一種研磨墊清潔裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種研磨墊清潔裝置，所述裝置至少包括：至少兩個研磨盤；每個研磨盤的背面均設(shè)有一端固定于該研磨盤的軸；所述軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)共同連接于一手臂的一端；所述每個研磨盤正面分別具有不同的粗糙度。本實用新型的所述研磨墊清潔裝置對研磨后的研磨墊采用具有不同切削率的研磨盤進(jìn)行清洗，對不同切削率的研磨盤適時地進(jìn)行切換使用，改變了現(xiàn)有技術(shù)中在一個研磨盤使用壽命結(jié)束后對其進(jìn)行更換的方式，因此，本實用新型的研磨墊清潔裝置對研磨墊進(jìn)行了及時的修復(fù)，避免了因研磨盤使用壽命的限制而給研磨墊帶來的清洗不良并導(dǎo)致的晶圓損壞，提高了產(chǎn)品的良率。
【專利說明】一種研磨墊清潔裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種半導(dǎo)體制程設(shè)備，特別是涉及一種研磨墊清潔裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制程工藝中，化學(xué)機械研磨工藝使得在不同的材料上包括半導(dǎo)體晶圓、玻璃、硬盤基底、藍(lán)寶石晶圓以及窗口、塑料產(chǎn)生平整的表面。典型地，化學(xué)機械研磨工藝包括使用一種聚合物研磨墊以及包含松散的磨料顆粒以及其他化學(xué)添加劑的一種漿料通過化學(xué)作用和機械作用二者來去除材料從而達(dá)到設(shè)計的尺寸、幾何形狀以及表面特征，例如平面度、表面粗糙度等。
[0003]在一個典型的化學(xué)機械研磨工藝期間，當(dāng)使用研磨頭將需要研磨的晶圓壓在研磨墊上研磨時，由于研磨墊的表面以及溝槽中具有研磨所用的研磨液，這就使得在化學(xué)機械研磨后的研磨墊溝槽中填滿了剩余的殘留物。如果該研磨墊不經(jīng)處理，在下次的研磨過程中，這些殘留物很可能劃傷晶圓并導(dǎo)致晶圓缺陷，同時由于這些殘留物將所述研磨墊的溝槽填平，使得再次研磨的研磨液不能很好的進(jìn)入研磨墊的溝槽中而降低研磨的效果，以上幾方面的原因?qū)?dǎo)致晶圓失效或報廢。
[0004]因此在前次的研磨后有必要使用一種裝置來有效清除前次研磨后的研磨墊表面及其溝槽中的殘留物。而這種清潔裝置在現(xiàn)行工藝中一般為一種表面具有若干金剛石的研磨盤，亦稱為金剛石清潔盤，如圖1所示，表示的是研磨結(jié)束后，對研磨臺11上的研磨墊10進(jìn)行清洗的過程，該過程中，研磨盤12置于所述研磨墊10上表面并且來回移動將所述研磨墊上表面溝槽101中的殘留物清除。
[0005]圖2表不的是表面分布有若干金剛石顆粒121的研磨盤12的俯視圖,所述研磨盤的中央有用于該金剛石清潔盤旋轉(zhuǎn)用的旋轉(zhuǎn)軸13。當(dāng)對所述研磨墊進(jìn)行清潔時，所述研磨盤12壓緊在研磨墊的表面并在旋轉(zhuǎn)軸12的帶動下旋轉(zhuǎn)來不斷地清除所述研磨墊的表面以及溝槽中的殘留物。
[0006]由于現(xiàn)有技術(shù)中的研磨墊清潔裝置中僅使用一個研磨盤先后對所述研磨墊進(jìn)行清洗，直至該研磨盤的使用壽命結(jié)束為止，再更換新的研磨盤，一個新的研磨盤表面的金剛石顆粒其棱角鋒利，該研磨盤對所述研磨墊來說具有良好的切削率；所述切削率指的是該研磨盤單位時間內(nèi)對所述研磨墊表面的殘留物清洗的厚度；當(dāng)一個新的研磨盤使用一段時間后，所述切削率在一定時間范圍內(nèi)維持穩(wěn)定；隨著金剛石顆粒被逐漸的磨損，所述研磨盤的切削鋁會逐漸下降，直至達(dá)到該研磨盤的使用壽命再重新更換新的研磨盤。而現(xiàn)有技術(shù)中的研磨盤在進(jìn)行研磨墊的清洗過程中一般不會更換，直到該研磨盤的壽命結(jié)束為止，現(xiàn)有技術(shù)中的研磨墊隨著使用時間的延長，其切削率不斷下降，使得所述研磨墊表面及溝槽中的殘留物不能被完全清洗，從而容易導(dǎo)致晶圓在研磨過程中的劃傷乃至報廢，對產(chǎn)品的良率有很大的影響。
[0007]因此，本實用新型有必要提出一種新的研磨墊清潔裝置來減少現(xiàn)有技術(shù)中由于研磨盤切削率的影響使得晶圓產(chǎn)生報廢的現(xiàn)象。實用新型內(nèi)容
[0008]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種研磨墊清潔裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于研磨盤切削率的下降使得研磨墊表面及其溝槽中的殘留物不能清洗徹底導(dǎo)致的晶圓缺陷乃至報廢的問題。
[0009]為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種研磨墊清潔裝置，其特征在于，所述裝置至少包括:
[0010]至少兩個研磨盤；每個研磨盤的背面均設(shè)有一端固定于該研磨盤的軸；所述軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)共同連接于一手臂的一端；所述每個研磨盤正面分別具有不同的粗糙度。
[0011]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述裝置還包括固定所述手臂另一端的支架和接觸于所述研磨盤正面的研磨墊；所述研磨墊表面均勻分布有凹槽。
[0012]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述每個研磨盤的形狀為圓形，其正面分別設(shè)有若干均勻分布的金剛石顆粒；所述每個研磨盤對所述研磨墊具有不同的切削率。
[0013]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，固定于所述研磨盤背面的軸與該研磨盤表面垂直；所述樞紐結(jié)構(gòu)設(shè)有使每個軸和所述手臂以所述軸和手臂的連接點為中心、在任意方向發(fā)生轉(zhuǎn)動和使所述每個軸與手臂之間相對固定的鎖。
[0014]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述研磨盤有兩個，該兩個所述研磨盤與所述手臂彼此相對固定；其中一個研磨盤表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。
[0015]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述研磨盤有三個，該三個研磨盤相對固定且研磨盤平面彼此互成60度夾角；并且該三個研磨盤與所述手臂相對固定；其中一個研磨盤的表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。
[0016]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述研磨盤有五個，該五個研磨盤與所述手臂彼此相對固定，該五個研磨盤圍成一個具有開口的正方體，處于與所述開口相對的正方體底面位置的研磨盤其表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。
[0017]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，所述研磨墊清潔裝置還包括驅(qū)動所述每個研磨盤工作的馬達(dá)和用于采集每一研磨盤使用壽命的控制器；所述控制器連接于所述馬達(dá)。
[0018]如上所述，本實用新型的研磨墊清潔裝置，具有以下有益效果:在使用本實用新型的所述研磨盤對研磨后的研磨墊進(jìn)行清洗的過程中，可以根據(jù)研磨盤切削率的情況適時地更換新的研磨盤從而保證能有效地將研磨墊表面的殘留物清除徹底，從而不至于使得晶圓在研磨過程中被劃傷而產(chǎn)生報廢，提高產(chǎn)品生產(chǎn)的良率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的研磨墊清潔裝置示意圖。
[0020]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的研磨盤表面金剛石顆粒分布的示意圖。
[0021]圖3本實用新型的研磨墊清潔裝置中包含有三個研磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖4本實用新型的研磨墊清潔裝置中包含有五個研磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]元件標(biāo)號說明
[0024]10、25 研磨墊
[0025]101溝槽
[0026]11研磨臺
[0027]12,20 研磨盤
[0028]121金剛石顆粒
[0029]13旋轉(zhuǎn)軸
[0030]21軸
[0031]22手臂
[0032]23樞紐結(jié)構(gòu)
[0033]24支架

【具體實施方式】
[0034]以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型還可以通過另外不同的【具體實施方式】加以實施或應(yīng)用，本說明書中的各項細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點與應(yīng)用，在沒有背離本實用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0035]請參閱圖3至圖4。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實用新型的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本實用新型中有關(guān)的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0036]如圖所示，本實用新型提供一種研磨墊清潔裝置，本實用新型的所述研磨墊清潔裝置至少包括:至少兩個研磨盤；如圖3所示的研磨墊清潔裝置,包含三個研磨盤；而圖4所示的研磨墊清潔裝置包含5個研磨盤。本實用新型的所述每個研磨盤均設(shè)有一端固定于該研磨盤的軸，如圖3和圖4所示的軸21，連接于每個研磨盤的背面。本實用新型的所述研磨墊清潔裝置中，所述軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)共同連接于一手臂的一端，如圖3和圖4所示，所述軸21的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)23 —起連接在一手臂22的一端。本實用新型的所述每個研磨盤的正面分別具有不同的粗糙度，也就是說，每個研磨盤正面設(shè)有若干金剛石顆粒，所述不同研磨盤表面的金剛石顆粒的棱角鋒利程度不同，從而使得每個研磨盤具有不同的切削率，所述切削率指的是單位時間內(nèi)用該研磨盤清除研磨墊表面的殘留物的厚度。棱角越鋒利的金剛石顆粒對研磨盤的切削率貢獻(xiàn)也越大。因此，所述研磨盤的粗糙度亦指該研磨盤的切效率。
[0037]實施例一
[0038]本實施例的所述研磨墊清潔裝置如圖3所示，該裝置至少包括:三個研磨盤20，該三個研磨盤的背面分別設(shè)有軸21，優(yōu)選地，本實施例中所述研磨盤的形狀為圓形，所述三個軸21的一端分別固定于三個所述研磨盤的背面的中心位置。優(yōu)選地，所述研磨盤的表面垂直于與其固定的軸；如圖3所示，本實施例中，所述三個軸中的每個軸21的另一端與一手臂22連接，也就是說，所述每個軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)23共同連接于一手臂22的一端；優(yōu)選地，本實施例中，所述樞紐結(jié)構(gòu)23設(shè)有使每個軸21和所述手臂22以所述軸21和手臂的連接點為中心、在任意方向發(fā)生轉(zhuǎn)動和使所述每個軸與手臂之間相對固定的鎖。也就是說，所述三個軸21與所述手臂22之間通過一樞紐結(jié)構(gòu)23連接，并且，所述每個軸與所述手臂繞其連接端可以發(fā)生任意的不同方向的轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動的中心為所述每個軸和手臂的連接點，即所述軸和所述手臂都可以以該連接點為中心發(fā)生任意方向的轉(zhuǎn)動；當(dāng)所述手臂和所述每個軸之間的位置需要固定時，該裝置的所述樞紐結(jié)構(gòu)還設(shè)有使得所述每個軸以及所述手臂彼此相對固定的鎖；通過所述鎖的作用，所述三個軸中的任意一個或幾個軸都可以彼此相對固定，并且所述手臂也可以通過所述鎖的作用與所述軸之間的位置相對固定；所述鎖具有打開和關(guān)閉的功能，當(dāng)所述鎖關(guān)閉時，所述三個軸與手臂的位置相對固定；當(dāng)所述鎖打開時，所述軸和所述手臂可以繞著所述連接點發(fā)生轉(zhuǎn)動。
[0039]本實施例中的所述研磨墊清潔裝置中的所述三個研磨盤的正面分別具有不同的粗糙度，即該三個研磨盤的正面設(shè)有均勻分布的金剛石顆粒；所述三個研磨盤表面的金剛石顆粒的棱角鋒利程度不同，棱角越鋒利的金剛石顆粒分布在研磨盤的表面，該研磨盤的切削率越高。因此，該三個研磨盤分別具有不同的切削率，亦該三個研磨盤正面分別具有不同的粗糙度。
[0040]如圖3所示，本實施例中的所述裝置還包括固定所述手臂22所述另一端的支架24和接觸于所述研磨盤正面的研磨墊25 ;所述研磨墊表面均勻分布有凹槽，所述凹槽用來分布研磨晶圓的研磨液。
[0041]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，如圖3所示，所述三個研磨盤21通過所述樞紐結(jié)構(gòu)相對固定時，每個研磨盤平面彼此互成60度夾角；并且該三個研磨盤與所述手臂22相對固定；其中一個研磨盤21的表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊25并用于清除所述研磨墊表面凹槽中的研磨副產(chǎn)物。所述研磨副產(chǎn)物來自于晶圓的研磨過程中的研磨殘留物。
[0042]優(yōu)選地,本實施例中的所述研磨墊清潔裝置還包括驅(qū)動所述三個研磨盤工作的馬達(dá)和用于采集每個研磨盤使用壽命的控制器；所述控制器與所述馬達(dá)連接。同時所述馬達(dá)通過所述控制器控制所述每個研磨盤在研磨墊上的轉(zhuǎn)動。
[0043]本實施例的研磨墊清潔裝置的工作原理如下:當(dāng)所述晶圓在所述研磨墊上研磨結(jié)束后，如圖3所示的由三個研磨盤組成的用于研磨墊清潔裝置會開始工作用于清除研磨墊上研磨副產(chǎn)物。
[0044]首先，由于所述三個研磨盤具有不同的切削率，因此，根據(jù)需要清潔的研磨墊來選擇不同切削率的研磨盤，打開設(shè)有所述樞紐結(jié)構(gòu)上的鎖將需要用的研磨盤轉(zhuǎn)動至所述研磨墊的上表面，其他兩個研磨盤分別固定在所述需要用的該研磨盤的兩側(cè)，將三個研磨盤的位置調(diào)節(jié)成如圖3所示的彼此平面互成60度的位置，同時所述手臂與所需要用的研磨盤背面的軸在一條直線上，然后關(guān)閉所述鎖將所述三個研磨盤與所述手臂的位置固定。
[0045]然后，啟動所述馬達(dá)，通過與所述馬達(dá)連接的控制器來控制處于研磨墊上表面的所述研磨盤運轉(zhuǎn)，而其他兩個研磨盤不發(fā)生轉(zhuǎn)動。
[0046]當(dāng)該實施例中處于所述研磨墊上表面的所述研磨盤使用一段時間后，其切削率會下降，清潔效果也會下降，因此，在再次使用時，將該裝置中的另外兩個研磨盤的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，即該三個研磨盤可換著使用，優(yōu)選地，當(dāng)該三個研磨盤的切削率都下降至達(dá)到其自身的使用壽命時，在以后的使用過程中可以將不能使用的研磨盤拆卸進(jìn)行更換，將新的研磨盤或切削率高的研磨盤安裝在該裝置中進(jìn)行再次使用。
[0047]實施例二
[0048]本實施例的所述研磨墊清潔裝置如圖4所示，該裝置至少包括:五個研磨盤20，該五個個研磨盤的背面分別設(shè)有軸21，優(yōu)選地，本實施例中所述研磨盤的形狀為圓形，所述五個軸21的一端分別固定于五個所述研磨盤的背面的中心位置。優(yōu)選地，所述研磨盤的表面垂直于與其固定的軸；如圖4所示，本實施例中，所述五個軸中的每個軸21的另一端與一手臂22連接，也就是說，所述每個軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)23共同連接于一手臂22的一端；優(yōu)選地，本實施例中，所述樞紐結(jié)構(gòu)23設(shè)有使每個軸21和所述手臂22以所述軸21和手臂的連接點為中心、在任意方向發(fā)生轉(zhuǎn)動和使所述每個軸與手臂之間相對固定的鎖。也就是說，所述三個軸21與所述手臂22之間通過一樞紐結(jié)構(gòu)23連接，并且，所述每個軸與所述手臂繞其連接端可以發(fā)生任意的不同方向的轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動的中心為所述每個軸和手臂的連接點，即所述軸和所述手臂都可以以該連接點為中心發(fā)生任意方向的轉(zhuǎn)動；當(dāng)所述手臂和所述每個軸之間的位置需要固定時，該裝置的所述樞紐結(jié)構(gòu)還設(shè)有使得所述每個軸以及所述手臂彼此相對固定的鎖；通過所述鎖的作用，所述五個軸中的任意一個或幾個軸都可以彼此相對固定，并且所述手臂也可以通過所述鎖的作用與所述軸之間的位置相對固定；所述鎖具有打開和關(guān)閉的功能，當(dāng)所述鎖關(guān)閉時，所述五個軸與手臂的位置相對固定；當(dāng)所述鎖打開時，所述軸和所述手臂可以繞著所述連接點發(fā)生轉(zhuǎn)動。
[0049]本實施例中的所述研磨墊清潔裝置中的所述五個研磨盤的正面分別具有不同的粗糙度，即該五個研磨盤的正面設(shè)有均勻分布的金剛石顆粒；所述五個研磨盤表面的金剛石顆粒的棱角鋒利程度不同，棱角越鋒利的金剛石顆粒分布在研磨盤的表面，該研磨盤的切削率越高。因此，該五個研磨盤分別具有不同的切削率，亦該五個研磨盤正面分別具有不同的粗糙度。
[0050]如圖4所示，本實施例中的所述裝置還包括固定所述手臂22所述另一端的支架24和接觸于所述研磨盤正面的研磨墊25 ;所述研磨墊表面均勻分布有凹槽，所述凹槽用來分布研磨晶圓的研磨液。
[0051]作為本實用新型的研磨墊清潔裝置的一種優(yōu)選方案，如圖4所示，所述五個研磨盤21通過所述樞紐結(jié)構(gòu)相對固定時，該五個研磨盤圍成一個具有開口的正方體，處于與所述開口相對的正方體底面位置的研磨盤其表面與所述手臂垂直，位于所述正方體底面位置的該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物，所述研磨副產(chǎn)物來自于晶圓的研磨過程中的研磨殘留物。
[0052]優(yōu)選地，本實施例中的所述研磨墊清潔裝置還包括驅(qū)動所述五個研磨盤工作的馬達(dá)和用于采集每個研磨盤使用壽命的控制器；所述控制器與所述馬達(dá)連接。同時所述馬達(dá)通過所述控制器控制所述每個研磨盤在研磨墊上的轉(zhuǎn)動。
[0053]本實施例的研磨墊清潔裝置的工作原理如下:當(dāng)所述晶圓在所述研磨墊上研磨結(jié)束后，如圖4所示的由五個研磨盤組成的用于研磨墊清潔裝置會開始工作用于清除研磨墊上研磨副產(chǎn)物。
[0054]首先，由于所述五個研磨盤具有不同的切削率，因此，根據(jù)需要清潔的研磨墊來選擇不同切削率的研磨盤，打開設(shè)有所述樞紐結(jié)構(gòu)上的鎖將需要用的研磨盤轉(zhuǎn)動至所述研磨墊的上表面，其他四個研磨盤分別固定組成如圖4所示的正方體的四個面，同時所述手臂與所需要用的研磨盤背面的軸在一條直線上，然后關(guān)閉所述鎖將所述五個研磨盤與所述手臂的位置固定。
[0055]然后，啟動所述馬達(dá)，通過與所述馬達(dá)連接的控制器來控制處于研磨墊上表面的所述研磨盤運轉(zhuǎn)，而其他四個研磨盤不發(fā)生轉(zhuǎn)動。
[0056]當(dāng)該實施例中處于所述研磨墊上表面的所述研磨盤使用一段時間后，其切削率會下降，清潔效果也會下降，因此，在再次使用時，將該裝置中的另外四個研磨盤的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，即該五個研磨盤可換著使用，優(yōu)選地，當(dāng)該五個研磨盤的切削率都下降至達(dá)到其自身的使用壽命時，在以后的使用過程中可以將不能使用的研磨盤拆卸進(jìn)行更換，將新的研磨盤或切削率高的研磨盤安裝在該裝置中進(jìn)行再次使用。
[0057]本實用新型的所述研磨墊清潔裝置還可以是設(shè)有兩個研磨盤的裝置，并且優(yōu)選地，當(dāng)所述裝置開始工作時，該兩個所述研磨盤與所述手臂彼此相對固定；其中一個研磨盤表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。而另一個研磨盤的位置隨意擺放，只要不碰觸與所述研磨墊接觸的所述研磨盤即可，其工作原理與實施例一和實施例二中的清潔裝置相同。
[0058]綜上所述，使用本實用新型的所述研磨墊清潔裝置對研磨后的研磨墊進(jìn)行清洗的過程中，可以根據(jù)研磨盤切削率的情況適時地更換新的研磨盤從而保證能有效地將研磨墊表面的殘留物清除徹底，從而不至于使得晶圓在研磨過程中被劃傷而產(chǎn)生報廢，提高產(chǎn)品生產(chǎn)的良率。所以，本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。
[0059]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種研磨墊清潔裝置，其特征在于，所述裝置至少包括: 至少兩個研磨盤；每個研磨盤的背面均設(shè)有一端固定于該研磨盤的軸；所述軸的另一端通過一樞紐結(jié)構(gòu)共同連接于一手臂的一端；所述每個研磨盤正面分別具有不同的粗糙度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述裝置還包括固定所述手臂另一端的支架和接觸于所述研磨盤正面的研磨墊；所述研磨墊表面均勻分布有凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述每個研磨盤的形狀為圓形，其正面分別設(shè)有若干均勻分布的金剛石顆粒；所述每個研磨盤對所述研磨墊具有不同的切削率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:固定于所述研磨盤背面的軸與該研磨盤表面垂直；所述樞紐結(jié)構(gòu)設(shè)有使每個軸和所述手臂以所述軸和手臂的連接點為中心、在任意方向發(fā)生轉(zhuǎn)動和使所述每個軸與手臂之間相對固定的鎖。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述研磨盤有兩個，該兩個所述研磨盤與所述手臂彼此相對固定；其中一個研磨盤表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述研磨盤有三個，該三個研磨盤相對固定且研磨盤平面彼此互成60度夾角；并且該三個研磨盤與所述手臂相對固定；其中一個研磨盤的表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面的研磨副產(chǎn)物。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述研磨盤有五個，該五個研磨盤與所述手臂彼此相對固定，該五個研磨盤圍成一個具有開口的正方體，處于與所述開口相對的正方體底面位置的研磨盤其表面與所述手臂垂直，該研磨盤接觸于所述研磨墊并用于清除所述研磨墊表面研磨副產(chǎn)物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊清潔裝置，其特征在于:所述研磨墊清潔裝置還包括驅(qū)動所述每個研磨盤工作的馬達(dá)和用于采集每一研磨盤使用壽命的控制器；所述控制器連接于所述馬達(dá)。
【文檔編號】B24B53/007GK203973387SQ201420390677
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年7月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月15日
【發(fā)明者】魏紅建 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司