本發(fā)明涉及真空冶金技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種RH真空精煉爐真空室。
背景技術(shù):
真空精煉爐的真空室內(nèi)砌筑有耐材,需定期維護(hù)更新。考慮到真空室耐材的經(jīng)濟(jì)性、維護(hù)周期、砌筑時(shí)工作環(huán)境等因素,現(xiàn)有真空精煉爐(尤其200t以下的爐子)基本上采用分段式真空室。由于分段式真空室在對(duì)接法蘭處采用強(qiáng)制水冷,可能存在局部冷點(diǎn)造成粘渣,因此也有部分鋼廠偏愛用整體式真空室。不管采用整體還是分體式真空室,新上真空精煉爐通常在線下布置單獨(dú)的真空室維修區(qū)。在維修區(qū)設(shè)置有維修平臺(tái),維修平臺(tái)上設(shè)置有與真空室相配合的開孔,因考慮到吊運(yùn)的安全距離,平臺(tái)開孔必須比真空室大。當(dāng)真空室不在維修位時(shí),平臺(tái)開孔處需設(shè)置欄桿以確保安全;當(dāng)真空室吊運(yùn)至維修位進(jìn)行維修時(shí),平臺(tái)欄桿會(huì)影響真空室的存放和維修操作,此時(shí)則需去掉欄桿,當(dāng)欄桿去掉以后,真空室與平臺(tái)之間存在間隙。
因此,一方面,由于平臺(tái)與真空室之間的存在間隙,維修作業(yè)時(shí)仍存在安全作業(yè)隱患。另一方面,維修位的欄桿需根據(jù)維修的需要,進(jìn)行重復(fù)性的拆裝,因而需要經(jīng)常性搬運(yùn)鋼制的活動(dòng)欄桿,增加了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度;而且由于搬運(yùn)活動(dòng)欄桿費(fèi)事,活動(dòng)欄桿經(jīng)常成為擺設(shè),被扔到一邊,這樣實(shí)際上造成了維修位在沒有真空室時(shí),平臺(tái)開孔周邊沒有欄桿,造成安全隱患。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的主要目的在于提供一種RH真空精煉爐真空室,旨在消除真空室維修作業(yè)時(shí)的安全隱患。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種RH真空精煉爐真空室,包括真空室筒體以及設(shè)置于真空室筒體上的耳軸、耳軸座、支腿和合金溜槽,還包括固定于所述真空室筒體上的用于供維修人員站立的固定平臺(tái)以及與所述固定平臺(tái)連接的用于防護(hù)的欄桿,其中,
所述欄桿上開設(shè)有用于與維修平臺(tái)對(duì)接的開口,該開口上安裝有與欄桿活動(dòng)連接的活動(dòng)門,所述活動(dòng)門開合時(shí)將所述開口打開或關(guān)閉。
優(yōu)選地,所述真空室筒體的外側(cè)壁除合金溜槽的正上方區(qū)域均設(shè)置有固定平臺(tái)。
優(yōu)選地,與耳軸的軸線平行的方向?yàn)閷挾确较颍c耳軸的軸線垂直的方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向,在寬度方向上,所述固定平臺(tái)和欄桿的外邊緣與真空室筒體外側(cè)壁之間距離均為200-250mm,在長(zhǎng)度方向上,所述固定平臺(tái)和欄桿的外邊緣與真空室筒體外側(cè)壁之間距離均為400-800mm。
優(yōu)選地,所述固定平臺(tái)包括由所述真空室筒體外側(cè)壁往外輻射的多根主梁、連接多根所述主梁的次梁、固定于所述主梁和次梁形成的框架上的平臺(tái)板,所述欄桿焊接于所述次梁上。
優(yōu)選地,所述主梁與真空室筒體通過焊接連接,所述次梁與主梁通過焊接連接。
優(yōu)選地,所述欄桿的最頂端低于真空室筒體的最頂端。
優(yōu)選地,所述欄桿高度為1.0-1.2m。
本發(fā)明提出的RH真空精煉爐真空室,具有以下有益效果:
1、通過設(shè)置帶固定平臺(tái)的真空室,維修時(shí)可在固定平臺(tái)上進(jìn)行作業(yè),消除了現(xiàn)有技術(shù)中真空室與維修平臺(tái)間的間隙,從而有效保障了真空室維修時(shí)的安全問題;
2、通過設(shè)置帶固定平臺(tái)的真空室,避免了維修平臺(tái)上活動(dòng)欄桿的搬運(yùn),有效地減輕了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,而且也徹底避免在實(shí)際操作過程中由于不裝欄桿,可能帶來的安全隱患;
3、整體式真空室和分體式真空室均可設(shè)置固定平臺(tái),其使用范圍廣。
附圖說明
圖1為本發(fā)明RH真空精煉爐真空室優(yōu)選實(shí)施例的俯視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明RH真空精煉爐真空室為分體式真空室時(shí)的主視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明RH真空精煉爐真空室為整體式真空室時(shí)的主視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中,1-真空室筒體,2-欄桿,3-支腿,4-合金溜槽,5-耳軸,6-固定平臺(tái)。
本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例,參照附圖做進(jìn)一步說明。
具體實(shí)施方式
應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
需要說明的是,在本發(fā)明的描述中,術(shù)語“橫向”、“縱向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述,并不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
參照?qǐng)D1至圖3(圖2和圖3中省略了部分固定平臺(tái)和欄桿的結(jié)構(gòu)),本優(yōu)選實(shí)施例中,一種RH真空精煉爐真空室,包括真空室筒體1以及設(shè)置于真空室筒體1上的耳軸5、耳軸5座、支腿3和合金溜槽4(耳軸5、耳軸5座、支腿3和合金溜槽4從上至下焊接于真空室筒體1上),本RH真空精煉爐真空室還包括固定于真空室筒體1上的用于供維修人員站立的固定平臺(tái)6以及與固定平臺(tái)6連接的用于防護(hù)的欄桿2,其中,
欄桿2上開設(shè)有用于與維修平臺(tái)對(duì)接的開口,該開口上安裝有與欄桿2活動(dòng)連接的活動(dòng)門,活動(dòng)門開合時(shí)將開口打開或關(guān)閉。
進(jìn)一步地,真空室筒體1的外側(cè)壁除合金溜槽4的正上方區(qū)域均設(shè)置有固定平臺(tái)6?,F(xiàn)有真空室由于設(shè)置有合金溜槽4,不可避免地存在偏載。根據(jù)具體情況的不同,真空室在吊運(yùn)過程中,存在不同程度的傾斜。因此,在真空室進(jìn)行起落的吊運(yùn)作業(yè)時(shí),這種傾斜和真空室定位精度相矛盾。如果直接增加配重來改善這種偏載,又會(huì)增加系統(tǒng)能耗,相比之下不劃算。本實(shí)施例中,真空室筒體1的外側(cè)壁除合金溜槽4的正上方區(qū)域均設(shè)置有固定平臺(tái)6,可有效改善了真空室合金溜槽4帶來的偏載,減小真空室吊運(yùn)空間,并改善了起吊作業(yè)難度和設(shè)備安全,同時(shí)降低了制作成本。
具體地,與耳軸5的軸線平行的方向?yàn)閷挾确较颍磮D1中X方向),與耳軸5的軸線垂直的方向?yàn)殚L(zhǎng)度方向(即圖1中Y方向),在寬度方向上,固定平臺(tái)6和欄桿2的外邊緣與真空室筒體1外側(cè)壁之間距離均為200-250mm,在長(zhǎng)度方向上,固定平臺(tái)6和欄桿2的外邊緣與真空室筒體1外側(cè)壁之間距離均為400-800mm。
將固定平臺(tái)6和欄桿2的外邊緣與真空室筒體1外側(cè)壁之間距離設(shè)置為200-250mm,從而防止在調(diào)運(yùn)真空室筒體1時(shí)調(diào)運(yùn)耳軸5過程中固定平臺(tái)6和欄桿2對(duì)其產(chǎn)生干涉。
具體地,本實(shí)施例中,固定平臺(tái)6包括由真空室筒體1外側(cè)壁往外輻射的多根主梁、連接多根主梁的次梁、固定于主梁和次梁形成的框架上的平臺(tái)板,欄桿2焊接于次梁上。主梁與真空室筒體1通過焊接連接,次梁與主梁通過焊接連接。本實(shí)施例中,次梁為一缺口的長(zhǎng)方形框結(jié)構(gòu),主梁為一字形結(jié)構(gòu)。
欄桿2的最頂端低于真空室筒體1的最頂端。欄桿2高度為1.0-1.2m。欄桿2可通過多根鋼管焊接而成。
本實(shí)施例提出的RH真空精煉爐真空室,具有以下有益效果:
1、通過設(shè)置帶固定平臺(tái)6的真空室,維修時(shí)可在固定平臺(tái)6上進(jìn)行作業(yè),消除了現(xiàn)有技術(shù)中真空室與維修平臺(tái)間的間隙,從而有效保障了真空室維修時(shí)的安全問題;
2、通過設(shè)置帶固定平臺(tái)6的真空室,避免了維修平臺(tái)上活動(dòng)欄桿2的搬運(yùn),有效地減輕了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,而且也徹底避免在實(shí)際操作過程中由于不裝欄桿2,可能帶來的安全隱患;
3、整體式真空室和分體式真空室均可設(shè)置固定平臺(tái)6,其使用范圍廣。
以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。