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一種用于金屬基板拋光后的清洗液及其使用方法與流程

文檔序號:12817533閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明提供了一種用于金屬化學機械拋光后的清洗液,包含至少一種有機酸,有機磷酸類化合物,一種陰離子表面活性劑以及一種非離子表面活性劑。該清洗液可用于清洗含有金屬的晶片拋光后的表面??蓪伖夂髿埩粼诰砻娴难心ヮw粒及金屬離子、金屬腐蝕抑制劑等有機物去除,改善清洗后晶圓表面的親水性,降低表面缺陷。

技術研發(fā)人員:張建;荊建芬;楊俊雅;蔡鑫元;宋凱
受保護的技術使用者:安集微電子科技(上海)有限公司
技術研發(fā)日:2015.12.31
技術公布日:2017.07.07
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