐘表零件對質(zhì)量的要求是：(1)防腐性能好，耐標準鹽霧時間不低于72小時；(2)耐磨性好，表面硬度高，要求達到700Hv以上；(3)色澤恒定，不允許出現(xiàn)變色；(4)鍍(膜)層有一定的延展性，并且與基材的結(jié)合力要好，能通過鐘表零件的結(jié)合力檢測；現(xiàn)有技術(shù)無法滿足上述要求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的是提供一種適用于鐘表零件的透明耐磨膜的制備方法，以滿足鐘表零件防銹、耐磨、不變色、不脫層等多種綜合性能要求。

本發(fā)明提出一種適用于鐘表零件的透明耐磨膜的制備方法，采用高真空條件下的五氧化二鈮和二氧化鋯復合鍍透明膜工藝來進行鍍膜：鍍膜標靶材料為五氧化二鈮和二氧化鋯復合材料，其中五氧化二鈮的重量百分比含量為85％-95％；二氧化鋯的重量百分比含量為5％-15％；采用中頻恒壓鍍膜電源，電壓為400V，頻率為5KHz-15KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為200℃-300℃；鍍膜時間為10-30分鐘。

優(yōu)選地，在滲層上直接施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜時，標靶材料中五氧化二鈮的重量百分比含量為85％；二氧化鋯的重量百分比含量為15％；鍍膜電壓為400V，頻率為15KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為300℃；鍍膜時間為30分鐘，可形成厚度達2微米左右的透明膜層。

優(yōu)選地，在玫瑰金鍍層上施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜時，標靶材料中五氧化二鈮的重量百分比含量為95％；二氧化鋯的重量百分比含量為5％；鍍膜電壓為400V，頻率為5KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為200℃；鍍膜時間為10分鐘，可形成厚度達0.5微米左右的透明膜層。

優(yōu)選地，在除玫瑰金外的其它鍍層上施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜時，標靶材料中五氧化二鈮的重量百分比含量為90％；二氧化鋯的重量百分比含量為10％；鍍膜電壓為400V，頻率為10KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為250℃；鍍膜時間為20分鐘，可形成厚度達1微米左右的透明膜層。

本發(fā)明的有益效果是：

(1)形成的五氧化二鈮和二氧化鋯復合膜是透明的，不降低鐘表零件原有的外觀觀感：在高真空及中頻電壓作用下，在300℃以下溫度，30分鐘以下的時間內(nèi)，能夠形成厚度在2微米以下的納米級微晶膜層，這種膜層是透明的。

(2)透明膜層硬度在700Hv以上，非常耐磨：膜層為具有陶瓷相的五氧化二鈮和二氧化鋯納米級微晶結(jié)構(gòu)，具有很高的硬度；

(3)防腐性能好：以奧氏體不銹鋼為基材的鐘表零件通過離子滲氮后，因氮與不銹鋼中的鉻等合金元素形成了相應(yīng)的氮化物，防腐性能會顯著降低，五氧化二鈮和二氧化鋯復合透明膜具有封閉作用，同時透明膜本身具有良好的防腐性能，這樣可以提高基體的防腐性能；

(4)二氧化鋯對膜層的延展性有較為顯著的效果，膜層脆性小，并且與基體或其它鍍(膜)層結(jié)合力好，不會出現(xiàn)膜層脫落現(xiàn)象，可以保證原有底色的恒定。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的適用于鐘表零件的透明耐磨膜的制備方法的制作工藝框圖。

本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

參照圖1，提出本發(fā)明的一種適用于鐘表零件的透明耐磨膜的制備方法的四個實施例：

實施例1

采用高真空條件下的五氧化二鈮和二氧化鋯復合鍍透明膜技術(shù)：鍍膜標靶材料為五氧化二鈮和二氧化鋯復合材料，其中五氧化二鈮的含量(重量百分比，下同)為85％-95％；二氧化鋯的含量為5％-15％；采用中頻恒壓鍍膜電源，電壓400V，頻率5KHz-15KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為200℃-300℃；鍍膜時間為10-30分鐘。

實施例2

采用高真空條件下的五氧化二鈮和二氧化鋯復合鍍透明膜技術(shù)：在滲層上直接施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜，標靶材料中五氧化二鈮的含量為85％；二氧化鋯的含量為15％；鍍膜電壓400V，頻率15KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為300℃；鍍膜時間為30分鐘，可形成厚度達2微米左右的透明膜層。

實施例3

采用高真空條件下的五氧化二鈮和二氧化鋯復合鍍透明膜技術(shù)：在玫瑰金鍍(膜)層上施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜，標靶材料中五氧化二鈮的含量為95％；二氧化鋯的含量為5％；鍍膜電壓400V，頻率5KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度為200℃；鍍膜時間10分鐘，可形成厚度達0.5微米左右的透明膜層。

實施例4

采用高真空條件下的五氧化二鈮和二氧化鋯復合鍍透明膜技術(shù)：在除玫瑰金外的其它鍍(膜)層上施加五氧化二鈮和二氧化鋯透明復合膜，標靶材料中五氧化二鈮的含量為90％；二氧化鋯的含量為10％；鍍膜電壓400V，頻率10KHz，電源正極接工件，負極接標靶材料；以氬氣作為保護氣體并用來調(diào)節(jié)爐內(nèi)真空度，爐內(nèi)真空度為5.0-6.0×10-3Pa；溫度250℃；鍍膜時間20分鐘，可形成厚度達1微米左右的透明膜層。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。